Highly insulative barium zirconate-titanate thin films prepared by rf magnetron sputtering for dynamic random access memory applications

Applied Physics Letters

Volumn 69, Issue 18, 1996, Pages 2659-2661

  Wu, T B ^a   Wu, C M ^a   Chen, M L ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001295913     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.117550     Document Type: Article

References (17)

1. T. Sumi, Y. Judai, K. Hirano, T. Ito, T. Mikawa, M. Takeo, M. Azuma, S. Hayashi, Y. Uemoto, K. Arita, T. Nasu, Y. Nagano, A. Inoue, A. Matsuda, E. Fuji, Y. Shimada, and T. Otsuki, Jpn. J. Appl. Phys. 1 35, 1516 (1996).
2. T. Kaga, M. Ohkura, F. Murai, N. Yokoyama, and E. Takeda, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2329 (1995).
3. H. Achard and H. Mace, in Science and Technology of Electroceramic Thin Films, edited by O. Auciello and R. Waser (Kluwer, Dordrecht, 1994), p. 353.
4. K. Abe and S. Komatsu, J. Appl. Phys. 77, 6461 (1995).
5. T. Nakamura, Y. Yamanaka, A. Morimoto, and T. Shimizu, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 5150 (1995).
6. T. Kuroiwa, Y. Tsunemine, T. Horikawa, T. Makita, J. Tanimura, N. Mikami, and K. Sato, Jpn. J. Appl. Phys. 33, 5187 (1994).
7. W. J. Lee, I. K. Park, G. E. Jang, and H. G. Kim, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 196 (1995).
8. C. S. Hwang, S. O. Park, H. J. Cho, C. S. Kang, H. K. Kang, S. I. Lee, and M. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 67, 2819 (1995).
9. K. Numata, Y. Fukuda, K. Aoki, and A. Nishimura, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 5245 (1995).
10. T. S. Kim, C. H. Kim, and M. H. Oh, J. Appl. Phys. 75, 7998 (1994).
11. S. O. Park, C. S. Hwang, H. J. Cho, C. S. Kang, H. K. Rang, S. I. Lee, and M. Y. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 35, 1548 (1996).
12. B. Jaffe, W. R. Cook, Jr., and H. Jaffe, Piezoelectric Ceramics (Academic, London and New York, 1971), p. 91.
13. J. N. Lin and T. B. Wu, J. Appl. Phys. 68, 985 (1990).
14. T. S. Kim, C. H. Kim, and M. H. Oh, J. Appl. Phys. 75, 7998 (1994).
15. W. J. Lee, I. K. Park, G. E. Jang, and H. G. Kim, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 196 (1995).
16. J. H. Won, S. H. Paek, Y. S. Hwang, and K. K. Kim, J. Mater. Sci. 6, 161 (1995).
17. G. W. Dietz, W. Antpohler, M. Klee, and R. Waser, J. Appl. Phys. 78, 6113 (1995).