Optical demagnetization in defect-mediated ferromagnetic ZnO:Cu films

Applied Physics Letters

Volumn 104, Issue 6, 2014, Pages

  Hu, L ^a   Zhu, L P ^a   He, H P ^a   Ye, Z Z ^a  

^a ZHEJIANG UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHARGE TRANSFER; COPPER; DEMAGNETIZATION; HEAVY IONS; MAGNETIC MOMENTS; MAGNETIC RESONANCE MEASUREMENT; MAGNETISM; METALLIC FILMS; OXYGEN VACANCIES; VACANCIES; ZINC OXIDE;

CHARGE TRANSFER PROCESS; CONTROL EXPERIMENTS; CORRELATED ELECTRONS; DEMAGNETIZATION EFFECT; REVERSIBLE PROCESS; SUBSTITUTIONAL CU; UV ILLUMINATIONS; VAPOR ANNEALING;

ZINC;

EID: 84922437020     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4865206     Document Type: Article

References (29)

1. L. Hu, J. Huang, H. P. He, L. P. Zhu, S. J. Liu, Y. Z. Jin, L. W. Sun, and Z. Z. Ye, Nanoscale 5, 3918 (2013). 10.1039/c3nr00136a
2. T. S. Herng, D. C. Qi, T. Berlijn, J. B. Yi, K. S. Yang, Y. Dai, Y. P. Feng, I. Santoso, C. Sanchez-Hanke, X. Y. Gao, Andrew T. S. Wee, W. Ku, J. Ding, and A. Rusydi, Phys. Rev. Lett. 105, 207201 (2010). 10.1103/PhysRevLett.105.207201
3. Q. Ma, J. T. Prater, C. Sudakar, R. A. Rosenberg, and J. Narayan, J. Phys.: Condens. Matter 24, 306002 (2012) 10.1088/0953-8984/24/30/306002.
4. T. S. Herng, S. P. Lau, S. F. Yu, J. S. Chen, and K. S. Teng, J. Magn. Magn. Mater. 315, 107 (2007). 10.1016/j.jmmm.2007.03.190
5. K. R. Kittilstved, D. A. Schwartz, A. C. Tuan, S. M. Heald, S. A. Chambers, and D. R. Gamelin, Phys. Rev. Lett. 97, 037203 (2006). 10.1103/PhysRevLett.97.037203
6. S.-Y. Zhuo, X.-C. Liu, Z. Xiong, J.-H. Yang, and E.-W. Shi, AIP Adv. 2, 012184 (2012). 10.1063/1.3698314
7. M. Ferhat, A. Zaoui, and R. Ahuja, Appl. Phys. Lett. 94, 142502 (2009). 10.1063/1.3112603
8. L. Hu, L. P. Zhu, H. P. He, Y. M. Guo, G. Y. Pan, J. Jiang, Y. Z. Jin, L. W. Sun, and Z. Z. Ye, Nanoscale 5, 9577 (2013). 10.1039/c3nr01979a
9. G. Z. Xing, G. C. Xing, M. J. Li, E. J. Sie, D. D. Wang, A. Sulistio, Q.-L. Ye, C. H. Alfred Huan, T. Wu, and T. C. Sum, Appl. Phys. Lett. 98, 102105 (2011). 10.1063/1.3558912
10. A. Tiwari, M. Snure, D. Kumar, and J. T. Abiade, Appl. Phys. Lett. 92, 062509 (2008). 10.1063/1.2857481
11. L. Q. Zhang, Z. Z. Ye, J. G. Lu, B. Lu, Y. Z. Zhang, L. P. Zhu, J. Zhang, D. Yang, K. W. Wu, J. Huang, and Z. Xie, J. Phys. D: Appl. Phys. 43, 015001 (2010). 10.1088/0022-3727/43/1/015001
12. R. Beaulac, L. Schneider, P. I. Archer, G. Bacher, and D. R. Gamelin, Science 325, 973 (2009). 10.1126/science.1174419
