Lateral wet oxidation of AlxGa1-xAs-GaAs depending on its structures

Applied Physics Letters

Volumn 69, Issue 22, 1996, Pages 3357-3359

  Kim, J H ^a   Lim, D H ^a   Kim, K S ^a   Yang, G M ^a   Lim, K Y ^a   Lee, H J ^a  

^a Chonbuk National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001602772     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.117305     Document Type: Article

References (18)

1. J. M. Dallesasse, N. Holonyak, Jr., A. R. Sugg, T. A. Richard, and N. El-Zein, Appl. Phys. Lett. 57, 2844 (1990).
2. A. R. Sugg, E. I. Chen, T. A. Richard, N. Holonyak, Jr., and K. C. Hsieh, Appl. Phys. Lett. 62, 1259 (1993).
3. J. M. Dallesasse and N. Holonyak, Jr., Appl. Phys. Lett. 58, 394 (1991).
4. D. L. Huffaker, D. G. Deppe, K. Kumar, and T. J. Rogers, Appl. Phys. Lett. 65, 97 (1994).
5. M. H. MacDougal, G. M. Yang, A. E. Bond, C.-K. Lin, D. Tishinin, and P. D. Dapkus, IEEE Photonics Technol. Lett. 8, 310 (1996).
6. D. L. Huffaker, D. G. Deppe, and J. Shin, Appl. Phys. Lett. 67, 4 (1995).
7. G. M. Yang, M. H. MacDougal, and P. D. Dapkus, Electron. Lett. 31, 886 (1995).
8. K. L. Lear, K. D. Choquette, R. P. Schneider, Jr., S. P. Kilcoyne, and K. M. Geib, Electron. Lett. 31, 208 (1995).
9. O. Blum, K. L. Lear, and H. Hou, CLEO Paper CThQ5, Anaheim, CA, June 2-7, 1996 (unpublished).
10. R. S. Burton and T. E. Schlesinger, J. Appl. Phys. 76, 5503 (1994).
11. S. Guha, F. Agahi, B. Pezeshki, J. A. Kash, D. W. Kisker, and N. A. Bojarczuk, Appl. Phys. Lett. 68, 906 (1996).
12. K. D. Choquette, K. L. Lear, R. P. Schneider, Jr., K. M. Geib, J. J. Figiel, and R. Hull, IEEE Photonics Technol. Lett. 7, 1237 (1995).
13. M. Ochiai, G. E. Giudice, H. Temkin, J. W. Scott, and T. M. Cockerill, Appl. Phys. Lett. 68, 1898 (1996).
14. J. A. Kash, B. Pezeshki, F. Agahi, and N. A. Bojarczuk, Appl. Phys. Lett. 67, 2022 (1995).
15. A. R. Sugg, E. I. Chen, N. Holonyak, Jr., K. C. Hsieh, J. E. Baker, and N. Finnegan, J. Appl. Phys. 74, 3880 (1993).
16. E. R. Hegblom, D. I. Babic, B. J. Thibeault, and L. A. Coldren, Appl. Phys. Lett. 68, 1757 (1996).
17. F. A. Kish, S. A. Maranowski, G. E. Hofler, N. Holonyak, Jr., S. J. Caracci, J. M. Dallesasse, and K. C. Hsieh, Appl. Phys. Lett. 60, 3165 (1992).
18. K. D. Choquette, R. P. Schneider, Jr., K. L. Lear, and K. M. Geib, Electron. Lett. 30, 2043 (1994).