Measurement of Wenzel roughness factor by laser scanning confocal microscopy

RSC Advances

Volumn 7, Issue 12, 2017, Pages 7052-7059

  Hongru, Ai ^a   Xiangqin, Li ^a   Shuyan, Shi ^a   Ying, Zhang ^a   Tianqing, Liu ^a  

^a DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CONFOCAL MICROSCOPY; HYDROPHOBICITY; LASER APPLICATIONS; SURFACE ANALYSIS; SURFACE CHEMISTRY;

IRREGULAR SURFACE; LASER SCANNING CONFOCAL MICROSCOPY; PROJECTED AREA; REGULAR SURFACES; ROUGH SURFACES; ROUGHNESS FACTOR; SMALL ROUGHNESS; SUPER-HYDROPHOBIC SURFACES;

SURFACE ROUGHNESS;

EID: 85010417628     PISSN: None     EISSN: 20462069     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c6ra26897h     Document Type: Article

References (29)

1. R. N. Wenzel J. Phys. Chem. 1949 53 9 1466
2. Q. P. Ke G. L. Li T. G. Hao T. He X. M. Li Prog. Chem. 2010 22 2/3 284
3. N. Miljkovic R. Enright Y. Nam K. Lopez N. Dou J. Sack E. N. Wang Nano Lett. 2013 13 1 179
4. K. Rykaczewski A. T. Paxson S. Anand X. Chen Z. Wang K. K. Varanasi Langmuir 2013 29 3 881
5. A. Nakajima K. Hashimoto T. Watanabe Monatsh. Chem. 2001 132 31
6. G. Grevoisier P. Fabre J. M. Corpart L. Leibler Science 1999 285 5432 1246
7. K. R. Shull T. E. Karis Langmuir 1994 10 1 334
8. F. Rieutord M. Salmeron J. Phys. Chem. B 1998 102 20 3941
9. O. N. Tretirnikov Y. Ikada Macromolecules 1997 30 4 1086
10. D. Yoo S. S. Shiratori M. F. Rubner Macromolecules 1998 31 13 4309
11. A. F. Thunemann U. Schnoller O. Nayken B. Voit Macromolecules 2000 33 15 5665
12. A. F. Thunemann Langmuir 2000 16 2 824 828
13. C. H. Chen Q. Cai C. Tsai Appl. Phys. Lett. 2007 90 17 173108
14. C. Dietz K. Rykaczewski Appl. Phys. Lett. 2010 97 3 033104
15. N. Miljkovic R. Enright E. N. Wang ACS Nano 2012 6 2 1776
16. R. Enright N. Miljkovic A. Obeidi Langmuir 2012 28 40 14424
17. T. Q. Liu W. Sun X. Q. Li X. Y. Sun H. R. Ai Acta Phys.-Chim. Sin. 2013 29 8 1762
18. K. Rykaczewski W. A. Osborn J. Chinn M. L. Walker J. H. J. Scott W. Jones C. L. Hao S. H. Yao Z. K. Wang Soft Matter 2012 8 8786
19. K. Rykaczewski Langmuir 2012 28 7720
20. K. Rykaczewski J. H. J. Scott ACS Nano 2011 5 7 5962
21. N. J. Shirtcliffe G. McHale M. I. Newton Langmuir 2005 21 3 937
22. M. Nosonovsky B. Bhushan Ultramicroscopy 2007 107 10 969
23. A. L. Qu X. F. Wen P. H. Pi Acta Polym. Sin. 2007 12 1176
24. K. R. Khedir G. K. Kannarpady H. Ishihara Langmuir 2011 27 8 4661
25. J. Wang Y. Wang J. Gong W. Tang Modern Instrument 2009 15 4 50
26. X. Chen J. Wu R. Ma M. Hua N. Koratkar S. Yao Z. Wang Adv. Funct. Mater. 2011 21 24 4617
27. Y. F. Li Z. J. Yu Y. F. Yu S. B. Huo S. P. Song J. Chem. Eng. Chin. Univ. 2008 22 1 6
28. J. T. Han Y. Z. Ma Z. J. Wang Quality Control & Safety 2008 29 5 104
29. T. Junno S. B. Carlson H. Q. Xu L. Montelius L. Samuelson Appl. Phys. Lett. 1998 72 5 548