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Volumn 610, Issue , 2000, Pages B10.5.1-B10.5.5

Effects of nonmelt laser annealing on a 5keV boron implant in silicon

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EID: 85009892625     PISSN: 02729172     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1557/PROC-610-B10.5     Document Type: Article
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References (2)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.