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Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 15, Issue 3, 1997, Pages 665-669

Etching of high aspect ratio microcavity structures in InP

(3) Ying, F a Juan, W H a Pang, S W a

a University of Michigan (United States)

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EID: 0000665879 PISSN: 10711023 EISSN: None Source Type: Journal
DOI: 10.1116/1.589366 Document Type: Article

Times cited : (9)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.