Dependency of magnetic microwave absorption on surface architecture of Co20Ni80 hierarchical structures studied by electron holography

Nanoscale

Volumn 7, Issue 5, 2015, Pages 1736-1743

  Liu, Qinghe ^a   Xu, Xianhui ^b,c   Xia, Weixing ^b   Che, Renchao ^a   Chen, Chen ^a   Cao, Qi ^a   He, Jingang ^a  

^a FUDAN UNIVERSITY   (China)

^b SICHUAN NORMAL UNIVERSITY   (China)

^c NINGBO INSTITUTE OF MATERIALS TECHNOLOGY AND ENGINEERING   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BINARY ALLOYS; EDDY CURRENTS; ELECTROMAGNETIC SHIELDING; ELECTRON HOLOGRAPHY; MICROWAVES; MORPHOLOGY; SATURATION MAGNETIZATION;

ABSORPTION MECHANISMS; FLOWER-LIKE MORPHOLOGIES; HIERARCHICAL STRUCTURES; INDIVIDUAL PARTICLES; MICROWAVE ABSORPTION; MICROWAVE ABSORPTION PROPERTIES; SOLVOTHERMAL TREATMENT; SURFACE ARCHITECTURES;

COBALT ALLOYS;

EID: 84921789564     PISSN: 20403364     EISSN: 20403372     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c4nr05547k     Document Type: Article

References (47)

