Permittivity of GaAs epilayers containing arsenic precipitates

Applied Physics Letters

Volumn 73, Issue 5, 1998, Pages 671-673

  Vasudevan, A ^a   Carin, S ^a   Melloch, M R ^a   Harmon, E S ^b  

^a PURDUE UNIVERSITY   (United States)

^b MellWood Laboratories Inc   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001558884     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.121943     Document Type: Review

References (19)

1. M. O. Manasreh, D. C. Look, K. R. Evans, and C. E. Stutz, Phys. Rev. B 41, 10272 (1990).
2. Z.-Q. Fang and D. C. Look, Appl. Phys. Lett. 61, 1438 (1990).
3. M. R. Melloch, N. Otsuka, J. M. Woodall, A. C. Warren, and J. L. Freeouf, Appl. Phys. Lett. 57, 1531 (1990).
4. M. R. Melloch, D. D. Nolte, J. M. Woodall, J. C. P. Chang, D. B. Janes, and E. S. Harmon, Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 21, 189 (1996).
5. T.-C. Lin, H. T. Kaibe, and T. Okumura, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 378, 147 (1995).
6. D. K. Johnstone, C. E. Stutz, and K. R. Evans, Bull. Am. Phys. Soc. 37, 251 (1992).
7. K. Xie, Z. C. Huang, and C. R. Wie, J. Electron. Mater. 20, 553 (1991).
8. N. D. Jäger, A. K. Verma, P. Dreszer, N. Newman, Z. Liliental-Weber, M. Van Schilfgaarde, and E. R. Weber, J. Electron. Mater. 22, 1499 (1993).
9. H. Fujioka, E. R. Weber, and A. K. Verma, Appl. Phys. Lett. 66, 2834 (1995).
10. A. C. Warren, J. H. Burroughes, J. M. Woodall, D. T. McInturff, R. T. Hodgson, and M. R. Melloch, IEEE Electron Device Lett. 12, 527 (1991).
11. N. C. Chen, P. Y. Wang, and J. F. Chen, J. Appl. Phys. 83, 1403 (1998).
12. J. S. Blakemore, J. Appl. Phys. 53, 123 (1982).
13. M. R. Melloch, J. M. Woodall, E. S. Harmon, N. Otsuka, F. H. Pollak, R. M. Feenstra, and M. A. Lutz, "Low Temperature Grown III-V Materials," in Volume 25 of Annual Review of Materials Science (Annual Reviews, Palo Alto, 1995), pp 547-600.
14. E. S. Harmon, D. T. McInturff, M. R. Melloch, and J. M. Woodall, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 768 (1995).
15. J. C. Anderson, Dielecrics (Reinhold, New York, 1964).
16. T. B. Stellwag, M. R. Melloch, J. A. Cooper, Jr., S. T. Sheppard, and D. D. Nolte, J. Appl. Phys. 71, 4509 (1992).
17. D. V. Rossi, E. R. Fossum, G. D. Pettit, P. D. Kirchner, and J. M. Woodall, J. Vac. Sci. Technol. B 5, 982 (1987).
18. A. C. Warren, J. M. Woodall, J. L. Freeouf, D. Grischkowsky, D. T. McInturff, M. R. Melloch, and N. Otsuka, Appl. Phys. Lett. 57, 1331 (1990).
19. D. C. Look, G. D. Robinson, J. R. Sizelove, and C. E. Stutz, J. Electron. Mater. 22, 1425 (1993).