The growth of pinhole-free epitaxial DySi2-x films on atomically clean Si(111)

Journal of Applied Physics

Volumn 84, Issue 7, 1998, Pages 3630-3635

  Shen, G H ^a   Chen, J C ^a   Lou, C H ^a   Cheng, S L ^a   Chen, L J ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001275043     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.368538     Document Type: Article

References (23)

1. J. A. Knapp and S. T. Picraux, Appl. Phys. Lett. 48, 466 (1986).
2. J. Y. Duboz, P. A. Badoz, F. A. d'Avitaya, and J. A. Chrobocze, Appl. Phys. Lett. 55, 84 (1989).
3. G. Guizetti, E. Mazzega, M. Michelini, F. Nava, A. Borgesi, and A. Piaggi, J. Appl. Phys. 67, 3393 (1990).
4. C. Boragno, M. R. Bonanisinga, and F. Nava, Solid State Commun. 92, 515 (1994).
5. H. Norde, J. de Sousa Pires, F. d'Heurle, F. Pesavento, S. Petersson, and P. A. Tove, Appl. Phys. Lett. 38, 865 (1981).
6. P. L. Janega, J. McCaffrey, and D. Landheer, Appl. Phys. Lett. 55, 1415 (1989).
7. L. Pahun, Y. Campidelli, F. A. d'Avitaya, and P. A. Badoz, Appl. Phys. Lett. 60, 1166 (1992).
8. T. L. Lee, L. J. Chen, and F. R. Chen, J. Appl. Phys. 71, 3307 (1992).
9. M. P. Siegal, F. H. Kaatz, W. R. Graham, J. J. Santiago, and J. Van der Spiegel, J. Appl. Phys. 66, 2999 (1989).
10. F. H. Kaatz, W. R. Graham, and J. Van der Spiegel, Appl. Phys. Lett. 62, 1748 (1993).
11. M. P. Siegal, W. R. Graham, and J. J. Santiago-Aviles, J. Appl. Phys. 68, 574 (1990).
12. M. Siegal, L. J. Martinez-Miranda, J. J. Santiago-Aviles, W. R. Graham, and M. P. Siegal, J. Appl. Phys. 75, 1517 (1994).
13. N. Frangis, G. Van Tendeloo, J. Van Landuyt, P. Muret, and T. T. A. Nguyen, J. Alloys Compd. 234, 244 (1996).
14. A. Iandelli, A. Palenzona, and G. L. Olcese, J. Less-Common Met. 64, 213 (1979).
15. E. Houssay, A. Rouault, O. Thomas, R. Madar, and J. P. Senateur, Appl. Surf. Sci. 38, 156 (1989).
16. C. H. Lou, G. H. Shen, and L. J. Chen, Appl. Surf. Sci. 113/114, 156 (1997).
17. F. P. Netzer, J. Phys.: Condens. Matter 7, 991 (1995).
18. T. L. Lee and L. J. Chen, J. Appl. Phys. 73, 8258 (1993).
19. R. D. Thompson and K. N. Tu, Thin Solid Films 93, 265 (1982).
20. S. S. Lau, C. S. Pai, C. S. Wu, T. F. Kuech, and B. X. Liu, Appl. Phys. Lett. 41, 77 (1982).
21. J. A. Knapp, S. T. Picraux, C. S. Wu, and S. S. Lau, J. Appl. Phys. 58, 3747 (1985).
22. T. P. Roge, F. Pallmino, C. Savall, J. C. Labrune, S. Saintenoy, P. Wetzel, C. Pirri, D. Bolmont, and G. Gewinner, Surf. Sci. 352-354, 622 (1996).
23. M. H. Grabow and G. H. Gilmer, in Semiconductor-Based Heterostructures, edited by M. L. Green, J. E. E. Baglin, G. Y. Chin, H. W. Deckman, W. Mayo, and D. Narasinham (The Metallurgical Society, Warrendale, PA, 1986), p. 3.