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Volumn 31, Issue 5, 1997, Pages 741-747

Etching characteristics of Si 1-xGe x alloy using Cl 2-assisted Ar ion beam etching

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EID: 0031327593     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article
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References (18)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.