메뉴 건너뛰기




Volumn 68, Issue 17, 1996, Pages 2366-2368

Dry oxidation mechanisms of thin dielectric films formed under N2O using isotopic tracing methods

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords


EID: 0013281625     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.116135     Document Type: Article
Times cited : (27)

References (16)
  • 7
    • 0039199103 scopus 로고    scopus 로고
    • I. J. Baumvol, F. C. Stedile, J. J. Ganem, S. Rigo, and I. Trimaille, J. Electrochem. Soc. 142, 1205 (1995).
    • I. J. Baumvol, F. C. Stedile, J. J. Ganem, S. Rigo, and I. Trimaille, J. Electrochem. Soc. 142, 1205 (1995).
  • 10
    • 21544440193 scopus 로고    scopus 로고
    • 2 Interface, edited by C. R. Helms and B. E. Deal (Plenum, New York, 1988), Vol. 1, p. 75.
    • 2 Interface, edited by C. R. Helms and B. E. Deal (Plenum, New York, 1988), Vol. 1, p. 75.
  • 11
    • 21544468383 scopus 로고    scopus 로고
    • I. Trimaille, S. I. Raider, J. J. Ganem, S. Rigo, and N. A. Penebre
    • I. Trimaille, S. I. Raider, J. J. Ganem, S. Rigo, and N. A. Penebre
  • 16
    • 0029346046 scopus 로고    scopus 로고
    • E. H. Poindexter and W. L. Warren, J. Electrochem. Soc. 142, 2508 (1995).
    • E. H. Poindexter and W. L. Warren, J. Electrochem. Soc. 142, 2508 (1995).


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.