Chemical alteration of the native oxide layer on LiGaO2(001) by exposure to hyperthermal atomic hydrogen

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 16, Issue 6, 1998, Pages 3414-3419

  Wolan, John T ^a   Hoflund, Gar B ^a  

^a J Crayton Pruitt Family Department of Biomedical Engineering   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0032328252     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.581495     Document Type: Article

References (47)

1. H. Morkoc, S. Strite, G. B. Gao, M. E. Lin, B. Sverdlow, and M. Burns, J. Appl. Phys. 76, 1363 (1994).
2. H. Amano, K. Hiramatsu, and I. Skasaki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 27, L1384 (1988).
3. K. Naniwae, S. Itoh, H. Amano, K. Iton, K. Hiramatsu, and I. Akasaki, J. Cryst. Growth 99, 381 (1990).
4. M. E. Lin, S. Strite, A. Agarwall, A. Salvador, G. L. Zhou, N. Teraguchi, A. Rockett, and H. Morkoc, Appl. Phys. Lett. 62, 702 (1993).
5. S. Strite, J. Ruan, Z. Li, N. Manning, A. Salvador, H. Chen, D. J. Smith. W. J. Choyke, and H. Morkoc, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 1924 (1991).
6. S. Strite, D. S. L. Mui, G. Martin, Z. Li, D. J. Smith, and H. Morkoc, Inst. Phys. Conf. Ser. 120, 89 (1992).
7. M. Mizuta, S. Fujieda, Y. Matsumoto, and T. Kawamura, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 25, L945 (1986).
8. T. Lei, M. Fanciulli, R. J. Molnar, T. D. Moustakas, R. J. Graham, and J Scanion, Appl. Phys. Lett. 59, 944 (1991).
9. T. Lei, T. D. Moustakas, R. J. Craham, Y. He, and S. J. Berkowitz, J. Appl. Phys. 71, 4933 (1992).
10. N. Kondo and Y. Nanishi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 28, L7 (1989).
11. S. V. Hattangady, R. A. Rudder, M. J. Mantini, G. G. Fountain, J. B. Posthill, and R. J. Markunas, J. Appl. Phys. 68, 1233 (1990).
12. D. Gallet, G. Hollinger, C. Santinelli, and L. Goldstein, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 1267 (1992).
13. A. Guivari'h, H. L'Haridon, G. Pelous, G. Hollinger, and P. Pertosa, J. Appl. Phys. 55, 1139 (1984).
14. N. J. Kaai, C. E. C. Wood, and L. F. Eastman, J. Appl. Phys. 53, 6208 (1982).
15. G. B. Hoflund and Cheryl F. Corallo, Surf. Interface Anal. 9, 319 (1986).
16. S. J. Hoekje and G. B. Hoflund, Thin Solid Films 197, 367 (1991).
17. S. J. Hoekje and G. B. Hoflund, Appl. Surf. Sci. 47, 43 (1991).
18. X. Losurdo, P. Capezzuto, and G. Bruno, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 691 (1996).
19. A. J. Nelson, S. Frigo, D. Mancini, and R. Rosenberg, J. Appl. Phys. 70, 5619 (1991).
20. P. G. Hofstra, D. A. Thompson, B. J. Robinson, and R. W. Streater, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 985 (1993).
21. T. Sugino, H. Ninomiya, T. Yamada, J. Shirafuji, and K. Matsuda, Appl. Phys. Lett. 60, 1226 (1992).
22. T. Sugino, H. Yamamoto, and J. Shirafuji, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 30, L948 (1991).
23. D. Gallet, G. Hollinger, C. Santinelli, and L. Goldstein, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 1267 (1992).
24. C. W. Tu, R. P. H. Chang, and A. R. Schlier, Appl. Phys. Lett. 41, 80 (1982).
25. N. Knodo and Y. Nanishi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 28, L7 (1989).
26. E. J. Petit, F. Houzay, and J. M. Mosison, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 2172 (1992).
27. M. Yamada and Y. Ide, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 33, L671 (1994).
28. Y. Okada and J. S. Harris, Jr., J. Vac. Sci. Technol. B 14, 1725 (1996).
29. H. Shimomura, Y. Okada, and M. Kawabe, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 31, L628 (1992).
30. Y. Okada, S. Ohta, H. Shimomura, A. Kawabata, and M. Kawabe, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 32, L1556 (1993).
31. Y. Okada, H. Shimomura, and M. Kawabe, J. Appl. Phys. 73, 7376 (1993).
32. Y. Okada, S. Ohta, A. Kawabata, H. Shimomura, and M. Kawabe, J. Electron. Mater. 23, 331 (1994).
33. F. Silva-Andrade, F. Chávez, and E. Gómez, J. Appl. Phys. 76, 1946 (1994).
34. EPI Application Note, August/September, 1994.
35. J. W. Lee, S. J. Pearton, C. R. Abernathy, Z. M. Zavada, and B. L. H. Chai, J. Electrochem. Soc. 143, L169 (1996).
36. G. B. Hoflund, Scanning Microsc. IV, 1392 (1985).
37. G. B. Hoflund and J. F. Weaver, Meas. Sci. Technol. 5, 201 (1994).
38. J. T. Wolan, C. K. Mount, and G. B. Hoflund, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 2502 (1997).
39. J. T. Wolan, C. K. Mount, and G. B. Hoflund, J. Vac. Sci. Technol. A 16 (1998).
40. R. E. Gilbert, D. F. Cox, and G. B. Hoflund, Rev. Sci. Instram. 53, 447 (1982).
41. A. Savitzky and M. K. E. Golay, Anal. Chem. 36, 1627 (1964).
42. Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, edited by C. D, Wagner, W. M. Riggs, L. E. Davis, J. F. Moulder, and G. E. Muilenberg (Perkin-Elmer, Eden Prairie, MN, 1979).
43. G. B. Hoflund in Handbook of Surface and Interface Analysis: Methods in Problem Solving, edited by J. C. Rivière and S. Myhra (Marcel Dekker, New York, 1998), p. 57.
44. V. Y. Young, G. B. Hoflund, and A. C. Miller, Surf. Sci. 235, 60 (1990).
45. O. Melendez, G. B. Hoflund, R. E. Gilbert, and V. Y. Young, Surf. Sci. 251/252, 228 (1991).
46. V. Y. Young, N. Welcome, and G. B. Hoflund, Phys. Rev. B 48, 2891 (1993).
47. S. D. Gardner, G. B. Hoflund, D. R. Schryer, and B. T. Upchurch, J. Phys. Chem. 95, 835 (1991).