Carbon nitride thin films prepared by reactive sputtering: Elemental composition and structural characterization

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 15, Issue 4, 1997, Pages 1970-1975

  Lacerda, M M ^a   Franceschini, D F ^a   Freire Jr , F L ^a   Achete, C A ^b   Mariotto, G ^c  

^a PONTIFICAL CATHOLIC UNIVERSITY OF RIO DE JANEIRO   (Brazil)

^b FEDERAL UNIVERSITY OF RIO DE JANEIRO   (Brazil)

^c UNIVERSITY OF TRENTO   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0031499607     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.580667     Document Type: Article

References (36)

1. A.Y. Liu and M. L. Cohen, Science 245, 841 (1989).
2. A. Y. Liu and M. L. Cohen, Phys. Rev. B 41, 10727 (1990).
3. M. R. Wixson, J. Am. Ceram. Soc. 73, 1973 (1990).
4. T. Sekine, H. Handa, Y. Bando, M. Yokoyama, and K. Hojou, J. Mater. Sci. Lett. 9, 1376 (1990).
5. J. J. Cuomo, P. A. Leary, D. Yu, W. Reuter, and M. Frisch, J. Vac. Sci. Technol. 16, 299 (1979).
6. C. J. Torng, J. M. Sivertsen, J. H. Judy, and C. Chong, J. Mater. Res. 5, 2490 (1990).
7. M. Y. Chen, X. Lin, V. P. Dravid, Y. W. Chung, M. S. Chung, M. S. Wong, and W. D. Sproul, Surf. Coat. Technol. 54/55, 360 (1992).
8. N. Nakayama, T. Tsuchiya, S. Tamada, K. Kosuge, S. Nagata, K. Takahiro, and S. Yamaguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 32, 1456 (1993).
9. M. Y. Chen, D. Li, X. Lin, V. P. Dravid, Y. W. Chung, M. S. Wong, and W. D. Sproul, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 521 (1993).
10. D. Li, Y. W. Chung, M. S. Wong, and D. S. Sproul, J. Appl. Phys. 74, 219 (1993).
11. K. M. Ya, M. L. Cohen, E. E. Waller, W. L. Hansen, A. Y. Liu, and I. C. Wu, Phys. Rev. B 49, 5034 (1994).
12. D. Li, Y. W. Chung, S. Yang, M. S. Wong, F. Adibi, and W. D. Sproul, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 1470 (1995).
13. S. Kumar and T. L. Tansley, J. Appl. Phys. 76, 4390 (1994).
14. T. Okada, S. Yamada, Y. Takeuchi, and T. Wada, J. Appl. Phys. 78, 7416 (1995).
15. K. G. Kreider, M. J. Tarlov, G. J. Gillen, G. E. Poirier, L. H. Robins, L. K. Ives, W. D. Bowers, R. B. Marinenko, and D. T. Smith, J. Mater. Res. 10, 3079 (1995).
16. F. Rossi, B. André, A. van Veen, P. E. Mijnarends, H. Schut, F. Labohm, H. Dunlop, M. P. Delplancke, and K. Hubbard, J. Mater. Res. 9, 2440 (1994).
17. K. J. Boyd, D. Marton, S. S. Todorov, A. H. Al-Bayati, J. Kulik, R. A. Zuhr, and J. W. Rabalais, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 2110 (1995).
18. C. Niu, Y. Z. Lu, and C. M. Lieber, Science 261, 334 (1993).
19. J. Robertson and C. A. Davis, Diam. Relat. Mater. 4, 441 (1995).
20. J. H. Kaufman, S. Metin, and D. D. Saperstein, Phys. Rev. B 39, 13053 (1989).
21. F. L. Freire, Jr., D. F. Franceschini, and C. A. Achete, Phys. Status Solidi B 192, 493 (1995).
22. D. F. Franceschini, F. L. Freire, Jr., C. A. Achete, and G. Mariotto, Diam. Relat. Mater. 5, 471 (1996).
23. T. Y. Yen and C. P. Chou, Appl. Phys. Lett. 67, 2801 (1995).
24. D. F. Franceschini, F. L. Freire, Jr., and S. R. P. Silva, Appl. Phys. Lett. 68, 2645 (1996).
25. Y. A. Yeh, C. L. Lin, J. M. Siverstsen, and J. J. Judy, J. Magn. Magn. Mater. 120, 314 (1993).
26. S. S. Todorov, D. Marton, K. J. Boyd, A. H. Al-Bayati, and J. W. Rabalais, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 3192 (1994).
27. H. Sjöström, S. Stafström, M. Boman, and J.-E. Sundgren, Phys. Rev. Lett. 75, 1336 (1995).
28. J. W. Zou, K. Schmidt, K. Reichel, and B. Stritzer, J. Vac. Sci. Technol. A 6, 3103 (1988).
29. L. R. Doolitle, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 9, 344 (1985).
30. F. Parmigiani, E. Kaym, and H. Seki, J. Appl. Phys. 64, 3031 (1988).
31. G. Mariotto, F. L. Freire, Jr., and C. A. Achete, Thin Solid Films 241, 255 (1994).
32. R. O. Dillon, J. A. Woollam, and V. Katkanant, Phys. Rev. B 29, 3482 (1984).
33. R. J. Nemanich and S. A. Solin, Phys. Rev. B 20, 392 (1979).
34. R. Nicklow, W. Wakabayashi, and H. G. Smith, Phys. Rev. B 5, 4951 (1972).
35. R. Al-Jishi and G. Dresselhaus, Phys. Rev. B 26, 4514 (1982).
36. D. Li, Y. W. Chung, M. S. Wong, and W. D. Sproul, Tribol. Lett. 1, 87 (1995).