Understanding the stability of aromatic redox shuttles for overcharge protection of lithium-ion cells

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 153, Issue 12, 2006, Pages

  Chen, Zonghai ^a,b   Wang, Qingzheng ^a   Amine, K ^a  

^a ARGONNE NATIONAL LABORATORY   (United States)

^b ELECTROCHEMICAL SOCIETY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AROMATIC REDOX SHUTTLES; LITHIUM-ION CELLS; RADICAL CATIONS; REDOX POTENTIAL;

AROMATIC COMPOUNDS; ATOMIC PHYSICS; MOLECULAR DYNAMICS; POSITIVE IONS; REDOX REACTIONS; ROBUSTNESS (CONTROL SYSTEMS);

LITHIUM BATTERIES;

EID: 33750844474     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2352048     Document Type: Article

References (32)

1. R. A. Leising, M. J. Palazzo, E. S. Takeuchi, and K. J. Takeuchi, J. Electrochem. Soc., 148, A838 (2001).
2. T. Ohsaki, T. Kishi, T. Kuboki, N. Takami, N. Shimura, Y. Sato, M. Sekino, and A. Satoh, J. Power Sources, 146, 97 (2005).
3. R. A. Leising, M. J. Palazzo, E. S. Takeuchi, and K. J. Takeuchi, J. Power Sources, 97-8, 681 (2001).
4. H. Wang and M.-C. Chen, Electrochem. Solid-State Lett., 9, A82 (2006).
5. L. F. Xiao, X. P. Ai, Y. L. Cao, Y. D. Wang, and H. X. Yang, Electrochem. Commun., 7, 589 (2005).
6. K. E. Thomas-Alyea, J. Newman, G. Y. Chen, and T. J. Richardson, J. Electrochem. Soc., 151, A509 (2004).
7. G. Y. Chen and T. J. Richardson, Electrochem. Solid-State Lett., 9, A24 (2006).
8. G. Y. Chen and T. J. Richardson, Electrochem. Solid-State Lett., 7, A23 (2004).
9. G. Y. Chen, K. E. Thomas-Alyea, J. Newman, and T. J. Richardson, Electrochim. Acta, 50, 4666 (2005).
10. L. F. Xiao, X. P. Ai, Y. L. Cao, and H. X. Yang, Electrochim. Acta, 49, 4189 (2004).
11. X. M. Feng, X. P. Ai, and H. X. Yang, J. Appl. Electrochem., 34, 1199 (2004).
12. K. Amine, J. Liu, K. Jambunathan, B. K. Peterson, and G. Dantsin, U. S. Pat. 2005/0227143 A1 (2005).
13. J. R. Dahn and J. Chen, U. S. Pat. 2005/0221168 A1 (2005).
14. J. R. Dahn, J. Chen, and C. Buhrmester, U. S. Pat. 2005/0221196 A1 (2005).
15. K. M. Abraham, J. F. Rohan, C. C. Foo, and D. M. Pasquariello, U. S. Pat. 5,858,573 (1999).
16. T. J. Richardson and P. N. Ross, Jr., International Pat. WO 01/29920 A1 (2001).
17. M. Adachi, U. S. Pat. 5,763,119 (1998).
18. M. Adachi, K. Tanaka, and K. Sekai, J. Electrochem. Soc., 146, 1256 (1999).
19. D. Y. Lee, H. S. Lee, H. S. Kim, H. Y. Sun, and D. Y. Seung, Korean J. Chem. Eng., 19, 645 (2002).
20. C. Buhrmester, J. Chen, L. Moshurchak, J. W. Jiang, R. L. Wang, and J. R. Dahn, J. Electrochem. Soc., 152, A2390 (2005).
21. J. R. Dahn, J. W. Jiang, L. Moshurchak, C. Buhrmester, and R. L. Wang, Interface (USA), 14, 27 (2005).
22. L. M. Moshurchak, C. Buhrmester, and J. R. Dahn, J. Electrochem. Soc., 152, A1279 (2005).
23. J. R. Dahn, J. W. Jiang, L. M. Moshurchak, M. D. Fleischauer, C. Buhrmester, and L. J. Krause, J. Electrochem. Soc., 152, A1283 (2005).
24. J. Chen, C. Buhrmester, and J. R. Dahn, Electrochem. Solid-State Lett., 8, A59 (2005).
25. R. L. Wang, C. Buhrmester, and J. R. Dahn, J. Electrochem. Soc., 153, A445 (2006).
26. M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, M. A. Robb, J. R. Cheeseman, J. A. Montgomery, T. Vreven, Jr., K. N. Kudin, J. C. Burant, J. M. Millam, S. S. Iyengar, J. Tomasi, V. Barone, B. Mennucci, M. Cossi, G. Scalmani, N. Rega, G. A. Petersson, H. Nakatsuji, M. Hada, M. Ehara, K. Toyota, R. Fukuda, J. Hasegawa, M. Ishida, T. Nakajima, Y. Honda, O. Kitao, H. Nakai, M. Klene, X. Li, J. E. Knox, H. P. Hratchian, J. B. Cross, C. Adamo, J. Jaramillo, R. Gomperts, R. E. Stratmann, O. Yazyev, A. J. Austin, R. Cammi, C. Pomelli, J. W. Ochterski, P. Y. Ayala, K. Morokuma, G. A. Voth, P. Salvador, J. J. Dannenberg, V. G. Zakrzewski, S. Dapprich, A. D. Daniels, M. C. Strain, O. Farkas, D. K. Malick, A. D. Rabuck, K. Raghavachari, J. B. Foresman, J. V. Ortiz, Q. Cui, A. G. Baboul, S. Clifford, J. Cioslowski, B. B. Stefanov, G. Liu, A. Liashenko, P. Piskorz, I. Komaromi, R. L. Martin, D. J. Fox, T. Keith, M. A. Al-Laham, C. Y. Peng, A. Nanayakkara, M. Challacombe, P. M. W. Gill, B. Johnson, W. Chen, M. W. Wong, C. Gonzalez, and J. A. Pople, Gaussian 03, Revision C.02, Gaussian Inc., Wallingford CT (2004).
27. A. D. Becke, J. Chem. Phys., 98, 5648 (1993).
28. C. T. Lee, W. T. Yang, and R. G. Parr, Phys. Rev. B, 37, 785 (1988).
29. G. Q. Shi, C. Li, and Y. Q. Liang, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.), 11, 1145 (1999).
30. J. Simonet, Pure Appl. Chem., 70, 1253 (1998).
31. K. Abe, T. Takaya, H. Yoshitake, Y. Ushigoe, M. Yoshio, and H. Wang, Electrochem. Solid-State Lett., 7, A462 (2004).
32. M. C. Demartinez, O. P. Marquez, J. Marquez, F. Hahn, B. Beden, P. Crouigneau, A. Rakotondrainibe, and C. Lamy, Synth. Met., 88, 187 (1997).