Crack-free periodic porous thin films assisted by plasma irradiation at low temperature and their enhanced gas-sensing performance

Chemistry - A European Journal

Volumn 19, Issue 40, 2013, Pages 13387-13395

  Dai, Zhengfei ^a   Jia, Lichao ^a   Duan, Guotao ^a   Li, Yue ^a   Zhang, Hongwen ^a   Wang, Jingjing ^a   Hu, Jinlian ^b   Cai, Weiping ^a  

^a INSTITUTE OF SOLID STATE PHYSICS   (China)

^b ANHUI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (China)

Author keywords

crack free; low temperature; plasma chemistry; porous thin films; sensors

Indexed keywords

CRACK FREE; HIGH-TEMPERATURE ANNEALING; HOMOGENEOUS STRUCTURE; LOW TEMPERATURES; LOW-TEMPERATURE FABRICATION; ORDERED POROUS THIN FILM; PLASMA CHEMISTRIES; POROUS THIN FILMS;

ACETONE; ANNEALING; CRACKS; IRRADIATION; METALLIC COMPOUNDS; OXIDE MINERALS; OXYGEN; PLASMAS; SENSORS; TEMPERATURE;

THIN FILMS;

EID: 84884812985     PISSN: 09476539     EISSN: 15213765     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/chem.201301137     Document Type: Article

References (55)

