Photochemical behavior and formation of surface relief grating on self-assembled polyion/dye composite film

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 104, Issue 45, 2000, Pages 10513-10521

  He, Jin An ^a   Bian, Shaoping ^b   Li, Lian ^a   Kumar, Jayant ^a   Tripathy, Sukant K ^a   Samuelson, Lynne A ^b  

^a UNIVERSITY OF MASSACHUSETTS LOWELL   (United States)

^b DEVELOPMENT AND ENGINEERING CENTER   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHROMOPHORES; DIFFRACTION GRATINGS; ELECTRODEPOSITION; ELECTROSTATICS; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; ISOMERIZATION; PHOTOCHEMICAL REACTIONS; POLARIZATION; RAMAN SPECTROSCOPY;

PHOTOISOMERIZATION; POLYIONS; SURFACE RELIEF GRATINGS (SRG);

DYES;

EID: 0034319421     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp001715r     Document Type: Article

References (79)

1. (a) Decher, G.; Hong, J. D.; Schmitt, J. Thin Solid Films 1992, 210/211, 831.
2. (b) Ferreira, M.; Cheung, J. H.; Rubner, M. F. ibid. 1994, 244, 806.
3. Cheung, J. H.; Ferreira, M.; Rubner, M. F. Thin Solid Films 1994, 244, 985.
4. Decher, G. Science 1997, 277, 1232.
5. (e) Schienoff, J. B.; Ly, H.; Li, M. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 7626.
6. (a) Pendler, J. H. Chem. Mater. 1996, 8, 1616.
7. (b) He, J.-A.; Valluzzu, R.; Yang, K.; Dolukhanyan, T.; Sung, C. M.; Kumar, J.; Tripathy, S. K.; Samuelson, L.; Balogh, L.; Tomalia, D. A. Chem. Mater. 1999, 11, 1, 3268.
8. Cassagneau, T.; Mallouk, T. E.; Pendler, J. H. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 7848.
9. Kovtyukhova, N. I.; Ollivier, P. J.; Martin, B. R.; Mallouk, T. E.; Chizhik, S. A.; Buzaneva, E. V.; Gorchinskiy, A. D. Chem. . Mater. 1999, 11, 771.
10. (e) He, J.-A.; Yang, K.; Kumar, J.; Tripathy, S. K.; Samuelson, L. A.; et al. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 11050.
11. (f) Wu, A.; Yoo, D.; Lee, J.-K.; Rubner, M. F. J. Am. Chem. . Soc. 1999, 121, 4883.
12. (g) Cheung, J. H.; Stockton, W. B.; Rubner, M. F. Macromolecules 1997, 30, 2712.
13. (h) Cassagneau, T.; Pendler, J. H. J. Phys. Chem. . B 1999, 103, 1789.
14. Li, D. Q.; Lutt, M.; Fitzsimmons, M. R.; Synowicki, R.; Hawley, M. E.; Brown, G. W. J Am. Chem. Soc. 1998, 120, 8797.
15. (j) Lvov, Y.; Ariga, K.; Onda, M.; Ichinose, I.; Kunitake, T. Langmuir 1997, 13, 6195.
16. (a) Lvov, Y.; Ariga, K.; Ichinose, I.; Kunitake, T. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 6117.
17. (b) Caruso, F.; Mohwald, H. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 6039.
18. He, J.-A.; Samuelson, L.; Li, L.; Kumar, J.; Tripathy, S. K. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 7067.
19. He, J.-A.; Samuelson, L.; Li, L.; Kumar, J.; Tripathy, S. K. Langmuir 1998, 14, 1674.
20. (e) Caruso, F.; Niikura, K.; Furlong, D. N.; Okahata, Y. Langmuir 1997, 13, 3427.
21. (f) Lvov, Y.; Haas, H.; Decher, G.; Mohwald, H. Langmuir 1994, 10, 4232.
22. (g) Lvov, Y.; Decher, G.; Sukhorukov, G. Macromolecules 1993, 26, 5396.
