Angular and energy dependence of ion bombardment of Mo/Si multilayers

Journal of Applied Physics

Volumn 82, Issue 4, 1997, Pages 1876-1881

  Voorma, H J ^a,c   Louis, E ^a   Bijkerk, F ^a   Abdali, S ^b  

^a FOM INSTITUTE FOR PLASMA PHYSICS RIJNHUIZEN   (Netherlands)

^b TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK   (Denmark)

^c ASML   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001250566     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.365992     Document Type: Article

References (31)

1. K. Murakami, H. Nakamura, T. Oshino, M. Ohtani, and H. Nagata, Proc. SPIE 1742, 614 (1992).
2. M. Cevro and G. Carter, Opt. Eng. (Bellingham) 34, 596 (1995).
3. E. Spiller, Appl. Phys. Lett. 54, 2293 (1989).
4. E. J. Puik, M. J. van der Wiel, J. Verhoeven, and H. Zeijlemaker, Thin Solid Films 193/194, 782 (1990).
5. E. Louis, E. Spiller, S. Abdali, F. E. Christensen, H.-J. Voorma, N. B. Koster, P. K. Frederiksen, C. Tarrio, E. M. Gulikson, and F. Bijkerk, Proc. SPIE 2515, 194 (1995).
6. R. Schlatmann, C. Lu, J. Verhoeven, E. J. Puik, and M. J. van der Wiel, OSA Tech. Dig. Ser. 7, PD6-1 (1992).
7. R. Schlatmann, A. Keppel, Y. Xue, and J. Verhoeven, Appl. Phys. Lett. 63, 3297 (1993).
8. R. Schlatmann, J. Verhoeven, L. Chunguang, E. J. Puik, and M. J. van der Wiel, Appl. Surf. Sci. 78, 147 (1994).
9. L. G. Parratt, Phys. Rev. 95, 359 (1954).
10. J. Verhoeven, L. Chunguang, E. J. Puik, M. J. van der Wiel, and T. P. Huijgens, Appl. Surf. Sci. 55, 97 (1992).
11. M. Niibe, M. Hayashida, T. lizuka, A. Miyake, Y. Watanabe, R. Takahsi, and Y. Fukuda, Proc. SPIE 1343, 2 (1990).
12. E. Chason, T. M. Mayer, B. K. Kellerman, D. T. McIlroy, and A. J. Howard, Phys. Rev. Lett. 72, 3040 (1994).
13. D. G. Stearns, Appl. Phys. Lett. 62, 1745 (1993).
14. T. M. Mayer, E. Chason, and A. J. Howard, J. Appl. Phys. 76, 1633 (1994).
15. E. Louis, H.-J. Voorma, N. B. Koster, L. Shmaenok, F. Bijkerk, R. Schlatmann, J. Verhoeven, Yu. Ya. Platonov, G. E. van Dorssen, and H. Padmore, Microelectron. Eng. 23, 215 (1994).
16. E. J. Puik, M. J. van der Wiel, H. Zeijlemaker, and J. Verhoeven, Appl. Surf. Sci. 47, 63 (1991).
17. E. Spiller, Soft X-Ray Optics (SPIE, Bellingham, WA, 1994).
18. E. M. Gullikson, J. H. Underwood, P. C. Baston, and V. Nikitin, J. X-Ray Sci. Technol. 3, 283 (1992).
19. F. E. Christensen, A. Hornstrup, E. Jakobsen, P. Jonasson, M. M. Madsen, H. W. Schnopper, N. J. Westergaard, and P. Orup, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. A 256, 381 (1987).
20. W. W. Mullins, J. Appl. Phys. 30, 77 (1959).
21. C. Volkert and A. Polman, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 235, 3 (1992).
22. O. B. Loopstra, E. R. van Snek, Th. H. de Keijser , and E. J. Mittemeijer, Phys. Rev. B 15, 44 (1991).
23. R. Schlattman, J. D. Schindler, and J. Verhoeven, Phys. Rev. B 54, 10 880 (1996).
24. R. M. Bradley and J. M. E. Harper, J. Vac. Sci. Technol. A 6, 2390 (1988).
25. P. Sigmund, Phys. Rev. 184, 383 (1969).
26. E. Spiller, D. G. Stearns, and M. Kumrey, J. Appl. Phys. 74, 107 (1993).
27. D. G. Stearns, J. Appl. Phys. 71, 4288 (1992).
28. J. F. Ziegler, The Stopping Range of Ions in Matter (Pergamon, New York, 1985), Vol. 2-6.
29. H.-J. Voorma, E. Louis, N. B. Koster, and F. Bijkerk, J. Appl. Phys. (submitted).
30. H.-J. Voorma, G. E. van Dorssen, E. Louis, N. B. Koster, A. D. Smith, M. D. Roper, and F. Bijkerk, Appl. Surf. Sci. 93, 221 (1996).
31. F. E. Christensen, S. Abdali, A. Hornstrup, H. W. Shnopper, P. Slane, and S. E. Romaine, Proc. SPIE 2011, 18 (1994).