Influence of the deposition parameters on La-A-Mn-O (A = Ca, Sr) films grown by low-pressure aerosol pyrolysis

Chemistry of Materials

Volumn 11, Issue 12, 1999, Pages 3521-3527

  Herrero, E ^a   Cabanas M V ^a   Alonso, J ^a   Conde, F ^a   Gonzalez Calbet J M ^a   Vallet Regi M ^a  

^a UNIVERSIDAD COMPLUTENSE DE MADRID   (Spain)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0012131469     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm991058j     Document Type: Article

References (33)

1. Chahara, K.; Ohno, T.; Kasai, M.; Kozono, Y. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 1990.
2. Snyder, G. J.; Hiskes, R.; DiCarolis, S.; Beasley, M. R.; Geballe, T. H. Phys. Rev. B 1996, 53, 14434.
3. Zener, C. Phys. Rev. 1951, 81, 440.
4. Gennes, P. G Phys. Rev. 1960, 118, 141.
5. Goodenough, J. B. Phys. Rev. 1955, 100, 564.
6. Schiffer, P.; Ramirez, A. P.; Bao W.; Cheong, S.-W. Phys. Rev. Lett. 1995, 75, 3336.
7. McGuire, T. R.; Grupta, A.; Duncombe, R. P.; Rupp, M.; Sun, J. Z.; Laibowitz, R. B.; Gallager, W. J.; Gang, X. J. Appl. Phys. 1996, 79, 4549.
8. Jin, S.; Tiefel, T. H.; McCormak, M.; Fastnarct, R. A.; Ramesh R.; Chen, L. H. Science 1994, 264, 413.
9. Vlakhov, E. S.; Chakalov, R. A.; Chakalova R. I.; Nenkov, K. A.; Dorr, K.; Handstein, A.; Muller, K. H. J. Appl. Phys. 1998, 83, 2152.
10. O'Donnell, J.; Onellion, M.; Rzchowski, M. S.; Eckstein, J. N.; Bozovic, I. Phys. Rev. B 1996, 54, 6841.
11. Bae, S. Y.; Wang, S. X. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 121.
12. Gorbenko, O. Y.; Kaul, A. R.; Babushkina, N. A.; Belova, L. M. J. Mater. Chem. 1997, 7, 747.
13. Chen, B.; Uher, C.; Morelli, D. T.; Mantese, J. V.; Mance, A. M.; Micheli, A. L. Phys. Rev. 1996, 53, 5094.
14. Therese, G. H.; Kamath, P. V. Chem. Mater. 1998, 10, 3364.
15. Decker, W.; Erokhin, Y.; Gorbenko, O.; Graboy, I.; Kaul, A.; Nürnberg, A.; Puluer, M.; Stolle, R.; Wahl, G. J. Alloys Compd. 1995, 195, 291.
16. Hammond, G. S.; Nonhebel, D. C.; Wu, C. S. Inorg. Chem. 1963, 2, 73.
17. Ju, H. L.; Kwon, C.; Li, Q.; Greene; R. L. Venkatesan, T. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 2108.
18. Anil, K. P. S.; Alias J. P.; Date, S. K. J. Mater. Chem. 1998, 8, 1219.
19. Xia, C.; Ward, T. L.; Atanasova, P.; Schwartz, R. W. J. Mater. Res. 1998, 13, 173.
20. Salazar, K. V.; Ott, K. C.; Dye, R. C.; Hubbard, K. M.; Peterson, E. J.; Coulter, J. Y.; Kodas, T. T. Physica C 1992, 198, 303.
21. Leskelä, M.; Mölsä, H.; Niinistö, L. Supercond. Sci. Technol. 1993, 6, 627.
22. Wojtczak, W. A.; Fleig P. F.; Hampden-Smith, M. Advances in Organometallic Chemistry; Stone, F. G. A., West, R., Eds.; Academic Press: San Diego, CA, 1996; Vol. 40, Chapter 5, p 215.
23. Sandu, V.; Jaklovszky, J.; Miu, D.; Dragulinescu, D.; Grigoriv, C.; Bunescu, M. C. J. Mater. Sci. Lett. 1994, 13, 1222.
24. Cabañas, M. V.; Ragel, C. V.; Conde, F.; González-Calbet J. M.; Vallet-Regí, M. Solid State Ionics 1997, 101-103, 191.
25. Rebane, J. A.; Gorbenko, O. Y.; Suslov, S. G.; Yakovlev, N. V.; Korsakov, I. E.; Amelichev, Y. D.; Tretyakov, V. A. Thin Solid Films 1997, 302, 140.
26. Maurin, I.; Barboux, P.; Lassailly Y.; Boilot, J. P. Chem. Mater. 1998, 10, 1727.
27. Jin, S.; Tiefel, H.; McCormack M.; O'Brian, H. M. App. Phys. Lett. 1995, 67, 557.
28. Ju, H. L.; Kwon, C.; Li, Q.; Greene, R. L.; Venkatesan, T. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 2108.
29. Freisem, S.; Brockhoff, A.; de Groot, D. G.; Dam B.; Aarts, J. J. Magn. Magn. Mater. 1997, 165, 380.
30. Urushibara, A.; Moritomo, Y.; Arima, T.; Asamitsu, A.; Kido G.; Tokura, Y. Phys. Rev. B, 1995, 51, 14103.
31. McGuire, T. R.; Gupta, A.; Duncombe, P. R.; Rupp, M.; Sun, J. Z.; Laibowitz, R. B.; Gallagher, W. J.; Xiao, G. J. Appl. Phys. 1996, 79, 4549.
32. Ferris, V.; Brohan, L.; Ganne M.; Tournoux, M. Eur. J. Solid State Inorg. Chem. 1995, 32, 131.
33. Hauback, B. C.; Fjellvag H.; Sakai, N. J. Solid State Chem. 1996, 124, 43.