Correlation between the stability of redox shuttles in Li ion cells and the reactivity defined by the binding energy of redox shuttle cations with ethyl radical

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 159, Issue 10, 2012, Pages

  Chen, J H ^a   He, L M ^a   Wang, R L ^a  

^a EAST CHINA UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BENZENE DERIVATIVES; COMPUTATIONAL MODEL; ETHYL RADICALS; MODEL REACTIONS; NITROGEN ATOM; OVERCHARGE PROTECTION; REDOX CENTERS; THREE CATEGORIES;

BINDING ENERGY; LITHIUM; MOLECULES; POSITIVE IONS;

STABILITY;

EID: 84875587932     PISSN: 00134651     EISSN: 19457111     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/2.034210jes     Document Type: Article

References (28)

1. R. L. Wang and J. R. Dahn, J. Electrochem. Soc., 153, A1922 (2006).
2. J. R. Dahn, J. Jiang, L. Moshurchak, C. Buhrmester, and R. L. Wang, Interface, 14, 27 (2005).
3. R. A. Leising, M. J. Palazzo, E. S. Takeuchi, and K. J. Takeuchi, J. Electrochem. Soc., 148, A838 (2001).
4. T. Ohsaki, T. Kishi, T. Kuboki, N. Takami, N. Shimura, Y. Sato, M. Sekino, and A. Satoh, J. Power Sources, 146, 97 (2005).
5. R. A. Leising, M. J. Palazzo, E. S. Takeuchi, and K. J. Takeuchi, J. Power Sources, 97-8, 681 (2001).
6. H. Wang and M.-C. Chen, Electrochem. Solid-State Lett., 9, A82 (2006).
7. K. M. Abraham, J. Electrochem. Soc., 137, 1856 (1988).
8. J. Chen, C. Buhrmester, and J. R. Dahn, Electrochem. Solid-State Lett., 8, A59 (2005).
9. J. R. Dahn, J. Jiang, M. D. Fleischauer, C. Buhrmester, and L. J. Krause, J. Electrochem. Soc., 152, A1283 (2005).
10. C. Buhrmester, J. Chen, L. Moshurchak, J. W. Jiang, R. L. Wang, and J. R. Dahn, J. Electrochem. Soc., 152, A2390 (2005).
11. C. Buhrmester, L. Moshurchak, R. L. Wang, and J. R. Dahn, J. Electrochem. Soc., 153, A288 (2006).
12. C. Buhrmester, L. Moshurchak, R. L. Wang, and J. R. Dahn, J. Electrochem. Soc., 153, A1800 (2006).
13. Z. Chen, Q. Wang, and K. Amine, J. Electrochem. Soc., 153, A2215 (2006).
14. Z. Chen and K. Amine, Electrochimica Acta, 53, 453 (2007).
15. R. L. Wang, L. M. Moshurchak, W. M. Lamanna, M. Bulinski, and J. R. Dahn, J. Electrochem. Soc., 155, A66 (2008).
16. Z. Chen, Y. Qin, and K. Amine, Electrochimica Acta, 54, 5605 (2009).
17. L. M. Moshurchak, W. M. Lamanna, Mike Bulinski, R. L. Wang, Rita R. Garsuch, Junwei Jiang, D. Magnuson, Matthew Triemert, and J. R. Dahn, J. Electrochem. Soc., 156, A309 (2009).
18. L. M. Moshurchak, C. Buhrmester, and J. R. Dahn, J. Electrochem. Soc., 155, A129 (2008).
19. R. L. Wang, C. Buhrmester, and J. R. Dahn, J. Electrochem. Soc., 153, A445 (2006).
20. J. M. Vollmer, L. A. Curtiss, D. R. Vissers, and K. Amine, J. Electrochem. Soc., 151, A178 (2004).
21. M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, M. A. Robb, J. R. Cheeseman, J. A. Montgomery, T. Vreven, Jr., K. N. Kudin, J. C. Burant, J. M. Millam, S. S. Iyengar, J. Tomasi, V. Barone, B. Mennucci, M. Cossi, G. Scalmani, N. Rega, G. A. Petersson, H. Nakatsuji, M. Hada, M. Ehara, K. Toyota, R. Fukuda, J. Hasegawa, M. Ishida, T. Nakajima, Y. Honda, O. Kitao, H. Nakai, M. Klene, X. Li, J. E. Knox, H. P. Hratchian, J. B. Cross, C. Adamo, J. Jaramillo, R. Gomperts, R. E. Stratmann, O. Yazyev, A. J. Austin, R. Cammi, C. Pomelli, J. W. Ochterski, P. Y. Ayala, K. Morokuma, G. A. Voth, P. Salvador, J. J. Dannenberg, V. G. Zakrzewski, S. Dapprich, A. D. Daniels, M. C. Strain, O. Farkas, D. K. Malick, A. D. Rabuck, K. Raghavachari, J. B. Foresman, J. V. Ortiz, Q. Cui, A. G. Baboul, S. Clifford, J. Cioslowski, B. B. Stefanov, G. Liu, A. Liashenko, P. Piskorz, I. Komaromi, R. L. Martin, D. J. Fox, T. Keith, M. A. Al-Laham, C. Y. Peng, A. Nanayakkara, M. Challacombe, P. M. W. Gill, B. Johnson, W. Chen, M. W. Wong, C. Gonzalez, and J. A. Pople, Gaussian 03, Revision C.02, Gaussian Inc., Wallingford, CT (2004).
22. A. D. Becke, J. Chem. Phys., 98, 5648 (1993).
23. C. Lee, W. Yang, and R. G. Parr, Phys. Rev. B, 37, 785 (1988).
24. S. Miertus and J. Tomasi, Chem. Phys., 65, 239 (1982).
25. L. M. Moshuchak, C. Buhrmester, R. L. Wang, and J. R. Dahn, Electrochimica Acta, 52, 3779 (2007).
26. J.-H. Chen, L.-M. He, and R. L. Wang (to be submitted).
27. J. K. Feng, X. P. Ai, Y. L. Cao, and H. X. Yang, Electrochem. Commun., 9, 25 (2007).
28. L. M. Moshuchak, M. Bulinski, W. M. Lamanna, R. L. Wang, and J. R. Dahn, Electrochem. Commun., 9, 1497 (2007).