-
1
-
-
32644439989
-
-
Locke, B. R.; Sato, M.; Sunka, P.; Hoffmann, M. R.; Chang, J.-S.; Ind. Eng. Chem. Res. 2006, 45, 882.
-
(2006)
Ind. Eng. Chem. Res.
, vol.45
, pp. 882
-
-
Locke, B.R.1
Sato, M.2
Sunka, P.3
Hoffmann, M.R.4
Chang, J.-S.5
-
3
-
-
80052238706
-
-
Wan-Li, Taipei, Taiwan
-
Chen, Y.-C; Lee, H. -M; Huang, M. -H; Chen, S. -H.; Proceedings of the 6th International Symposium on Non-Thermal Plasma Technology, Wan-Li, Taipei, Taiwan, 2008.
-
(2008)
Proceedings of the 6th International Symposium on Non-Thermal Plasma Technology
-
-
Chen, Y.-C.1
Lee, H.-M.2
Huang, M.-H.3
Chen, S.-H.4
-
4
-
-
50849124734
-
-
Brisset, J-. L.; Moussa, D.; Doubla, A.; Hnatiuc, E.; Hnatiuc, B.; Youbi, G. K.; Herry, J-. M.; Naïtali, M.; Bellon-Fontaine, M-. N.; Ind. Eng. Chem. Res. 2008, 47, 5761.
-
(2008)
Ind. Eng. Chem. Res.
, vol.47
, pp. 5761
-
-
Brisset, J.L.1
Moussa, D.2
Doubla, A.3
Hnatiuc, E.4
Hnatiuc, B.5
Youbi, G.K.6
Herry, J.M.7
Naïtali, M.8
Bellon-Fontaine, M.N.9
-
5
-
-
29744445460
-
-
Burlica, R.; Kirkpatrick, M. J.; Locke, B. R.; J. Electrostat. 2006, 64, 35.
-
(2006)
J. Electrostat.
, vol.64
, pp. 35
-
-
Burlica, R.1
Kirkpatrick, M.J.2
Locke, B.R.3
-
7
-
-
0036671792
-
-
Malik, M. A.; Ubaid-ur-Rehman; Ghaffar, A.; Ahmed, K.; Plasma Sources Sci. Technol. 2002, 11, 236.
-
(2002)
Plasma Sources Sci. Technol.
, vol.11
, pp. 236
-
-
Malik, M.A.1
Ubaid-Ur-Rehman2
Ghaffar, A.3
Ahmed, K.4
-
8
-
-
48649109210
-
-
Wang, H.; Li, J.; Quan, X.; Wu, Y.; Appl. Catal., B 2008, 83, 72.
-
(2008)
Appl. Catal. B
, vol.83
, pp. 72
-
-
Wang, H.1
Li, J.2
Quan, X.3
Wu, Y.4
-
9
-
-
13844255821
-
-
Lukes, P.; Clupek, M.; Babicky, V.; Janda, V.; Sunka, P.; J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, 409.
-
(2005)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.38
, pp. 409
-
-
Lukes, P.1
Clupek, M.2
Babicky, V.3
Janda, V.4
Sunka, P.5
-
10
-
-
33847345251
-
-
Hao, X. L.; Zhou, M. H.; Lei, L. C.; J. Hazard. Mater. 2007, 141, 475.
-
(2007)
J. Hazard. Mater.
, vol.141
, pp. 475
-
-
Hao, X.L.1
Zhou, M.H.2
Lei, L.C.3
-
12
-
-
0035866495
-
-
Grymonpré, D. R.; Sharma, A. K.; Finney, W. C.; Locke. B. R.; Chem. Eng. J. 2001, 82, 189.
-
(2001)
Chem. Eng. J.
, vol.82
, pp. 189
-
-
Grymonpré, D.R.1
Sharma, A.K.2
Finney, W.C.3
Locke, B.R.4
-
13
-
-
36148981851
-
-
Lei, L.; Zhang, Y.; Zhang, X.; Shen, Y.; J. Electrostat. 2008, 66, 16.
-
(2008)
J. Electrostat.
, vol.66
, pp. 16
-
-
Lei, L.1
Zhang, Y.2
Zhang, X.3
Shen, Y.4
-
14
-
-
0142027111
-
-
Grymonpré, D. R.; Finney, W. C.; Clark, R. J.; Locke, B. R.; Ind. Eng. Chem. Res. 2003, 42, 5117.
-
(2003)
Ind. Eng. Chem. Res.
