Distance dependent charge separation and recombination in semiconductor/molecular catalyst systems for water splitting

Chemical Communications

Volumn 50, Issue 84, 2014, Pages 12768-12771

  Reynal, Anna ^a   Willkomm, Janina ^b   Muresan, Nicoleta M ^b   Lakadamyali, Fezile ^b   Planells, Miquel ^a   Reisner, Erwin ^b   Durrant, James R ^a  

^a IMPERIAL COLLEGE LONDON   (United Kingdom)

^b UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

WATER;

AQUEOUS SOLUTION; ARTICLE; CATALYSIS; CATALYST; CHEMICAL STRUCTURE; CONTROLLED STUDY; ELECTRON TRANSPORT; REDUCTION; SEMICONDUCTOR; ULTRAVIOLET RADIATION;

EID: 84919749185     PISSN: 13597345     EISSN: 1364548X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c4cc05143b     Document Type: Article

References (30)

1. P. D. Tran, L. H. Wong, J. Barber, J. S. C. Loo: Energy Environ. Sci. 2012 5: 5902.
2. J. Yang, D. Wang, H. Han, C. Li: Acc. Chem. Res. 2013 46: 1900.
3. J. Huang, K. L. Mulfort, P. Du, L. X. Chen: J. Am. Chem. Soc. 2012 134: 16472.
4. A. Krawicz, J. Yang, E. Anzenberg, J. Yano, I. D. Sharp, G. F. Moore: J. Am. Chem. Soc. 2013 135: 11861.
5. J. M. Gardner, M. Beyler, M. Karnahl, S. Tschierlei, S. Ott, L. Hammarström: J. Am. Chem. Soc. 2012 134: 19322.
6. L. Li, L. Duan, F. Wen, C. Li, M. Wang, A. Hagfeldt, L. Sun: Chem. Commun. 2012 48: 988.
7. M. A. Gross, A. Reynal, J. R. Durrant, E. Reisner: J. Am. Chem. Soc. 2014 136: 356.
8. Z. Han, F. Qiu, R. Eisenberg, P. L. Holland, T. D. Krauss: Science 2012 338: 1321.
9. C. Gimbert-Surinach, J. Albero, T. Stoll, J. Fortage, M. N. Collomb, A. Deronzier, E. Palomares, A. Llobet: J. Am. Chem. Soc. 2014 136: 7655.
10. A. Reynal, F. Lakadamyali, M. A. Gross, E. Reisner, J. R. Durrant: Energy Environ. Sci. 2013 6: 3291.
11. J. N. Clifford, E. Palomares, M. K. Nazeeruddin, M. Grätzel, J. Nelson, X. Li, N. J. Long, J. R. Durrant: J. Am. Chem. Soc. 2004 126: 5225.
12. A. Reynal, A. Forneli, E. Martinez-Ferrero, A. Sanchez-Diaz, A. Vidal-Ferran, B. C. O'Regan, E. Palomares: J. Am. Chem. Soc. 2008 130: 13558.
13. A. Mishra, M. K. R. Fischer, P. Bäuerle: Angew. Chem., Int. Ed. 2009 48: 2474.
14. S. Sinn, B. Schulze, C. Friebe, D. G. Brown, M. Jäger, J. Kübel, B. Dietzek, C. P. Berlinguette, U. S. Schubert: Inorg. Chem. 2014 53: 1637.
15. S. M. Feldt, P. W. Lohse, F. Kessler, M. K. Nazeeruddin, M. Grätzel, G. Boschloo, A. Hagfeldt: Phys. Chem. Chem. Phys. 2013 15: 7087.
16. Y. Gao, L. Zhang, X. Ding, L. Sun: Phys. Chem. Chem. Phys. 2014 16: 12008.
17. F. Lakadamyali, E. Reisner: Chem. Commun. 2011 47: 1695.
18. N. M. Muresan, J. Willkomm, D. Mersch, Y. Vaynzof, E. Reisner: Angew. Chem., Int. Ed. 2012 51: 12749.
19. J. Willkomm, N. M. Muresan, and E. Reisner, in preparation.
20. F. Lakadamyali, A. Reynal, M. Kato, J. R. Durrant, E. Reisner: Chem. - Eur. J. 2012 18: 15464.
21. S. Ito, T. N. Murakami, P. Comte, P. Liska, C. Grätzel, M. K. Nazeeruddin, M. Grätzel: Thin Solid Films 2008 516: 4613.
22. J. Tang, J. R. Durrant, D. R. Klug: J. Am. Chem. Soc. 2008 130: 13885.
23. A. Yamakata, T.-a. Ishibashi, H. Onishi: J. Phys. Chem. B 2001 105: 7258.
24. J. Nelson: Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys. 1999 59: 15374.
25. A. J. Cowan, J. Tang, W. Leng, J. R. Durrant, D. R. Klug: J. Phys. Chem. C 2010 114: 4208.
26. J. F. Smalley, S. W. Feldberg, C. E. D. Chidsey, M. R. Linford, M. D. Newton, Y.-P. Liu: J. Phys. Chem. 1995 99: 13141.
27. S. A. Haque, S. Handa, K. Peter, E. Palomares, M. Thelakkat, J. R. Durrant: Angew. Chem., Int. Ed. 2005 44: 5740.
28. R. J. D. Miller, G. L. McLendon, A. J. Nozik, W. Schmickler, and F. Willig, Surface electron transfer processes, VCH, New York, 1995
29. J. R. Winkler, H. B. Gray: J. Am. Chem. Soc. 2014 136: 2930.
30. B. H. Solis, S. Hammes-Schiffer: Inorg. Chem. 2011 50: 11252.