Fabrication of dielectric poly (4-vinylphenol) thin films by using the electrohydrodynamic atomization technique

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 62, Issue 2, 2013, Pages 269-274

  Choi, Kyung Hyun ^a   Ali, Adnan ^a   Kim, Hyung Chan ^a   Hyun, Myung Taek ^a  

^a Jeju National University   (South Korea)

Author keywords

Dielectric thin film; Electrohydrodynamic atomization; PET; PVP; Transmittance

Indexed keywords

EID: 84873246547     PISSN: 03744884     EISSN: 19768524     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.62.269     Document Type: Article

References (34)

1. M. Mizukami et al., IEEE Electron Device Lett. 27, 4, 249 (2006).
2. G. Gu and M. G. Kane, Appl. Phys. Lett. 92, 053305 (2008).
3. S. Lee, B. Koo, J. Shin, E. Lee, H. Park and H. Kim, Appl. Phys. Lett. 88, 162109 (2006).
4. L. Jiang, J. Zhang, D. Gamota and C. G. Takoudis, Org. Electron. 11, 959 (2010).
5. G. T. Carlson and B. L. Illman, Am. J. Phys. 70, 1122 (2002).
6. T. H. Kim, C. G. Han and C. K. Song, Thin Solid Films 516, 1232 (2008).
7. Y. Choi, H. Kim, K. Sim, K. C. Park, C. Im and S. Pyo, Org. Electron. 10, 1209 (2009).
8. H. T. Ochs and R. R. Czys, Nature 327, 606 (1987).
9. J. U. Park, S. Lee, S. Unarunotai, Y. Sun, S. Dunham, T. Song, P. M. Ferreira, A. G. Alleyene, U. Paik and J. A. Rogers, Nano Lett. 10, 584 (2010).
10. Z. M. Huang, Y. Z. Zhang, M. Kotaki and S. Ramakrishna, S. Compos. Sci. Technol. 63, 2223 (2003).
11. G. I. Taylor, Proc. R. Soc. London, Ser. A 313, 453 (1969).
12. M. S. Oh, K. Lee, K. H. Lee, S. H. Cha, J. M. Choi, B. H. Lee, M. M. Sung and S. Im, Adv. Funct. Mater. 19, 726 (2009).
13. D. K. Hwang, K. Lee, J. H. Kim, S. Im, J. H. Park, E. Kim, C. S. Kim and H. K. Baik, Electrochem. Solid-State Lett. 10, H117 (2007).
14. J. Zeleny, Phys. Rev. 3, 69 (1914).
15. G. I. Taylor, Proc. R. Soc. London, Ser. A 313, 453 (1969).
16. M. Cloupeau and B. Prunet-Foch, J. Electrostat. 25, 165 (1990).
17. K. Rahman, A. Khan, N. M. Nam, K.-H. Choi and D. S. Kim, Int. J. Precis. Eng. Manuf. 12, 663 (2011).
18. A. Jaworek and A. Krupa, J. Aerosol Sci. 30, 873 (1999).
19. S. R. Samarasinghe, I. Pastoriza-Santos, M. J. Edirisinghe and L. M. Liz-Marzan, Appl. Phys. A 91, 141 (2008).
20. N. M. Muhammad, S. Sundharam, H. W. Dang, A. Lee, B. H. Ryu and K. H. Choi, Curr. Appl. Phys. 11, S68 (2011).
21. C. H. Chen and J. Schoonman, J. Ind. Eng. Chem. 10, 1114 (2004).
22. A. Jaworek, A. Krupa, A. T. Sobczyk, M. Lackowski, T. Czech, S. Ramakrishna, S. Sundarrajan and D. Pliszka, Solid State Phenom. 140, 127 (2008).
23. I. B. Rietveld, K. Kobayashi, H. Yamada and K. Matsushige, J. Colloid Interface Sci. 2, 639 (2006).
24. C. H. Park and J. H. Lee, J. Appl. Polym. Sci. 1, 430 (2009).
25. A. Khan, K. Rahman, M. T. Hyun, D. S. Kim and K. H. Choi, Appl. Phys. A 104, 1113 (2011).
26. N. M. Muhammad, A. M. Naeem, N. Duraisamy, D. S. Kim and K. H. Choi, Thin Solid Films 520, 1751 (2012).
27. N. M. Muhammad, S. Sundharam, H. W. Dang, A. Lee, B. H. Ryu and K. H. Choi, Curr. Appl. Phys. 11, S68 (2011).
28. K. H. Choi, M. Mustafa, K. Rahman, B. K. Jeong and Y. H. Doh, Appl. Phys. A 106, 165 (2012).
29. A. Khan, K. Rahman, D. S. Kim and K. H. Choi, J. Mater. Process. Technol. 212, 700 (2011).
30. K. Rahman, J. B. Ko, S. Khan, D. S. Kim and K. H. Choi, J. Mech. Sci. Technol. 24, 307 (2010).
31. K. H. Choi, A. Ali, A. Rahman, N. M. Mohammad, K. Rahman, A. Khan, S. Khan and D. Kim, J. Micromech. Microeng. 20, 075033 (2010).
32. K. Rahman, A. Khan, N. M. Nam, K. H. Choi and D. S. Kim, Int. J. Precis. Eng. Manuf. 4, 663 (2011).
33. R. Hartman, D. Brunner, D. Camelot, J. Marijnissen and B. Scarlett, J. Aerosol Sci. 1, 65 (2000).
34. I. Hayati, A. Bailey and T. F. Tadros, Nature 319, 41 (1986).