23. (h) Lvov, Y.; Lu, Z. Q.; Schenkman, J. B.; Zu, X. L.; Rusling, J. F. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 4073.
24. (a) Kaschak, D. M.; Lean, J. T.; Waraksa, C. C.; Saupe, G. B.; Usami, H.; Mallouk, T. E. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 3435.
25. (b) Kaschak, D. M.; Mallouk, T. E. J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 4222.
26. Keller, S. W.; Johnson, S. A.; Brigham, E. S.; Yonemoto, E. H.; Mallouk, T. E. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 12879.
27. (a) Caruso, F.; Caruso, R. A.; Mohwald, H. Science 1998, 282, 1111.
28. (b) Caruso, F.; Listenfeld, H.; Giersig, M.; Mohwald, H. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 8523.
29. (a) Ariga, K.; Lvov, Y.; Kunitake, T. J. Am. Cltem. Soc. 1997, 119, 2224.
30. (b) Linford, M. R.; Auch, M.; Mohwald, H. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 178.
31. Cooper, T. M.; Stone, M. O. Langmuir 1998, 14, 6662.
32. Cooper, T. M.; Campbell, A. L.; Crane, R. L. Langmuir 1995, 11, 2713.
33. (e) Okawa, H.; Li, L.; Kumar, J.; Tripathy, S. K.; Wada, T.; Sasabe, H. Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1994, 255, 159.
34. (a) Ikeda, T.; Tsutsumi, O. Science 1995, 263, 1873.
35. (b) Fujiwara, H.; Yonezawa, Y. Nature 1991, 351, 724.
36. Evans, S. D.; Johnson, S. R.; Ringsdorf, H.; Williams, L. M.; Wolf, H. Langmuir 1998, 14, 6436.
37. (a) Kim, D. Y.; Li, L.; Kumar, J.; Tripathy, S. K. Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 1166.
38. (b) Kim, D. Y.; Li, L.; Jiang, X. L.; Shivshankar, V.; Kumar, J.; Tripathy, S. K. Macromolecules 1995, 28, 8835.
39. Jiang, X. L.; Li, L.; Kim, D. Y.; Shivshankar, V.; Kumar, J.; Tripathy, S. K. Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 2618.
40. Jiang, X. L.; Li, L.; Kumar, J.; Kim, D. Y.; Tripathy, S. K. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 2502.
41. (e) Barrait, C. J.; Natansohn, A.; Rochon, P. J. Phys. Chem. 1996, 100, 8836.
42. (f) Ramanujam, P. S.; Holme, N. C. R.; Hilvsted, S. Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 1329.
43. Viswanathan, N. K.; Kim, D. Y.; Bian, S. P.; et al. J. Mater. Chem. 1999, 9, 1941.
44. (a) Mendonca, C. R.; Dhanabalan, A.; Balogh, D. T.; Misoguti, L.; Dos Santos, D. S.; Pereira-da-silva, M. A.; Giacometti, J. A.; Zilio, S. C.; Oliveira, O. N. Macromolecules 1999, 32, 1493.
45. (b) Blanc, D.; Pelissier, S.; Saravanamuttu, K.; Najafi, S. J.; Andrews, M. P. Adv. Mater. 1999, 11, 1508.
46. Darracq, B.; Chaput, F.; Lahlil, K.; Levy, Y.; Boilot, J.-P. Adv. Mater. 1998, 10, 1133.
47. (a) Kumar, J.; Li, L.; Jiang, X. L.; Kim, D. Y.; Lee, T. S.; Tripathy, S. K. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 2096.
48. (b) Viswanathan, N. K.; Balasubramanian, S.; Li, L.; Kumar, J.; Tripathy, S. K. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 6064.
49. Bian, S.; Li, L.; Kumar, J.; Kim, D. Y.; Williams, J.; Tripathy, S. K. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 1817.
