Generation and quenching of luminescence in n-type porous silicon/solution diodes: role of adsorbed hydrogen

Langmuir

Volumn 15, Issue 10, 1999, Pages 3666-3671

  Kelly, J J ^a   Kooij, E S ^a   Vanmaekelbergh, D ^a  

^a UTRECHT UNIVERSITY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRODES; ELECTROLUMINESCENCE; HYDROGEN PEROXIDE; LIGHT EMISSION; PHOTOLUMINESCENCE; POROUS SILICON; QUENCHING; REDUCTION; SULFUR COMPOUNDS;

CATHODIC REDUCTION; PEROXYDISULFATE; SOLUTION DIODES;

LIGHT EMITTING DIODES;

EID: 0032634745     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la981435r     Document Type: Article

References (43)

1. Canham, L. T. Appl. Phys. Lett. 1990, 57, 1046.
2. Cullis, A. G.; Canham, L. T. Nature 1991, 353, 335.
3. Koshida, N.; Koyama, H. Appl. Phys. Lett. 1992, 60, 347.
4. Kozlowski, F.; Sauter, M.; Steiner, P.; Richter, A.; Sandmaier, H.; Lang, W. Thin Solid Films 1992, 222, 196.
5. Bressers, P. M. M. C.; Knapen, J. W. J.; Meulenkamp, E. A.; Kelly, J. J. Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 108.
6. Canham, L. T.; Leong, W. Y.; Beale, M. I. J.; Cox, T. I.; Taylor, L. Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 2563.
7. Memming, R. J. Electrochem. Soc. 1969, 116, 785.
8. Bsiesy, A.; Muller, F.; Ligeon, M.; Gaspard, F.; Hérino, R.; Romestain, R.; Vial, J. C. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 3371.
9. Hory, M. A.; Bsiesy, A.; Herino, R.; Ligeon, M.; Muller, F.; Vial, J. C. Thin Solid Films 1996, 276, 130.
10. Meulenkamp, E. A.; Bressers, P. M. M. C.; Kelly, J. J. Appl. Surf. Sci. 1993, 64, 283.
11. Meulenkamp, E. A.; Peter, L. M.; Riley, D. J.; Wielgosz, R. I. J. Electroanal. Chem. 1995, 392, 97.
12. Peter, L. M.; Riley, D. J.; Wielgosz, R. I.; Snow, P. A.; Penty, R. V.; White, I. H.; Meulenkamp, E. A. Thin Solid Films 1999, 276, 123.
13. Bsiesy, A.; Vial, J. C.; Gaspard, F.; Hérino, R.; Ligeon, M.; Mihalcescu, I.; Muller, F.; Romestain, R.; J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 3071.
14. Bsiesy, A.; Muller, F.; Ligeon, M.; Gaspard, F.; Hérino, R.; Romestain, R.; Vial, J. C. Phys. Rev. Lett. 1993, 71, 637.
15. Ogasawara, K.; Momma, T.; Osaka, T. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 1874.
16. Kooij, E. S.; Noordhoek, S. M.; Kelly, J. J. J. Phys. Chem. 1996, 100, 10754.
17. 6,6,15 Current onset in refs 13 and 14 is at a potential more negative than that reported by other groups.
18. Van Buuren, T.; Tiedje, T.; Dahn, J. R.; Way, B. M. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 2911.
19. Kooij, E. S.; Butter, K.; Kelly, J. J. J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 1232.
20. Minks, B. P.; Oskam, G.; Vanmaekelbergh, D.; Kelly, J. J. J. Electroanal. Chem. 1989, 273, 119.
21. Kelly, J. J.; Minks, B. P.; Verhaegh, N. A. M.; Stumper, J.; Kelly, J. J. Electrochim. Acta 1992, 37, 909.
22. Cox, T. I. In Properties of Porous Silicon; EMIS Datareviews Series No. 18; Canham, L., Ed.; INSPEC: London, 1997; Chapter 10.2.
23. Tsybeskov, L.; Duttagupta, S. P.; Hirschman, K. D.; Fauchet, P. M. Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 2058.
24. Oguro, T.; Koyama, H.; Ozaki, T.; Koshida, N. J. Appl. Phys. 1997, 81, 1407.
25. Hirschman, K. D.; Tsybeskov, L.; Duttagupta, S. P.; Fauchet, P. M. Nature 1996, 384, 338.
26. Smandek, B.; Chmiel, G.; Genscher, H.Ber. Bunsen-Ges. Phys. Chem. 1989, 93, 1094.
27. Smandek, B.; Gerischer, H. Electrochim. Acta 1985, 30, 1101.
28. Nakato, Y.; Tsumura, A.; Tsubomura, H. Bull. Chem. Soc. Jpn. 1982, 55, 3390.
29. Nakato, Y.; Morita, K.; Tsubomura, H. J. Phys. Chem. 1986, 90, 2718.
30. Schoenmakers, G. H.; Bakkers, E. P. A. M.; Kelly, J. J. J. Electrochem. Soc. 1997, 144, 2329.
31. Chmiel, G.; Gerischer, H. J. Phys. Chem. 1990, 94, 1612.
32. McIntyre, R.; Smandek, B.; Gerischer, H.Ber. Bunsen-Ges. Phys. Chem. 1985, 89, 78.
33. Schoenmakers, G. H.; Vanmaekelbergh, D.; Kelly, J. J. J. Phys. Chem. 1996, 100, 3215.
34. de Wit, A. R.; Janssen, M. D.; Kelly, J. J. Appl. Surf. Sci. 1990, 45, 21.
35. Li, J.; Peat, R.; Peter, L. M. J. Electroanal. Chem. 1984, 165, 41.
36. De Mierry, P.; Etcheberry, A.; Rizk, R.; Etchegoin, P.; Aucouturier, M. J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 1539.
37. Mandal, K. C.; Ozanam, F.; Chazalviel, J.-N. Appl. Phys. Lett. 1990, 57, 2788.
38. Belaïdi, A.; Chazalviel, J.-N.; Ozanam, F.; Gorochov, O.; Chari, A.; Fotouhi, B.; Etman, M. J. Electroanal. Chem. 1998, 44, 55.
39. Allongue, P.; de Villeneuve, C. Henry; Pinsard, L.; Bernard, M. C. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 941.
40. Lowe-Webb, R. R.; Lee, H.; Ewing, J. B.; Collins, S. R.; Yang, W.; Sercel, P. C. J. Appl. Phys. 1998, 83, 2815.
41. Smandek, B.; Gerischer, H. Electrochim. Acta 1989, 34, 1411.
42. Noguchi, H.; Kondo, T.; Uosaki, K. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 4978.
43. Peter, L. M.; Wielgosz, R. I. Appl. Phys. Lett. 1998, 69, 806.