1. J. Kong, N. R. Franklin, C. W. Zhou, M. G. Chapline, S. Peng, K. J. Cho, H. J. Dai, Science 2000, 287, 622-625
2. A. Modi, N. Koratkar, E. Lass, B. Q. Wei, P. M. Ajayan, Nature 2003, 424, 171-174
3. J. S. Lee, O. S. Kwon, S. J. Park, E. Y. Park, S. A. You, H. Yoon, J. Jang, ACS Nano 2011, 5, 7992-8001.
4. F. Yang, D. K. Taggart, R. M. Penner, Nano Lett. 2009, 9, 2177-2182
5. X. G. Han, M. S. Jin, S. F. Xie, Q. Kuang, Z. Y. Jiang, Y. Q. Jiang, Z. X. Xie, L. S. Zheng, Angew. Chem. 2009, 121, 9344-9347
6. Angew. Chem. Int. Ed. 2009, 48, 9180-9183
7. S. Koch, R. K. Joshi, M. Noyong, J. Timper, J. J. Schneider, U. Simon, Chem. Eur. J. 2012, 18, 11614-11620.
8. M. E. Franke, T. J. Koplin, U. Simon, Small 2006, 2, 36-50
9. M. A. Lim, D. H. Kim, C. O. Park, Y. W. Lee, S. W. Han, Z. Y. Li, R. S. Williams, I. Park, ACS Nano 2012, 6, 598-608.
10. H. R. Kim, K. I. Choi, K. M. Kim, I. D. Kim, G. Z. Cao, J. H. Lee, Chem. Commun. 2010, 46, 5061-5063
11. Y. Li, W. Cai, G. Duan, Chem. Mater. 2008, 20, 615-624.
12. M. Cao, Y. Wang, T. Chen, M. Antonietti, M. Niederberger, Chem. Mater. 2008, 20, 5781-5786
13. C. Nayral, E. Viala, P. Fau, F. Senocq, J. C. Jumas, A. Maisonnat, B. Chaudret, Chem. Eur. J. 2000, 6, 4082-4090
14. X. Wang, X. G. Han, S. F. Xie, Q. Kuang, Y. Q. Jiang, S. B. Zhang, X. L. Mu, G. X. Chen, Z. X. Xie, L. S. Zheng, Chem. Eur. J. 2012, 18, 2283-2289.
15. J. M. Baik, M. Zielke, M. H. Kim, K. L. Turner, A. M. Wodtke, M. Moskovits, ACS Nano 2010, 4, 3117-3122.
16. V. V. Sysoev, E. Strelcov, M. Sommer, M. Bruns, I. Kiselev, W. Habicht, S. Kar, L. Gregoratti, M. Kiskinova, A. Kolmakov, ACS Nano 2010, 4, 4487-4494.
17. N. Du, H. Zhang, B. D. Chen, X. Y. Ma, Z. H. Liu, J. B. Wu, D. R. Yang, Adv. Mater. 2007, 19, 1641-1645.
18. J. X. Zhu, Z. Y. Yin, H. Li, H. T. Tan, C. L. Chow, H. Zhang, H. H. Hng, J. Ma, Q. Y. Yan, Small 2011, 7, 3458-3464
19. N. D. Hoa, S. A. El-Safty, Chem. Eur. J. 2011, 17, 12896-12901.
20. W. X. Zhang, S. H. Yang, Acc. Chem. Res. 2009, 42, 1617-1627.
21. Z. Y. Fan, J. C. Ho, T. Takahashi, R. Yerushalmi, K. Takei, A. C. Ford, Y. L. Chueh, A. Javey, Adv. Mater. 2009, 21, 3730-3743.
22. X. P. Li, J. H. Cho, P. Kurup, Z. Y. Gu, Sens. Actuators B 2012, 162, 251-258
23. X. L. Gou, G. X. Wang, X. Y. Kong, D. Wexler, J. Horvat, J. Yang, J. Park, Chem. Eur. J. 2008, 14, 5996-6002.
24. J. Y. Park, S.-W. Choi, S. S. Kim, J. Phys. Chem. C 2011, 115, 12774-12781.
25. S. K. Youn, N. Ramgir, C. Y. Wang, K. Subannajui, V. Cimalla, M. Zacharias, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 10092-10100.
26. Z. Zhang, R. Zou, G. Song, L. Yu, Z. Chen, J. Hu, J. Mater. Chem. 2011, 21, 17360-17365.
27. S. Kuchibhatla, A. S. Karakoti, D. Bera, S. Seal, Prog. Mater. Sci. 2007, 52, 699-913.
28. I. D. Kim, A. Rothschild, T. Hyodo, H. L. Tuller, Nano Lett. 2006, 6, 193-198
29. Y.-E. Chang, D.-Y. Youn, G. Ankonina, D.-J. Yang, H.-G. Kim, A. Rothschild, I.-D. Kim, Chem. Commun. 2009, 4019-4021.
30. L. C. Jia, W. P. Cai, H. Q. Wang, F. Q. Sun, Y. Li, ACS Nano 2009, 3, 2697-2705
31. L. C. Jia, W. P. Cai, H. Q. Wang, J. Mater. Chem. 2009, 19, 7301-7307
32. L. C. Jia, W. P. Cai, Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 3765-3773
33. L. C. Jia, W. P. Cai, H. Q. Wang, Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 103115.
34. K. L. Zhang, C. Rossi, C. Tenailleau, P. Alphonse, J. Y. Chane-Ching, Nanotechnology 2007, 18, 275607.
35. J. Wang, G. Duan, G. Liu, Y. Li, Z. Dai, H. Zhang, W. Cai, J. Mater. Chem. 2011, 21, 8816-8821
36. Z. Dai, Y. Li, G. Duan, L. Jia, W. Cai, ACS Nano 2012, 6, 6706-6716.
37. X. Chen, Z. Guo, W. H. Xu, H. B. Yao, M. Q. Li, J. H. Liu, X. J. Huang, S. H. Yu, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 2049-2056.
38. Y. Li, T. Sasaki, Y. Shimizu, N. Koshizaki, Small 2008, 4, 2286-2291.
39. H. Y. Jeong, D. S. Lee, H. K. Choi, D. H. Lee, J. E. Kim, J. Y. Lee, W. J. Lee, S. O. Kim, S. Y. Choi, Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 213105
40. H. Huang, H. Gong, C. L. Chow, J. Guo, T. J. White, M. S. Tse, O. K. Tan, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 2680-2686.
41. J. Zheng, R. Yang, L. Xie, J. L. Qu, Y. Liu, X. G. Li, Adv. Mater. 2010, 22, 1451-1473.
42. J. Goniakowski, M. J. Gillan, Surf. Sci. 1996, 350, 145-158.
43. L. Liu, Y. Zhang, G. Wang, S. Li, L. Wang, Y. Han, X. Jiang, A. Wei, Sens. Actuators B 2011, 160, 448-454.
44. J. P. Hoogenboom, C. Rétif, E. de Bres, M. van de Boer, A. K. van Langen-Suurling, J. Romijn, A. van Blaaderen, Nano Lett. 2004, 4, 205-208.
45. A. S. Kamble, R. C. Pawar, J. Y. Patil, S. S. Suryavanshi, P. S. Patil, J. Alloys Compd. 2011, 509, 1035-1039.
46. N. Yamazoe, K. Shimanoe, Sens. Actuators B. 2008, 128, 566-573.
47. G. Neri, A. Bonavita, G. Rizzo, S. Galvagno, N. Pinna, M. Niederberger, S. Capone, P. Siciliano, Sens. Actuators B 2007, 122, 564-571.
48. T. Wagner, C. D. Kohl, S. Morandi, C. Malagu, N. Donato, M. Latino, G. Neri, M. Tiemann, Chem. Eur. J. 2012, 18, 8216-8223.
49. F. Schedin, A. K. Geim, S. V. Morozov, E. W. Hill, P. Blake, M. I. Katsnelson, K. S. Novoselov, Nat. Mater. 2007, 6, 652-655.
50. T.-J. Hsueh, C.-L. Hsu, S.-J. Chang, I. C. Chen, Sens. Actuators B 2007, 126, 473-477.
51. Y. Liu, E. Koep, M. L. Liu, Chem. Mater. 2005, 17, 3997-4000
52. M. Tiemann, Chem. Eur. J. 2007, 13, 8376-8388.
53. Y. Chen, L. Yu, Q. Li, Y. Wu, Q. Li, T. Wang, Nanotechnology 2012, 23, 415501
54. A. Tricoli, M. Graf, S. E. Pratsinis, Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 1969-1976.
55. A. Rothschild, J. Appl. Phys. 2004, 95, 6374-6380.