Effects of dopant concentration, crystallographic orientation, and crystal morphology on secondary electron emission from diamond

Journal of Applied Physics

Volumn 82, Issue 9, 1997, Pages 4538-4545

  Miller, John B ^a   Brandes, George R ^b  

^a WESTERN MICHIGAN UNIVERSITY   (United States)

^b Advanced Technology Materials Inc   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000033940     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.366256     Document Type: Article

References (36)

1. J. B. Pendry, J. Phys. C 13, 1159 (1980).
2. V. L. Alperovich, A. G. Paulish, H. E. Scheibler, and A. S. Terekhov, Appl. Phys. Lett. 66, 2122 (1995).
3. T. Abukawa, Y. Enta, T. Kashiwakura, S. Suzuki, and S. Kono, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 3205 (1990).
4. M. C. Benjamin, C. Wang, R. F. Davis, and R. J. Nemanich, Appl. Phys. Lett. 64, 3288 (1994).
5. R. U. Martinelli and D. G. Fisher, Proc. IEEE 62, 1339 (1974).
6. F. J. Himpsel, J. A. Knapp, J. A. Van Vechten, and D. E. Eastman, Phys. Rev. B 20, 624 (1979).
7. M. W. Geis, N. W. Efremow, J. D. Woodhouse, M. D. McAleese, M. Marchywka, D. G. Socker, and J. F. Hochedez, IEEE Electron Device Lett. 12, 456 (1991).
8. J. van der Weide, Z. Zhang, P. K. Baumann, M. G. Wensell, J. Bernholc, and R. J. Nemanich, Phys. Rev. B 50, 5803 (1994).
9. H. G. Maguire, Phys. Status Solidi B 76, 715 (1976).
10. P. G. Lurie and J. M. Wilson, Surf. Sci. 65, 476 (1977).
11. A. Hoffman, S. Prawer, and R. Kalish, Phys. Rev. B 45, 12736 (1992) and references therein.
12. H. Mullejans, A. L. Bleloch, A. Howie, and D. McMullan, Electron Microscopy and Analysis, edited by F. J. Humphreys (IOP, Bristol 1991), p. 117.
13. J. van der Weide and R. J. Nemanich, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2475 (1994).
14. J. B. Johnson, Phys. Rev. 92, 843 (1953).
15. T. L. Bekker, J. A. Dayton, Jr., A. S. Gilmour, Jr., I. L. Krainsky, M. F. Rose, R. Rameshan, D. File, and G. Mearini, Int. Electron Devices Manuscript 92, 949 (1992).
16. R. E. Thomas, T. P. Humphreys, C. Pettenkofer, D. P. Malta, J. B. Posthill, M. J. Mantini, R. A. Rudder, G. C. Hudson, and R. J. Markunas, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 416, 263 (1996).
17. D. P. Malta, J. B. Posthill, T. P. Humphreys, R. E. Thomas, G. G. Fountain, R. A. Rudder, G. C. Hudson, M. J. Mantini, and R. J. Markunas, Appl. Phys. Lett. 64, 1929 (1994).
18. T. P. Humphreys, D. P. Malta, R. E. Thomas, J. B. Posthill, M. J. Mantini, and R. J. Markunas, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 416, 133 (1996)
19. D. P. Malta, J. B. Posthill, T. P. Humphreys, M. J. Mantini, and R. J. Markunas, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 416, 263 (1996).
20. C. A. Fox, M. A. Kelly, S. B. Hagstrom, R. Cao, G. Vergara, P. Pianetta, L. S. Pan, and W. L. Hsu, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 416, 449 (1996).
21. G. T. Mearini, I. L. Krainsky, J. A. Dayton, Jr., Y. Wang, C. A. Zorman, J. C. Angus, and D. F. Anderson, Appl. Phys. Lett. 66, 242 (1995).
22. P. K. Baumann and R. J. Nemanich, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 416, 157 (1996).
23. M. Pitter, M. B. Hugenschmidt, and R. J. Behm, Appl. Phys. Lett. 68, 2508 (1996).
24. A. Shih, J. Yater, P. Pehrsson, J. Butler, C. Hor, and R. Abrams, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 416, 461 (1996).
25. Charles Evans and Associates, 301 Chesapeake Drive, Redwood City, CA 94063.
26. G. Ertl and J. Küppers, Low Energy Electrons and Surface Chemistry (VCH, Weinheim, 1985), pp. 9-11.
27. J. Narayan, A. R. Srivatsa, M. Peters, S. Yokota, and K. V. Ravi, Appl. Phys. Lett. 53, 1823 (1988).
28. C. Bandis, B. B. Pate, W. Phillips, M. A. Plano, M. D. Moyer, and M. A. Moreno, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 423, 771 (1996).
29. L. S. Pan, D. R. Kania, P. Pianetta, O. L. Landen, and Landstrass, Applications of Diamond Films and Related Materials, edited by Y. Tzeng, M. Yoshika, M. Murakawa, and A. Feldman, (Elsevier, Amsterdam, 1991), p. 341.
30. B. B. Pate, NASA Tri-Services Cathodes Workshop, Cleveland, OH, March 1994.
31. S. Valkealahti and R. M. Nieminen, Appl. Phys. A 35, 51 (1984).
32. G. T. Mearini, I. L. Krainsky, and J. A. Dayton, Jr., Surf. Interface Anal. 21, 138 (1994).
33. J. P. Boutot, J. Nussli, and D. Vallat, Adv. Electron. Electron Phys. 60, 223 (1983).
34. B. H. Candy, Rev. Sci. Instrum. 56, 183 (1985).
35. M. Yamashita, Rev. Sci. Instrum. 51, 768 (1980).
36. R. U. Martinelli and D. G. Fisher, Proc. IEEE 62, 1339 (1974).