1. R. C. Che, L. M. Peng, X. F. Duan, Q. Chen and X. L. Liang, Adv. Mater., 2004, 16, 401.
2. N. Li, C. W. Hu and M. H. Cao, Phys. Chem. Chem. Phys., 2013, 15, 7685-7689.
3. H. Zhang, T. Yao, Z. H. Sun, Y. Y. Li, Q. H. Liu, F. C. Hu, Z. Y. Pan, B. He, Z. Xie and S. Q. Wei, J. Phys. Chem. C, 2010, 114, 13596-13600.
4. M. J. Hu, B. Lin and S. H. Yu, Nano Res., 2010, 1, 303-313.
5. J. J. Xu, J. W. Liu, R. C. Che, C. Y. Liang, M. S. Cao, Y. Li and Z. W. Liu, Nanoscale, 2014, 6, 5782-5790.
6. G. S. Wang, S. He, X. Luo, B. Wen, M. M. Lu, L. Guo and M. S. Cao, RSC Adv., 2013, 3, 18009-18015.
7. H. Wen, M. H. Cao, G. B. Sun, W. G. Xu, D. Wang, X. Q. Zhang and C. W. Hu, J. Phys. Chem. C, 2008, 112, 15948-15955.
8. R. F. Zhuo, H. T. Feng, Q. Liang, J. Z. Liu, J. T. Chen, D. Yan, J. J. Feng, H. J. Li, S. Cheng, B. S. Geng, X. Y. Xu, J. Wang, Z. G. Wu, P. X. Yan and G. H. Yue, J. Phys. D: Appl. Phys., 2008, 41, 185405.
9. M. Zhou, X. Zhang, J. Wei, S. Zhao, L. Wang and B. Feng, J. Phys. Chem. C, 2011, 115, 1398-1402.
10. Y. L. Yang, M. C. Gupta, K. L. Dudley and R. W. Lawrence, Adv. Mater., 2005, 17, 1999.
11. R. Ramasubramaniam, J. Chen and H. Liu, Appl. Phys. Lett., 2003, 83, 2928.
12. G. V. Kurlyandskaya, S. M. Bhagat, C. Luna and M. Vazquez, J. Appl. Phys., 2006, 99, 104308.
13. P. Toneguzzo, G. Viau, O. Acher, F. Fievet-Vincent and F. Fievet, Adv. Mater., 1998, 10, 1032.
14. J. Ahmed, S. Sharma, K. V. Ramanujachary, S. E. Lofland and A. K. Ganguli, J. Colloid Interface Sci., 2009, 336, 814-819.
15. Q. Liu, X. Guo, T. Wang, Y. Li and W. Shen, Mater. Lett., 2010, 64, 1271-1274.
16. W. Q. Feng, L. Yang, N. Cao, C. Du, H. M. Dai, W. Luo and G. Z. Cheng, Int. J. Hydrogen Energy, 2014, 39, 3371-3380.
17. M. Y. Rafique, L. Q. Pan, M. Z. Iqbal, Rafi-ud-din, H. M. Qiu, M. H. Farooq, Z. G. Guo and M. Ellahi, J. Nanopart. Res., 2013, 15, 1768.
18. O. Ergeneman, K. M. Sivaraman, S. Pané, E. Pellicer, A. Teleki, A. M. Hirt, M. D. Baró and B. J. Nelson, Electrochim. Acta, 2011, 56, 1399-1408.
19. M. J. Hu, Y. Lu, S. Zhang, S. R. Guo, B. Lin, M. Zhang and S. H. Yu, J. Am. Chem. Soc., 2008, 130, 11606-11607.
20. J. Bregado-Gutiérrez, A. J. Saldívar-García and H. F. Lopez, Mater. Lett., 2008, 62, 939-942.
21. D. Mercier, J. C. S. Levy, G. Viau, F. Fievet-Vincent, F. Fievet, P. Toneguzzo and O. Acher, Phys. Rev. B: Condens. Matter, 2000, 62, 532-544.
22. Y. D. Li, L. Q. Li, H. W. Liao and H. R. Wang, J. Mater. Chem., 1999, 9, 2675-2677.
23. R. Brayner, M. J. Vaulay, F. Fievet and T. Coradin, Chem. Mater., 2007, 19, 1190-1198.
24. D. Ung, Y. Soumare, N. Chakroune, G. Viau, M. J. Vaulay, V. Richard and F. Fievet, Chem. Mater., 2007, 19, 2084-2094.
25. A. Pereira, C. Gallardo, A. P. Espejo, J. Briones, L. G. Vivas, M. Vazquez, J. C. Denardin and J. Escrig, J. Nanopart. Res., 2013, 15, 2041.
26. K. Gandha, N. Poudyal, Q. Zhang and J. P. Liu, IEEE Trans. Magn., 2013, 49, 3273-3276.
27. L. G. Vivas, M. Vazquez, J. Escrig, S. Allende, D. Altbir, D. C. Leitao and J. P. Araujo, Phys. Rev. B: Condens. Matter, 2012, 85, 035439.
28. W. O. Rosa, L. G. Vivas, K. R. Pirota, A. Asenjo and M. Vazquez, J. Magn. Magn. Mater., 2012, 324, 3679-3682.
29. H. M. Zhang, X. L. Zhang, J. J. Zhang, Z. Y. Li and H. Y. Sun, J. Magn. Magn. Mater., 2013, 342, 69-73.
30. X.-Z. Li, X.-W. Wei and Y. Ye, Mater. Lett., 2009, 63, 578-580.
31. N. A. M. Barakat, K. A. Khalil, I. H. Mahmoud, M. A. Kanjwal, F. A. Sheikh and H. Y. Kim, J. Phys. Chem. C, 2010, 114, 15589-15593.
32. M. H. Rashid, M. Raula and T. K. Mandal, J. Mater. Chem., 2011, 21, 4904.
33. L.-P. Zhu, H.-M. Xiao and S.-Y. Fu, Eur. J. Inorg. Chem., 2007, 3947-3951.
34. M. Wen, Q. N. Wu, J. Peng, Q. S. Wu and C. X. Wang, J. Colloid Interface Sci., 2014, 416, 220-226.
35. Q. S. Chen, Z. Y. Zhou, G. C. Guo and S. G. Sun, Electrochim. Acta, 2013, 113, 694-705.
36. S. Fukami, H. Sato, M. Yamanouchi, S. Ikeda and H. Ohno, Appl. Phys. Express, 2013, 6, 073010.
37. D. U. Kim, R. Shanmugam, M. R. Choi and B. Yoo, Electrochim. Acta, 2012, 75, 42-48.
38. M. Wen, Y. F. Wang, F. Zhang and Q. S. Wu, J. Phys. Chem. C, 2009, 113, 5960-5966.
39. D.-E. Zhang, X.-M. Ni, X.-J. Zhang and H.-G. Zheng, J. Magn. Magn. Mater., 2006, 302, 290-293.
40. J. Liu, R. Che, H. Chen, F. Zhang, F. Xia, Q. Wu and M. Wang, Small, 2012, 8, 1214-1221.
41. H. Wang, Y. Y. Dai, W. J. Gong, D. Y. Geng, S. Ma, D. Li, W. Liu and Z. D. Zhang, Appl. Phys. Lett., 2013, 102, 223113.
42. A. Wei, T. Kasama and R. E. Dunin-Borkowski, J. Mater. Chem., 2011, 21, 16686-16693.
43. K. He, F. X. Ma, C. Y. Xu and J. Cumings, J. Appl. Phys., 2013, 113.
44. D. Shindo and Y. Murakami, J. Phys. D: Appl. Phys., 2008, 41, 53.
45. C. Wang, X. J. Han, P. Xu, J. Y. Wang, Y. C. Du, X. H. Wang, W. Qin and T. Zhang, J. Phys. Chem. C, 2010, 114, 3196-3203.
46. W. Zhou, K. Zheng, L. He, R. M. Wang, L. Guo, C. P. Chen, X. Han and Z. Zhang, Nano Lett., 2008, 8, 1147-1152.
47. N. Bagkar, K. Seo, H. Yoon, J. In, Y. Jo and B. Kim, Chem. Mater., 2010, 22, 1831-1835.