Silicon-based thermoelectrics made from a boron-doped silicon dioxide nanocomposite

Chemistry of Materials

Volumn 25, Issue 24, 2013, Pages 4867-4873

  Snedaker, Matthew L ^a   Zhang, Yichi ^a   Birkel, Christina S ^a   Wang, Heng ^b   Day, Tristan ^b   Shi, Yifeng ^c   Ji, Xiulei ^d   Kraemer, Stephan ^e   Mills, Carolyn E ^a   Moosazadeh, Armin ^a   Moskovits, Martin ^a   Snyder, G Jeffrey ^b   Stucky, Galen D ^a,e  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

^b California Institute of Technology   (United States)

^c HANGZHOU NORMAL UNIVERSITY   (China)

^d OREGON STATE UNIVERSITY   (United States)

^e University of California   (United States)

Author keywords

germania; magnesiothermic reduction; silica; silicon germanium; thermoelectrics

Indexed keywords

ALLOYS; GERMANIUM; NANOCOMPOSITES; THERMOELECTRIC EQUIPMENT; THERMOELECTRIC POWER; THERMOELECTRICITY;

GERMANIA; MAGNESIOTHERMIC REDUCTION; SILICON GERMANIUM; THERMO-ELECTRIC MATERIALS; THERMOELECTRIC FIGURE OF MERIT; THERMOELECTRIC POWER FACTORS; THERMOELECTRIC PROPERTIES; THERMOELECTRICS;

SILICA;

EID: 84896510026     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm401990c     Document Type: Article

References (33)

