Delay-free deprotection approach to robust chemically amplified resist

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 9, Issue 4, 1996, Pages 611-618

  Hattori, Takashi ^a   Imai, Akira ^a   Yamanaka, Ryoko ^a   Ueno, Takumi ^a   Shiraishi, Hiroshi ^a  

^a HITACHI LTD   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001731634     PISSN: 09149244     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.9.611     Document Type: Article

References (17)

1. H. Ito, C. G. Willson and J. M. J. Frechet, Proc. Microcircuit Eng., (1982) 262, and H. Ito and C. G. Willson, ACS Symp. Ser., 24 (1984) 11.
2. S. A. MacDonald, N. J. Clecak, H. R. Wendt, C. G. Willson, C. D. Snyder, C. J. Knors, N. B. Deyoe, J. G. Maltabes, J. R. Morrow, A. E. McGuire and S. J. Holmes, Proc. SPIE 1466 (1991)
3. and O. Nalamasu, M. Cheng, A. G. Timko, V. Pol, E. Reichmanis and L. F. Thompson, J. Photopolymer Sei. Technol, 4 (1991) 299.
4. J. W. Thackeray, T. H. Fedynyshyn, A. A. Lamola and R. D. Small, J. Photopolymer Sei. Technol., 5 (1992) 207.
5. H. Roschert, Ch. Eckes, H. Endo, Y. Kinoshita, T. Kudo, S. Masuda, H. Okazaki, M. Padmanaban, K.-J. Przybilla, W. Spiess, N. Suehiro, H. Wengeroth and G. Pawlowski, Proc. SPIE 1925 (1993) 14.
6. H. Ito, W. P. England, N. J. Clecak, G. Breyta, H. Lee, D. Y. Yoon, R. Sooriyakumaran and W. D. Hinsberg, Proc. SPIE 1925 (1993) 65.
7. W. S. Huang, R. Kwong, A. Katnani and M. Khojasteh, Proc. SPIE 2195 (1994) 37,
8. and C. Mertesdorf, N. Munzel, H. Holzwarth, P. Falcigno, H-T. Schacht, O. Rohde, R. Schulz, S. G. Slater, D. Frey, O. Nalamasu, A. G. Timko and T. X. Neenan, Proc. SPIE 2438 (1994) 84.
9. D. J. H. Funhoff, H. Binder and R. Schwalm, Proc. SPIE 1672 (1992) 46,
10. and K. J. Przybilla, Y. Kinoshita, T. Kubo, S. Masuda, H. Okazaki, M. Padmanaban, G. Pawlowski, H. Roeschert, W. Spiess and N. Suehiro, Proc. SPIE 1925 (1993) 76.
11. T. Hattori, L. Schlegel, A. Imai, N. Hayashi and T. Ueno, Proc. SPIE 1925 (1993) 146, and
12. T. Hattori, L. Schlegel, A. Imai, N. Hayashi and T. Ueno, J. Photopolymer Sei. TechnoL, 6 (1993) 497.
13. H. Shiraishi, N. Hayashi, T. Ueno, T. Sakamizu and F. Murai, J. Vac. Sei. TechnoL, B9 (1991) 3343, and Y. Jiang and D. R. Bassett, Polym. Materials. Sei. Eng., 66 (1992) 41.
14. T. Ueno, H. Shiraishi, L. Schlegel, N. Hayashi and T. Iwayanagi, "Polymers for Microelectronics - Science and Technology", Kodansha, Tokyo (1990), p. 413.
15. T. Sakamizu, H. Shiraishi, H. Yamaguchi, T. Ueno and N. Hayashi, Jpn. J. Appl. Phys., 31 (1992) 4288.
16. G. F. Woods and D. N. Kramer, J. Am. Chem. Soc., 69 (1947) 2246.
17. G. F. Woods and H. Sanders, J. Am. Chem. Soc., 68 (1946) 2111.