13. A. Pandey, S. Brovelli, R. Viswanatha, L. Li, J. M. Pietryga, V. I. Klimov, and S. A. Crooker, Nat. Nanotechnol. 7, 792 (2012). 10.1038/nnano.2012.210
14. D. Y. Pan, J. G. Wan, G. L. Xu, L. Y. Lv, Y. J. Wu, H. Min, J. M. Liu, and G. H. Wang, J. Am. Chem. Soc. 128, 12608 (2006). 10.1021/ja064094+
15. S. T. Ochsenbein, Y. Feng, K. M. Whitaker, E. Badaeva, W. K. Liu, X. S. Li, and D. R. Gamelin, Nat. Nanotechnol. 4, 681 (2009). 10.1038/nnano.2009.221
16. J. Wang, C. Sun, J. Kono, A. Oiwa, H. Munekata, L. Cywinski, and L. J. Sham, Phys. Rev. Lett. 95, 167401 (2005). 10.1103/PhysRevLett.95.167401
17. J. Wang, L. Cywinski, C. Sun, J. Kono, H. Munekata, and L. J. Sham, Phys. Rev. B 77, 235308 (2008). 10.1103/PhysRevB.77.235308
18. J. M. D. Coey, M. Venkatesan, and C. B. Fitzgerald, Nat. Mater. 4, 173 (2005). 10.1038/nmat1310
19. M. A. Reshchikov, V. Avrutin, N. Izyumskaya, R. Shimada, H. Morkoc, and S. W. Novak, J. Vac. Sci. Technol. B 27, 1749 (2009). 10.1116/1.3110023
20. N. Y. Garces, L. Wang, L. Bai, N. C. Giles, L. E. Halliburton, and G. Cantwell, Appl. Phys. Lett. 81, 622 (2002). 10.1063/1.1494125
21. H.-H. Huang, C.-A. Yang, P.-H. Huang, C.-H. Lai, T. S. Chin, H. E. Huang, H. Y. Bor, and R. T. Huang, J. Appl. Phys. 101, 09H116 (2007) 10.1063/1.2713210.
22. T. Zhu, W. S. Zhan, W. G. Wang, and J. Q. Xiao, Appl. Phys. Lett. 89, 022508 (2006). 10.1063/1.2221881
23. See supplementary material at http://dx.doi.org/10.1063/1.4865206 E-APPLAB-104-102406 for experimental details, ESR and TR-PL data of ETA-treated films, surface mass spectrum, and light-correlated I-V test.
24. D. L. Hou, X. J. Ye, H. J. Meng, H. J. Zhou, X. L. Li, C. M. Zhen, and G. D. Tang, Appl. Phys. Lett. 90, 142502 (2007). 10.1063/1.2719034
25. T. Dubroca, J. Hack, and R. Hummel, Phys. Rev. B 74, 026403 (2006). 10.1103/PhysRevB.74.026403
26. G. Z. Xing, J. B. Yi, J. G. Tao, T. Liu, L. M. Wong, Z. Zhang, G. P. Li, S. J. Wang, J. Ding, T. C. Sum, C. H. Alfred Huan, and T. Wu, Adv. Mater. 20, 3521 (2008). 10.1002/adma.200703149
27. D. Q. Gao, J. Zhang, G. J. Yang, J. Qi, M. S. Si, and D. S. Xue, J. Phys. Chem. C 115, 16405 (2011). 10.1021/jp201741m
28. H. B. Zeng, G. T. Duan, Y. Li, S. K. Yang, X. X. Xu, and W. P. Cai, Adv. Funct. Mater. 20, 561 (2010). 10.1002/adfm.200901884
29. N. S. Norberg, K. R. Kittilstved, J. E. Amonette, R. K. Kukkadapu, D. A. Schwartz, and D. R. Gamelin, J. Am. Chem. Soc. 126, 9387 (2004). 10.1021/ja048427j