1. Snyder, G. J.; Toberer, E. S. Nat. Mater. 2008, 7, 105-114
2. Minnich, A. J.; Dresselhaus, M. S.; Ren, Z. F.; Chen, G. Energy Environ. Sci. 2009, 2, 466-479
3. Bux, S. K.; Rodriguez, M.; Yeung, M. T.; Yang, C.; Makhluf, A.; Blair, R. G.; Fleurial, J.-P.; Kaner, R. B. Chem. Mater. 2010, 22, 2534-2540
4. Ikeda, T.; Haviez, L.; Li, Y.; Snyder, G. J. Small 2012, 8, 2350-2355
5. Yi, T.; Chen, S.; Li, S.; Yang, H.; Bux, S.; Bian, Z.; Katcho, N. A.; Shakouri, A.; Mingo, N.; Fleurial, J.-P.; Browning, N. D.; Kauzlarich, S. M. J. Mater. Chem. 2012, 22, 24805-24813
6. Dresselhaus, M. S.; Chen, G.; Tang, M. Y.; Yang, R. G.; Lee, H.; Wang, D. Z.; Ren, Z. F.; Fleurial, J.-P.; Gogna, P. Adv. Mater. 2007, 19, 1043-1053
7. Rowe, D. M.; Shukla, V. S.; Savvides, M. Nature 1981, 290, 765-766
8. Zhu, G. H.; Lee, H.; Lan, Y. C.; Wang, X. W.; Joshi, G.; Wang, D. Z.; Yang, J.; Vashaee, D.; Guilbert, H.; Pillitteri, A.; Dresselhaus, M. S.; Chen, G.; Ren, Z. F. Phys. Rev. Lett. 2009, 102, 196803
9. Bux, S. K.; Blair, R. G.; Gogna, P. K.; Lee, H.; Chen, G.; Dresselhaus, M. S.; Kaner, R. B.; Fleurial, J.-P. Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 2445-2452
10. Wang, X. W.; Lee, H.; Lan, Y. C.; Zhu, G. H.; Joshi, G.; Wang, D. Z.; Yang, J.; Muto, A. J.; Tang, M. Y.; Klatsky, J.; Song, S.; Dresselhaus, M. S.; Chen, G.; Ren, Z. F. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 193121
11. Joshi, G.; Lee, H.; Lan, Y.; Wang, X.; Zhu, G.; Wang, D.; Gould, R. W.; Cuff, D. C.; Tang, M. Y.; Dresselhaus, M. S.; Chen, G.; Ren, Z. F. Nano Lett. 2008, 8, 4670-4674
12. Zebarjadi, M.; Joshi, G.; Zhu, G.; Yu, B.; Minnich, A.; Lan, Y.; Wang, X.; Dresselhaus, M. S.; Ren, Z. F.; Chen, G. Nano Lett. 2011, 11, 2225-2230
13. Yu, B.; Zebarjadi, M.; Wang, H.; Lukas, K.; Wang, H.; Wang, D.; Opeil, C.; Dresselhaus, M. S.; Chen, G.; Ren, Z. F. Nano Lett. 2012, 12, 2077-2082
14. Shi, Y.; Zhang, F.; Hu, Y. S.; Sun, X.; Zhang, Y.; Lee, H. I.; Chen, L.; Stucky, G. D. J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 5552-5553
15. Fang, J.; Kang, C. B.; Huang, Y.; Tolbert, S. H.; Pilon, L. J. Phys. Chem. C 2012, 116, 12926-12933
16. Bao, Z.; Weatherspoon, M. R.; Shian, S.; Cai, Y.; Graham, P. D.; Allan, S. M.; Ahmad, G.; Dickerson, M. B.; Church, B. C.; Kang, Z.; Abernathy, H. W., III; Summers, C. J.; Liu, M.; Sandhage, K. H. Nature 2007, 446, 172-175
17. Coelho, A. TOPAS Academic, Version 4.1; Coelho Software: Brisbane, Australia, 2007.
18. Stöber, W.; Fink, A. J. Colloid Interface Sci. 1968, 26, 62-69
19. Strandwitz, N. C.; Stucky, G. D. Chem. Mater. 2009, 21, 4577-4582
20. Sze, S. M.; Irvin, J. C. Solid-State Electron. 1968, 11, 599-602
21. Parashar, V. K.; Orhan, J. B.; Sayah, A.; Cantoni, M.; Gijs, M. A. M. Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 589-594
22. van Grieken, R.; Escola, J. M.; Moreno, J.; Rodriguez, R. Chem. Eng. J. 2009, 155, 442-450
23. Szczech, J. R.; Lukowski, M. A.; Jin, S. J. Mater. Chem. 2010, 20, 8389-8393
24. Richman, E. K.; Kang, C. B.; Brezesinski, T.; Tolbert, S. H. Nano Lett. 2008, 8, 3075-3079
25. Dennis, L. M.; Tressler, K. M.; Hance, F. E. J. Am. Ceram. Soc. 1923, 45, 2033-2047
26. Dismukes, J. -P.; Ekstrom, L.; Paff, R. J. J. Phys. Chem. 1964, 68, 3021-3027
27. van der Pauw, L. J. Philips Res. Rep. 1958, 13, 1-9
28. Vining, C. B.; Laskow, W.; Hanson, J. O.; Van der Beck, R. R.; Gorsuch, P. D. J. Appl. Phys. 1991, 69, 4333-4340
29. Minnich, A. J.; Lee, H.; Wang, X. W.; Joshi, G.; Dresselhaus, M. S.; Ren, Z. F.; Chen, G.; Vashaee, D. Phys. Rev. B 2009, 80, 155327
30. Slack, G. A.; Hussain, M. A. J. Appl. Phys. 1991, 70, 2694-2718
31. Amano, T.; Beaudry, B. J.; Gschneidner, K. A.; Hartman, R.; Vining, C. B.; Alexander, C. A. J. Appl. Phys. 1987, 62, 819-823
32. Steigmeier, E. F.; Abeles, B. Phys. Rev. 1964, 136, A1149-A1155
33. LaLonde, A. D.; Ikeda, T.; Snyder, G. J. Rev. Sci. Instrum. 2011, 82, 025104