SCOPUS 정보 검색 플랫폼

Chemical Vapor Deposition

Volumn 5, Issue 4, 1999, Pages 191-193

Precursor selection in halide CVD of oxides

(1) Hårsta, Anders a

a UPPSALA UNIVERSITY (Sweden)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001066075 PISSN: 09481907 EISSN: None Source Type: Journal
DOI: 10.1002/(SICI)1521-3862(199908)5:4<191::AID-CVDE191>3.0.CO;2-U Document Type: Article

Times cited : (8)

References (8)

1
- 0039446387
- (Ed: W. S. Rees, Jr.), VCH, Weinheim
- W. S. Rees, Jr., in CVO of Nonmetals (Ed: W. S. Rees, Jr.), VCH, Weinheim 1996.
- (1996) CVO of Nonmetals
- Rees W.S., Jr.¹

2
- 0032300406
- M. Schuisky, A. Hårsta, J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 4234.
- (1998) J. Electrochem. Soc. , vol.145 , pp. 4234
- Schuisky, M.¹ Hårsta, A.²

3
- 0024628170
- M. Ihara, T. Kimura, H. Yamawaki, K. Ikeda, IEEE Trans. Magn. 1989, 25, 2470.
- (1989) IEEE Trans. Magn. , vol.25 , pp. 2470
- Ihara, M.¹ Kimura, T.² Yamawaki, H.³ Ikeda, K.⁴

4
- 0025508791
- A. Hårsta, J.-O. Carlsson, J. Less-Common Met. 1990, 164-165, 716.
- (1990) J. Less-common Met. , vol.164-165 , pp. 716
- Hårsta, A.¹ Carlsson, J.-O.²

5
- 0029404399
- P. Mårtensson, A. Hårsta, J. Cryst. Growth 1995, 756, 67.
- (1995) J. Cryst. Growth , vol.756 , pp. 67
- Mårtensson, P.¹ Hårsta, A.²

6
- 0040631676
- A. Hårsta, S. Lundquist, Chem. Vap. Deposition 1996, 2, 109.
- (1996) Chem. Vap. Deposition , vol.2 , pp. 109
- Hårsta, A.¹ Lundquist, S.²

7
- 0003822644
- M. Schuisky, A. Hårsta, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 213.
- (1998) Chem. Vap. Deposition , vol.4 , pp. 213
- Schuisky, M.¹ Hårsta, A.²

8
- 0038853533
- in press
- K. Forsgren, A. Hårsta, Thin Solid Films 1999, in press.
- (1999) Thin Solid Films
- Forsgren, K.¹ Hårsta, A.²

* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.