Time dependence of etch-induced damage generated by an electron cyclotron resonance source

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 15, Issue 6, 1997, Pages 2643-2647

  Berg, E W ^a   Pang, S W ^a  

^a University of Michigan   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000691827     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.589700     Document Type: Article

References (18)

1. S. W. Pang, G. A. Lincoln, R. W. McClelland, P. D. Degraff, M. W. Geis, and W. J. Piancentini, J. Vac. Sci. Technol. B 1, 1334 (1983).
2. C. M. Noedler, L. Osterling, and H. Strikman, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1573 (1988).
3. H. F. Wong, D. L. Green, T. Y. Liu, D. G. Lishn, M. Bellis, E. L. Hu, P. M. Petroff, P. O. Holtz, and J. L. Merz, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1906 (1988).
4. R. Cheung, S. Thoms, M. Watt, M. A. Foad, C. M. Sotomayor-Torres, C. D. W. Wilkinson, U. J. Cox, R. A. Cowley, C. Dunscombe, and R. H. Williams, Semicond. Sci. Technol. 7, 1189 (1992).
5. M. A. Foad, S. Thoms, and C. D. W. Wilkinson, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 20 (1993).
6. K. K. Ko, S. W. Pang, T. Brock, M. W. Cole, and L. M. Casas, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3382 (1994).
7. C. H. Chen, D. G. Yu, E. L. Hu, and P. M. Petroff, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3684 (1996).
8. E. L. Hu, C. H. Chen, and D. L. Green, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3632 (1996).
9. R. J. Davis and P. Jha, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 242 (1995).
10. K. T. Sung, S. W. Pang, M. W. Cole, and N. Pearce, J. Electrochem. Soc. 142, 206 (1995).
11. A. S. Yapsir, G. Fortune-Wiltshire, J. P. Gambino, R. H. Kastl, and C. C. Parks, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 2939 (1990).
12. H. Nakanishi, K. Wada, and W. Walukiewicz, J. Appl. Phys. 78, 5103 (1995).
13. N. G. Stoffel, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 651 (1992).
14. R. S. Williams, Solid State Commun. 41, 153 (1982).
15. M. Hafizi, W. E. Stanchina, R. A. Metzger, J. F. Jensen, and F. Williams, IEEE Trans. Electron Devices 40, 2178 (1993).
16. S. Thomas III and S. W. Pang, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2941 (1994).
17. S. Thomas III, E. W. Berg, and S. W. Pang, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 1807 (1996).
18. K. K. Ko and S. W. Pang, J. Electrochem. Soc. 141, 255 (1994).