Concentration dependent halogen-bond density in the 2D self-assembly of a thienophenanthrene derivative at the aliphatic acid/graphite interface

Chemical Communications

Volumn 50, Issue 64, 2014, Pages 9003-9006

  Zha, Bao ^a   Miao, Xinrui ^a   Liu, Pei ^a   Wu, Yumeng ^a   Deng, Wenli ^a  

^a SOUTH CHINA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALIPHATIC CARBOXYLIC ACID; DIMER; GRAPHITE; HALOGEN; PHENANTHRENE DERIVATIVE; TETRAMER;

ARTICLE; CHEMICAL BOND; CHEMICAL INTERACTION; CHEMICAL STRUCTURE; CRYSTAL STRUCTURE; DENSITY FUNCTIONAL THEORY; DIPOLE; DISSOCIATION; HYDROGEN BOND; PHASE TRANSITION; POLARIZATION; STATIC ELECTRICITY;

EID: 84904437656     PISSN: 13597345     EISSN: 1364548X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c4cc03687e     Document Type: Article

References (26)

1. S. S. Jester, E. Sigmund, S. Höger, J. Am. Chem. Soc., 2011, 133, 11062
2. T. Balandina, M. W. van der Meijden, O. Ivasenko, D. Cornil, J. Cornil, R. Lazzaroni, R. M. Kellogg, S. De Feyter, Chem. Commun., 2013, 49, 2207
3. W. Mamdouh, H. Uji-i, J. S. Ladislaw, A. E. Dulcey, V. Percec, F. C. De Schryver, S. De Feyter, J. Am. Chem. Soc., 2006, 128, 317
4. X. Zhang, T. Chen, Q. Chen, G. J. Deng, Q. H. Fan, L. J. Wan, Chem. - Eur. J., 2009, 15, 9669
5. C. Marie, F. Silly, L. Tortech, K. Mullen, D. Fichou, ACS Nano, 2010, 4, 1288
6. B. Ilan, G. M. Florio, M. S. Hybertsen, B. J. Berne, G. W. Flynn, Nano Lett., 2008, 8, 3160
7. M. Yu, N. Kalashnyk, W. Xu, R. Barattin, Y. Benjalal, E. Lægsgaard, I. Stensgaard, M. Hliwa, X. Bouju, A. Gourdon et al., ACS Nano, 2010, 7, 4097
8. R. Gutzler, S. Lappe, K. Mahata, M. Schmittel, W. M. Heckl, M. Lackinger, Chem. Commun., 2009, 680
9. P. M. Zalake, K. George Thomas, Langmuir, 2013, 29, 2242
10. F. Silly, J. Phys. Chem. C, 2012, 116, 10029
11. L. Xu, X. R. Miao, X. Ying, W. L. Deng, J. Phys. Chem. C, 2012, 116, 1061
12. L. Xu, X. R. Miao, B. Zha, K. Miao, W. L. Deng, J. Phys. Chem. C, 2013, 117, 12707
13. P. Metrangolo, G. Resnati, Chem. - Eur. J., 2001, 7, 2511
14. S.-K. Noh, J. H. Jeon, W. J. Jang, H. Kim, S. H. Lee, M. W. Lee, J. Lee, S. Han, S.-J. Kahng, ChemPhysChem, 2013, 14, 1177
15. J. Xu, X. Liu, J. K.-P. Ng, T. Lin, C. He, J. Mater. Chem., 2006, 16, 3540
16. J. K. Yoon, W. J. Son, K. H. Chung, H. Kim, S. Han, S. J. Kahng, J. Phys. Chem. C, 2011, 115, 2297
17. F. Wang, N. Ma, Q. Chen, W. Wang, L. Wang, Langmuir, 2007, 23, 9540
18. R. Gutzler, O. Ivasenko, C. Fu, J. L. Brusso, F. Rosei, D. F. Perepichka, Chem. Commun., 2011, 47, 9453
19. K.-H. Chung, J. Park, K. Y. Kim, J. K. Yoon, H. Kim, S. Han, S. J. Kahng, Chem. Commun., 2011, 47, 11492
20. H. Bertrand, F. Silly, M. P. Teulade-Fichou, L. Tortech, D. Fichou, Chem. Commun., 2011, 47, 10091
21. F. Silly, J. Phys. Chem. C, 2013, 117, 20244
22. M. M. S. Abdel-Mottaleb, G. Gotz, P. Kilickiran, P. Bauerle, E. Mena-Osteritz, Langmuir, 2006, 22, 1443
23. K. S. Mali, K. Lava, K. Binnemans, S. De Feyter, Chem. - Eur. J., 2010, 14447
24. H. F. Lieberman, R. J. Davey, D. M. T. Newsham, Chem. Mater., 2000, 12, 490
25. O. Navon, J. Bernstein, V. Khodorkovsky, Angew. Chem., Int. Ed., 1997, 36, 601
26. T. T. T. Bui, S. Dahaoui, C. E. Lecomte, G. R. Desiraju, E. Espinosa, Angew. Chem., Int. Ed., 2009, 48, 3838