Polymer structure effect on dissolution characteristics and acid diffusion in chemically amplified deep ultraviolet resists

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 15, Issue 6, 1997, Pages 2541-2544

  Itani, Toshiro ^a   Yoshino, Hiroshi ^a   Hashimoto, Shuichi ^a   Yamana, Mitsuharu ^a   Samoto, Norihiko ^a   Kasama, Kunihiko ^a  

^a NEC CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000581311     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.589681     Document Type: Article

References (18)

1. T. Itani, H. Iwasaki, M. Fujimoto, and K. Kasama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 7005 (1994).
2. T. Itani, K. Itoh, and K. Kasama, Proc. SPIE 1925, 388 (1993).
3. T. Itani, H. Iwasaki, H. Yoshino, M. Fujimoto, and K. Kasama, Proc. SPIE 2438, 191 (1995).
4. T. Itani, H. Yoshino, S. Hashimoto, M. Yamana, N. Samoto, and K. Kasama, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 4226 (1996).
5. T. Itani, H. Yoshino, S. Hashimoto, M. Yamana, N. Samoto, and K. Kasama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 6501 (1996).
6. H. Ito, W. P. England, and S. B. Lundmark, Proc. SPIE 1672, 2 (1992).
7. H. Ito, W. P. England, R. Sooriyakumaran, N. J. Clecak, G. Breyta, W. D. Hinsberg, H. Lee, and D. Y. Yoon, J. Photopolymer Sci. Technol. 6, 547 (1993).
8. H. Ito, G. Breyta, D. Hofer, R. Sooriyakumaran, K. Petrillo, and D. Seeger, J. Photopolymer Sci. Technol. 7, 433 (1994).
9. J. W. Thackeray, T. Adams, M. F. Cronin, M. Denison, T. H. Fedynyshyn, J. Georger, J. M. Mori, G. W. Orsula, and R. Sinta, J. Photopolymer Sci. Technol. 7, 619 (1994).
10. O. Nalamasu, A. G. Timko, M. Cheng, J. M. Kometani, M. Galvin, S. Heffner, S. G. Slater, A. J. Blakeney, N. Munzel, R. Schulz, H. Holzwarth, C. Mertesdorf, and T. Schacht, Proc. SPIE 1925, 155 (1993).
11. Y. Kawai, A. Otaka, A. Tanaka, and T. Matsuda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 7023 (1994).
12. F. M. Houlihan, E. Chin, O. Nalamasu, J. M. Kometani, and R. Harley, ACS Symp. Ser. 614, 84 (1995).
13. D. R. MacKean, U. Schaedeli, and S. A. MacDonald, ACS Symp. Ser. 412, 27 (1989).
14. L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi, and T. Iwayanagi, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 278 (1991).
15. J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi, and A. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 30, 2619 (1991).
16. T. Yoshimura, H. Shiraishi, and S. Okazaki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 6786 (1995).
17. T. H. Fedynyshyn, J. W. Thackeray, J. H. Georger, and M. D. Denison, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3888 (1994).
18. I. Raptis, L. Grella, P. Argitis, M. Gentili, N. Glezos, and G. Petrocco, Microelectron. Eng. 30, 295 (1995).