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Volumn 83, Issue 16, 1999, Pages 3234-3237

Geometric frustration of 2d dopants in silicon: Surpassing electrical saturation

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EID: 0001503735     PISSN: 00319007     EISSN: 10797114     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevLett.83.3234     Document Type: Article
Times cited : (30)

References (24)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.