50. Barratt, C. J.; Rochon, P.; Natansohn, A. J. Chem. Phys. 1998, 109, 1505.
51. (e) Pedersen, T. G.; Johansen, P. M.; Holme, N. C. R.; Ramanujam, P. S.; Hilvsted, S. Phys. Rev. Lett. 1998, 80, 89.
52. (f) Lefin, P.; Fiorini, C.; Nunzi, J. M. Pure Appl. Opt. 1998, 7, 71.
53. (a) Ho, M.; Barrait, C. J.; Patersen, J.; Esteghamatian, M.; Natansohn, A.; Rochon, P.; Macromolecules 1996, 29, 4613.
54. (b) Mandal, B.; Jeng, R.; Kumar, J.; Tripathy, S. K. Makromol. Chem., Rapid Commun. 1991, 12, 607.
55. Wang, X. G.; Chen. J.; Marturunkakul, S.; Li, L.; Kumar, J.; Tripathy, S. K. Chem. Mater. 1997, 9, 45.
56. Wang, X. G.; Li, L.; Chen, J.; Marturunkakul, S.; Kumar, J.; Tripathy, S. K. Macromolecules 1997, 30, 219.
57. (e) Sukwattanasinitt, M.; Wang, X. G.; Li, L.; Jiang, X. L.; Kumar, J.; Tripathy, S. K.; Sandman, D. J. Chem. Mater. 1998, 10, 27.
58. (f) Andruzzi, L.; Altomare, A.; Ciardelli, F.; et al. Macromolecules 1999, 32, 448.
59. (g) Rasmussen, P. H.; Ramanujam, P. S.; Hvilsted, S.; Berg, R. H. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 4738.
60. Lide, D. R.; Frederikse, H. P. R. CRC Handbook of Chemistry and Physics, 76th ed.; CRC Press: Boca Raton, FL, 1996; pp 8-17.
61. Fukumoto, H.; Yonezawa, Y. Thin Solid Films 1998, 327-329, 748.
62. (a) Yao, H.; Ono, S. S.; Kawabata, R.; et al. J. Ph\s. Chem. B 1999, 103, 4452.
63. (b) Ono, S. S.; Yao, H.; Matsuoka, O.; et al. J. Phys. Chem. B 1999, 103. 6909.
64. Kuzma, M. R.; Skarda, V.; Labes, M. M. J. Chem. Phys. 1984, 81, 2925.
65. (a) Biswas, N.; Umapathy, S. J. Phys. Chem. A 1997, 101, 5555.
66. (b) Armstrong, D. R.; Clarkson, J.; Smith, W. E. J. Phys. Chem. 1995, 99, 17825.
67. Han, S. W.; Kim.'C. H.; Hong, S. H.; et al. Langmuir 1999, 15, 1579.
68. Sato, T.; Ozaki, Y.; Iriyama, K. Langnniir 1994, 10, 2363.
69. (e) Sajid, J.; Elhaddaoui, A.; Turrell, S. J. Mol. Struct. 1997, 408/409, 181.
70. (f) Gregoriou, V. G.; Hapanowicz, R.; Clark, S. L.; Hammond, P. T. Appl. Spectrosc. 1997, 51, 470.
71. (g) Jones, T. P.; Porter, M. D. Appl. Spectrosc. 1989, 43, 908.
72. (h) Colthyp, N. B.; Daly, L. H.; Wiberley, S. E. Introduction to Infrared and Raman Spectroscopy, 3rd ed.; Academic Press: New York, 1990.
73. Wu, Y. Q.; Zhao, B.; Xu, W. Q.; et al. Langmuir 1999, 15, 1247.
74. Matsumoto, M.; Miyazaki, D.; Tanaka, M.; et al. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 1479.
75. Dante, S.; Advincula, R.; Frank, C. W.; Stroeve, P. Langmuir 1999, 15, 193.
76. (a) Kusukawa, T.; Fujita, M. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 1397.
77. (b) Riehl, D.; Chaput, F.; Roustamian, A.; Levy, Y.; Boilot, J. Nonlinear Optics 1994, 8, 141.
78. 2 scanning area. The results indicate that, for 20, 40, 80, 160, and 320 bilayers of PDAC/CR multilayers, the surface RMS roughness is 43, 78, 91, 190, and 262 A, respectively.
79. Viswanathan, N. K.; Balasubramanian, S.; Li, L.; Tripathy, S. K.; Kumar, J. Jpn. J. Appl. Phys. 1999, 38, 5928.