, vol.42
, pp. 5117
-
-
Grymonpré, D.R.1
Finney, W.C.2
Clark, R.J.3
Locke, B.R.4
-
15
-
-
33747601412
-
-
Park, J. Y.; Kostyuk, P. V.; Han, S. B.; Kim, J. S.; Vu, C. N.; Lee, H. W.; J. Phys. D: Appl. Phys. 2006, 39, 3805.
-
(2006)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.39
, pp. 3805
-
-
Park, J.Y.1
Kostyuk, P.V.2
Han, S.B.3
Kim, J.S.4
Vu, C.N.5
Lee, H.W.6
-
16
-
-
42549105382
-
-
Kostyuk, P. V.; Park, J. Y.; Han, S. B.; Park, H. S.; J. Phys. D: Appl. Phys. 2008, 41, 095202.
-
(2008)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.41
, pp. 095202
-
-
Kostyuk, P.V.1
Park, J.Y.2
Han, S.B.3
Park, H.S.4
-
17
-
-
79952481589
-
-
Burlica, R.; Shih, K. -Y.; Locke, B. R.; Ind. Eng. Chem. Res. 2010, 49, 6342.
-
(2010)
Ind. Eng. Chem. Res.
, vol.49
, pp. 6342
-
-
Burlica, R.1
Shih, K.-Y.2
Locke, B.R.3
-
18
-
-
67349179057
-
-
Chen, C. -W.; Lee, H. -M.; Chang, M. -B.; J. Electrostat. 2009, 67, 703.
-
(2009)
J. Electrostat.
, vol.67
, pp. 703
-
-
Chen, C.-W.1
Lee, H.-M.2
Chang, M.-B.3
-
19
-
-
15944396830
-
-
Nogueira, R. F. P.; Oliveira, M. C.; Paterlini, W. C.; Talanta 2005, 66, 86.
-
(2005)
Talanta
, vol.66
, pp. 86
-
-
Nogueira, R.F.P.1
Oliveira, M.C.2
Paterlini, W.C.3
-
20
-
-
33751089809
-
-
Oliveira, L. C. A.; Gonçalves, M.; Guerreiro, M. C.; Ramalho, T. C.; Fabris, J. D.; Pereira, M. C.; Sapag, K.; Appl. Catal., A 2007, 316, 117.
-
(2007)
Appl. Catal. A
, vol.316
, pp. 117
-
-
Oliveira, L.C.A.1
Gonçalves, M.2
Guerreiro, M.C.3
Ramalho, T.C.4
Fabris, J.D.5
Pereira, M.C.6
Sapag, K.7
-
21
-
-
34247190564
-
-
Mousa, D.; Doubla, A.; Kamgang-Youbi, G.; Brisset, J. L.; IEEE Trans. Plasma Sci. 2007, 35, 444.
-
(2007)
IEEE Trans. Plasma Sci.
, vol.35
, pp. 444
-
-
Mousa, D.1
Doubla, A.2
Kamgang-Youbi, G.3
Brisset, J.L.4
-
23
-
-
33947648967
-
-
Ohyama, R.; Inoue, K.; Chang, J. S.; J. Phys. D: Appl. Phys. 2007, 40, 573.
-
(2007)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.40
, pp. 573
-
-
Ohyama, R.1
Inoue, K.2
Chang, J.S.3
-
27
-
-
43049141482
-
-
Du, C. M.; Shi, T. H.; Sun, Y. W.; Zhuang, X. F.; J. Hazard. Mater. 2008, 154, 1192.
-
(2008)
J. Hazard. Mater.
, vol.154
, pp. 1192
-
-
Du, C.M.1
Shi, T.H.2
Sun, Y.W.3
Zhuang, X.F.4
-
30
-
-
0032520468
-
-
Naskar, S.; Pillay. S. A.; Chanda, M.; J. Photochem. Photobiol., A 1998, 113, 257.
-
(1998)
J. Photochem. Photobiol. A
, vol.113
, pp. 257
-
-
Naskar, S.1
Pillay, S.A.2
Chanda, M.3
-
31
-
-
0032956293
-
-
Lee, B. -N.; Liaw, W. -D.; Lou, J. -C.; Environ. Eng. Sci. 1999, 16, 165.
-
(1999)
Environ. Eng. Sci.
, vol.16
, pp. 165
-
-
Lee, B.-N.1
Liaw, W.-D.2
Lou, J.-C.3
-
32
-
-
5444236479
-
-
Ling, C. M.; Mohamed, A. R.; Bhatia, S.; Chemosphere 2004, 57, 547.
-
(2004)
Chemosphere
, vol.57
, pp. 547
-
-
Ling, C.M.1
Mohamed, A.R.2
Bhatia, S.3
|