Plasma assisted chemical vapor deposition silicon oxynitride films grown from SiH4+NH3+O2 gas mixtures

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 16, Issue 5, 1998, Pages 2757-2761

  Olivares Roza, J ^a   Sanchez O ^a   Albella, J M ^a  

^a INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID   (Spain)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0032390864     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.581513     Document Type: Article

References (22)

1. J. Vuillod, J. Vac. Sci. Technol. A 5, 1675 (1987).
2. J. E. Schoenholtz and D. W. Hess, Thin Solid Films 184, 285 (1987).
3. F. Bruno, M. del Guidice, R. Recca, and F. Testa, Appl. Opt. 30, 4560 (1991).
4. W. Gleine and J. Müller, Appl. Opt. 31, 2036 (1992).
5. R. Hezel and R. Schörner, J. Appl. Phys. 52, 3076 (1981).
6. T. Takahashi, K. Hagiwara, Y. Egashira, and H. Komiyama, J. Electrochem. Soc. 143, 1355 (1996).
7. M. Liehr and S. A. Cohen, Appl. Phys. Lett. 60, 198 (1992).
8. G. Lucovsky, P. D. Richard, D. V. Tsu, S. Y. Lin, and R. J. Markunas, J. Vac. Sci. Technol. A 4, 681 (1986).
9. D. V. Tsu, G. Lucovsky, and M. J. Mantini, Phys. Rev. B 33, 7069 (1986).
10. W. R. Knolle and J. W. Osenbach, J. Appl. Phys. 58, 1248 (1985).
11. D. V. Tsu, G. Lucovsky, M. J. Mantini, and S. S. Chao, J. Vac. Sci. Technol. A 5, 1998 (1987).
12. O. Sánchez, M. A. Aguilar, C. Falcony, J. M. Martínez Duart, and J. M. Albella, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 1 (1996).
13. J. W. Osenbach and W. R. Knolle, J. Electrochem. Soc. 139, 3346 (1992).
14. Y. Ma and G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2504 (1994).
15. T. Fuyuki, T. Saitoh, and H. Matsunami, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 29, 2247 (1990).
16. Y. Cros, N. Jaffrazic-Renault, J. M. Chovelon, and J. J. Fombon, J. Electrochem. Soc. 139, 507 (1992).
17. C. M. M. Denisse, J. F. M. Janssen, F. H. P. M. Habraken, and W. F. van der Weg, Appl. Phys. Lett. 52, 1308 (1988).
18. W. A. P. Claasen, H. A. J. Th. v. d. Pol, A. H. Goemans, and A. E. T. Kuiper, J. Electrochem. Soc. 133, 1458 (1986).
19. G. Lucovsky, Solid State Commun. 29, 571 (1979).
20. R. Zhang, Z. Yu, G. J. Collins, T. Hwang, and W. H. Ritchie, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 176 (1989).
21. W. A. Lanford and M. J. Rand, J. Appl. Phys. 49, 2473 (1978).
22. S. V. Hattangady, H. Niimi, and G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 3017 (1996).