-
2
-
-
24344453013
-
-
C. W. Chu, C. W. Chen, S. H. Li, E. H. E. Wu, and Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 86, 253503 (2005
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 253503
-
-
Chu, C.W.1
Chen, C.W.2
Li, S.H.3
Wu, E.H.E.4
Yang, Y.5
-
4
-
-
33645137341
-
-
B. C. Krummacher, V. E. Choong, M. K. Mathai, S. A. Choulis, and F. So, Appl. Phys. Lett. 88, 113506 (2006
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 113506
-
-
Krummacher, B.C.1
Choong, V.E.2
Mathai, M.K.3
Choulis, S.A.4
So, F.5
-
5
-
-
55849085041
-
-
Y.-H. Kim, S.-H. Lee, H.-S. Yoon, J.-Y. Choi, S. S. Shin, S. J. Chae, J.-H. Seo, J.-H. Seo, Y.-K. Kim, and W.-Y. Kim, J. Nanosci. Nanotechnol. 8, 4579 (2008
-
(2008)
J. Nanosci. Nanotechnol.
, vol.8
, pp. 4579
-
-
Kim, Y.-H.1
Lee, S.-H.2
Yoon, H.-S.3
Choi, J.-Y.4
Shin, S.S.5
Chae, S.J.6
Seo, J.-H.7
Seo, J.-H.8
Kim, Y.-K.9
Kim, W.-Y.10
-
6
-
-
77955002216
-
-
J. S. Yang, D. C. Choo, T. W. Kim, Y. Y. Jin, J. H. Seo, and Y. K. Kim, J. Nanosci. Nanotechnol. 10, 3619 (2010
-
(2010)
J. Nanosci. Nanotechnol.
, vol.10
, Issue.3619
-
-
Yang, J.S.1
Choo, D.C.2
Kim, T.W.3
Jin, Y.Y.4
Seo, J.H.5
Kim, Y.K.6
-
7
-
-
31744448368
-
-
J. H. Jou, Y. S. Chiu, R. Y. Wang, H. C. Hu, C. P. Wang, and H. W. Lin, Org. Electron. 7, 8 (2006
-
(2006)
Org. Electron.
, vol.7
, pp. 8
-
-
Jou, J.H.1
Chiu, Y.S.2
Wang, R.Y.3
Hu, H.C.4
Wang, C.P.5
Lin, H.W.6
-
8
-
-
67650458130
-
-
J. H. Jou, M. H. Wu, S. M. Shen, H. C. Wang, S. Z. Chen, S. H. Chen, C. R. Lin, and Y. L. Hsieh, Appl. Phys. Lett. 95, 013307 (2009
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 013307
-
-
Jou, J.H.1
Wu, M.H.2
Shen, S.M.3
Wang, H.C.4
Chen, S.Z.5
Chen, S.H.6
Lin, C.R.7
Hsieh, Y.L.8
-
9
-
-
33846589869
-
-
E. L. Williams, K. Haavisto, J. Li, and G. E. Jabbour, Adv. Mater. 19, 197 (2007
-
(2007)
Adv. Mater.
, vol.19
, pp. 197
-
-
Williams, E.L.1
Haavisto, K.2
Li, J.3
Jabbour, G.E.4
-
10
-
-
42349102358
-
-
S. H. Ju, J. F. Li, J. Liu, P. C. Chen, Y. G. Ha, F. Ishikawa, H. Chang, C. Zhou, A. Facchetti, D. B. Janes, and T. J. Marks, Nano Lett. 8, 997 (2008
-
(2008)
Nano Lett.
, vol.8
, pp. 997
-
-
Ju, S.H.1
Li, J.F.2
Liu, J.3
Chen, P.C.4
Ha, Y.G.5
Ishikawa, F.6
Chang, H.7
Zhou, C.8
Facchetti, A.9
Janes, D.B.10
Marks, T.J.11
-
11
-
-
77953316522
-
-
A. Rizzo, N. Solin, L. J. Lindgren, M. R. Andersson, and O. Inganas, Nano Lett. 10, 2225 (2010
-
(2010)
Nano Lett.
, vol.10
, Issue.2225
-
-
Rizzo, A.1
Solin, N.2
Lindgren, L.J.3
Andersson, M.R.4
Inganas, O.5
-
13
-
-
84861703126
-
-
A. R. Duggal, J. J. Shiang, C. M. Heller, and D. F. Foust, Appl. Phys. Lett. 80, 13 (2002
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.80
, pp. 13
-
-
Duggal, A.R.1
Shiang, J.J.2
Heller, C.M.3
Foust, D.F.4
-
15
-
-
77951089629
-
-
K. H. Lee, L. L. Kang, J. Y. Lee, S. Kang, S. O. Jeon, K. S. Yook, J. Y. Lee, and S. S. Yoon, Adv. Funct. Mater. 20, 1345 (2010
-
(2010)
Adv. Funct. Mater.
, vol.20
, Issue.1345
-
-
Lee, K.H.1
Kang, L.L.2
Lee, J.Y.3
Kang, S.4
Jeon, S.O.5
Yook, K.S.6
Lee, J.Y.7
Yoon, S.S.8
-
16
-
-
75249099279
-
-
S. H. Cho, J. R. Oh, H. K. Park, H. K. Kim, Y. H. Lee, J. G. Lee, and Y. R. Do, Opt. Express 18, 1099 (2010
-
(2010)
Opt. Express
, vol.18
, pp. 1099
-
-
Cho, S.H.1
Oh, J.R.2
Park, H.K.3
Kim, H.K.4
Lee, Y.H.5
Lee, J.G.6
Do, Y.R.7
-
17
-
-
25844475902
-
-
D. Y. Kong, M. Yu, C. K. Lin, X. M. Liu, J. Lin, and J. Fang, J. Electrochem. Soc. 152, H146 (2005
-
(2005)
J. Electrochem. Soc.
, vol.152
-
-
Kong, D.Y.1
Yu, M.2
Lin, C.K.3
Liu, X.M.4
Lin, J.5
Fang, J.6
-
18
-
-
77958588084
-
-
S. D. Ahn, H. S. Jung, D. C. Choo, T. W. Kim, J. Y. Lee, J. H. Park, and M. S. Kwon, J. Electrochem. Soc. 157, J238 (2010
-
(2010)
J. Electrochem. Soc.
, vol.157
-
-
Ahn, S.D.1
Jung, H.S.2
Choo, D.C.3
Kim, T.W.4
Lee, J.Y.5
Park, J.H.6
Kwon, M.S.7
-
19
-
-
23144454442
-
-
T. Murata, T. Tanoue, M. Iwasaki, K. Morinaga, and T. Hase, J. Lumin. 114, 207 (2005
-
(2005)
J. Lumin.
, vol.114
, pp. 207
-
-
Murata, T.1
Tanoue, T.2
Iwasaki, M.3
Morinaga, K.4
Hase, T.5
|