Printing nanostructures with a propelled anti-pinning ink droplet

Advanced Functional Materials

Volumn 25, Issue 16, 2015, Pages 2411-2419

  Konvalina, Gady ^a   Leshansky, Alexander ^a   Haick, Hossam ^a  

^a TECHNION ISRAEL INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Israel)

Author keywords

droplet; electronic; nanoparticle; printing; propelled

Indexed keywords

DEPOSITION; NANOPARTICLES; PRINTING;

CONTROLLED DEPOSITION; CONTROLLED THICKNESS; DEPOSITION PATTERNS; ELECTRONIC; EVAPORATIVE DEPOSITION; MANUFACTURING PROCESS; PROPELLED; THICKNESS GRADIENTS;

DROPS;

EID: 85027951412     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201500215     Document Type: Article

References (32)

1. H. H. Lee, K. S. Chou, K. C. Huang, Nanotechnology 2005, 16, 2436.
2. J.-U. Park, M. Hardy, S. J. Kang, K. Barton, K. Adair, D. K. Mukhopadhyay, C. Y. Lee, M. S. Strano, A. G. Alleyne, J. G. Georgiadis, P. M. Ferreira, J. A. Rogers, Nature Mater. 2007, 6, 782.
3. D. A. Pardo, G. E. Jabbour, N. Peyghambarian, Adv. Mater. 2000, 12, 1249.
4. R. Parashkov, E. Becker, T. Riedl, H.-H. Johannes, K. Wolfgang, Proce. IEEE 2006, 93, 1321.
5. S. R. Forrest, Nature 2004, 428, 911.
6. S. H. Ko, H. Pan, C. P. Grigoropoulos, C. K. Luscombe, J. M. J. Frechet, D. Poulikakos, Nanotechnology 2007, 18, 345202.
7. F. Torrisi, T. Hasan, W. Wu, Z. Sun, A. Lombardo, T. S. Kulmala, G.-W. Hsieh, S. Jung, F. Bonaccorso, P. J. Paul, D. Chu, A. C. Ferrari, ACS Nano 2012, 6, 2992.
8. E. Chow, J. Herrmann, C. S. Barton, B. Raguse, L. Wieczorek, Anal. Chim. Acta 2009, 632, 135.
9. F. C. Krebs, M. Jorgensen, K. Norrman, O. Hagemann, J. Alstrup, T. D. Nielsen, J. Fyenbo, K. Larsen, J. Kristensen, Solar Energy Mater. Solar Cells 2009, 93, 422.
10. S. B. Fuller, E. J. Wilhelm, J. M. Jacobson, J. Microelectromech. Sys. 2002, 11, 54.
11. S.-I. Park, Y. Xiong, R.-H. Kim, P. Elvikis, M. Meitl, D.-H. Kim, J. Wu, J. Yoon, C.-J. Yu, Z. Liu, Y. Huang, K.-c. Hwang, P. Ferreira, X. Li, K. Choquette, J. A. Rogers, Science 2009, 325, 977.
12. C. Kim, M. Nogi, K. Suganuma, Y. Yamato, ACS Appl. Mater. Interfaces 2012, 4, 2168.
13. B. Y. Ahn, E. B. Duoss, M. J. Motala, X. Guo, S.-I. Park, Y. Xiong, J. Yoon, R. G. Nuzzo, J. A. Rogers, J. A. Lewis, Science 2009, 323, 1590.
14. R. D. Deegan, O. Bakajin, T. F. Dupont, G. Huber, S. R. Nagel, T. A. Witten, Phys. Rev. E 2000, 62, 756.
15. H.-Y. Kim, H. J. Lee, B. H. Kang, J. Col. Interface Sci. 2002, 247, 372.
16. A. Oron, S. H. Davis, S. G. Bankoff, Rev. Mod. Phys. 1997, 69, 931.
17. S. Bekki, M. Vignes-Adler, E. Nakache, P. M. Adler, J. Col. Interface Sci. 1990, 140, 492.
18. D. Pesach, A. Marmur, Langmuir 1987, 3, 519.
19. H. Hu, R. G. Larson, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 7090.
20. J. Park, J. Moon, Langmuir 2006, 22, 3506.
21. J. H. Snoeijer, N. Le Grand-Piteira, L. Limat, H. A. Stone, J. Eggers, Phys. Fluids 2007, 19, 042104.
22. L. M. Hocking, J. Fluid Mech. 1990, 211, 373.
23. R. Bhardwaj, X. Fang, D. Attinger, New J. Phys. 2009, 11, 075020.
24. M. Segev-Bar, G. Konvalina, H. Haick, Adv. Mater. 2015, DOI: 10.1002/adma.201405224.
25. A. A. Darhuber, S. M. Troian, Annu. Rev. Fluid Mech. 2005, 37, 425.
26. M. Segev-Bar, H. Haick, ACS Nano 2013, 7, 8366.
27. G. Konvalina, H. Haick, ACS Appl. Mater. Interface 2011, 4, 317.
28. M. Bashouti, W. Salalha, M. Brumer, E. Zussman, E. Lifshitz, ChemPhysChem 2006, 7, 102.
29. O. Assad, A. M. Leshansky, B. Wang, T. Stelzner, S. Christiansen, H. Haick, ACS Nano 2012, 6, 4702.
30. M. Brust, M. Walker, D. Bethell, D. J. Schiffrin, R. Whyman, J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1994, 7, 801.
31. V. Kloper, R. Osovsky, J. Kolny-Olesiak, A. Sashchiuk, E. Lifshitz, J. Phys. Chem. C 2007, 111, 10336.
32. M. Cloupeau, B. Prunet-Foch, J. Aerosol Sci. 1994, 25, 1021.