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Volumn 28, Issue 4 SPEC. ISS., 1997, Pages 433-448

Polycrystalline silicon layers for micromechanical applications: Stress profile analysis

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EID: 0000808091     PISSN: 00262692     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/s0026-2692(96)00075-4     Document Type: Article
Times cited : (9)

References (19)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.