Selective oxidation of buried AlGaAs versus AlAs layers

Applied Physics Letters

Volumn 69, Issue 10, 1996, Pages 1385-1387

  Choquette, Kent D ^a   Geib, K M ^a   Chui, H C ^a,c   Hammons, B E ^a   Hou, H Q ^a   Drummond, T J ^a   Hull, Robert ^b  

^a SANDIA NATIONAL LABORATORIES   (United States)

^b University of Virginia   (United States)

^c HEWLETT PACKARD COMPANY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001520150     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.117589     Document Type: Article

References (17)

1. D. L. Huffaker, D. G. Deppe, K. Kumar, and T. J. Rogers, Appl. Phys. Lett. 65, 97 (1994).
2. G. M. Yang, M. H. MacDougal, and P. D. Dapkus, Electron. Lett. 31, 886 (1995).
3. K. D. Choquette, R. P. Schneider, Jr., K. L. Lear, and K. M. Geib, Electron. Lett. 30, 2043 (1994).
4. K. L. Lear, K. D. Choquette, R. P. Schneider, Jr., S. P. Kilcoyne, and K. M. Geib, Electron. Lett. 31, 208 (1995).
5. B. Weigl, M. Grabherr, G. Reiner, and K. L. Ebeling, Electron. Lett. 32, 557 (1996).
6. J. M. Dallesasse and N. Holonyak, Jr., Appl. Phys. Lett. 58, 394 (1991).
7. A. Fiore, V. Berger, E. Rosencher, N. Laurent, S. Theilmann, N. Vodjdani, and J. Nagle, Appl. Phys. Lett. 68, 1320 (1996).
8. E. I. Chen, N. Holonyak, Jr., and S. A. Maranowski, Appl. Phys. Lett. 66, 2688 (1995).
9. D. L. Huffaker, J. Shin, and D. G. Deppe, Electron. Lett. 30, 1946 (1994).
10. K. D. Choquette, K. L. Lear, R. P. Schneider, Jr., and K. M. Geib, Appl. Phys. Lett. 66, 3413 (1995).
11. K. L. Lear, S. P. Kilcoyne, R. P. Schneider, Jr., and J. A. Nevers, Proc. SPIE 2683, 114 (1996).
12. K. D. Choquette, K. L. Lear, R. P. Schneider, Jr., K. M. Geib, J. J. Figiel, and R. Hull, IEEE Photonics Technol. Lett. 7, 1237 (1995).
13. H. Q. Hou, H. C. Chui, K. D. Choquette, B. E. Hammons, W. G. Breiland, and K. M. Geib, IEEE Photon. Tech. Lett. Oct. (1996) (in press).
14. R. D. Tweston, D. M. Follstaedt, K. D. Choquette, and R. P. Schneider, Jr., Appl. Phys. Lett. 69, 19 (1996).
15. W. Ranke, Y. R. Xing, and G. D. Shen, J. Vac. Sci. Technol. 21, 426 (1982).
16. R. Hull, D. Bahnck, F. A. Stevie, L. A. Koszi, and S. N. G. Chu, Appl. Phys. Lett. 62, 3408 (1993).
17. M. H. MacDougal, H. Zhao, P. D. Dapkus, M. Ziari, and W. H. Steier, Electron. Lett. 30, 1147 (1994).