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Volumn 75, Issue 23, 1999, Pages 3638-3640

High-quality fully relaxed In0.65Ga0.35As layers grown on InP using the paramorphic approach

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EID: 0003834208     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.125413     Document Type: Article
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References (12)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.