Wet-chemically prepared NiO layers as hole transport layer in the inverted organic solar cell

Bulletin of the Korean Chemical Society

Volumn 32, Issue 3, 2011, Pages 1067-1070

  Lim, Dong Chan ^a   Kim, Young Tae ^a   Shim, Won Hyun ^a,b   Jang, A Young ^a   Lim, Jae Hong ^a   Do Kim, Yang ^b   Jeong, Yongsoo ^b   Kim, Young Dok ^c   Lee, Kyu Hwan ^a  

^a Korea Institute of the Materials Science   (South Korea)

^b Pusan National University   (South Korea)

^c Sungkyunkwan University   (South Korea)

Author keywords

Annealing; Inverted organic solar cells; NiO; Solvent; Surface roughness

Indexed keywords

EID: 79953241895     PISSN: 02532964     EISSN: 12295949     Source Type: Journal    
DOI: 10.5012/bkcs.2011.32.3.1067     Document Type: Article

References (27)

1. Tang, C. W. Appl. Phys. Lett. 1986, 48, 183.
2. Xue, J.; Uchida, S.; Rand, B. P.; Forrest, S. R. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3013.
3. Reyes-Reyes, M.; Kim, K.; Carroll, D. L. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 083506.
4. Chu, C.-W.; Shao, Y.; Shrotriya, V.; Yang, Y. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 243506.
5. Yu, G.; Gao, J.; Hummelen, J. C.; Wudl, F.; Heeger, A. J. Science 1995, 270, 1789.
6. Spanggaard, H.; Krebs, F. C. Sol. Ener. Mater. Sol. Cells 2004, 83, 125.
7. Thompson, B.; Fréchet, J. Angew. Chem. Int. Ed. 2008, 47, 58.
8. Kim, J.; Kim, S.; Lee, H. H.; Lee, K.; Ma, W.; Gong, X.; Heeger, A. Adv. Mater. 2006, 18, 572.
9. Kim, J. Y.; Lee, K.; Coates, N. E.; Moses, D.; Nguyen, T.-Q.; Dante, M.; Heeger, A. J. Science 2007, 317, 222.
10. Irwin, M. D.; Buchholz, D. B.; Hains, A. W.; Chang, R. P. H.; Marks, T. J. Proc. Nat. Ac. Sci. 2008, 105, 2783.
11. Olson, D. C.; Shaheen, S. E.; Collins, R. T.; Ginley, D. S. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 16670.
12. Olson, D. C.; Piris, J.; Collins, R. T.; Shaheen, S. E.; Ginley, D. S. Thin Solid Films 2006, 496, 26.
13. Ravirajan, P.; Peircj, A. M.; Nazeeruddin, M. K.; Graetzel, M.; Bradley, D. D. C.; Durrant, J. R.; Nelson, J. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 7635.
14. Savenije, T. J.; Warman, J. M.; Goossens, A. Chem. Phys. Lett. 1998, 287, 148.
15. Arango, A. C.; Johnson, L. R.; Bliznyuk, V. N.; Schlesinger, Z.; Carter, S. A.; Hörhold, H. H. Adv. Mater. 2000, 12, 1689.
16. Breeze, A. J.; Schlesinger, Z.; Carter, S. A.; Brock, P. J. Phys. Rev. B 2001, 64, 125205.
17. Fan, Q.; McQuillin, B.; Bradley, D. D. C.; Whitelegg, S.; Seddon, A. B. Chem. Phys. Lett. 2001, 347, 325.
18. Liu, J.; Tanaka, T.; Sivula, K.; Alivisatos, A. P.; Frechet, J. M. J. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 6550.
19. Shizuo, T.; Noda, K.; Taga, Y. J. Phys. D: Appl. Phys. 1996, 29, 2750.
20. You, H.; Dai, Y.; Zhang, Z.; Ma, D. J. Appl. Phys. 2007, 101, 026105.
21. Li, G.; Chu, C. W.; Shrotriya, V.; Huang, J.; Yang, Y. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 253503.
22. Tao, C.; Ruan, S.; Zhang, X.; Xie, G.; Shen, L.; Kong, X.; Dong, W.; Liu, C.; Chen, W. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 193307.
23. Kyaw, A. K. K.; Sun, X. W.; Jiang, C. Y.; Lo, G. Q.; Zhao, D. W.; Kwong, D. L. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 221107.
24. Zhao, D. W.; Liu, P.; Sun, X. W.; Tan, S. T.; Ke, L.; Kyaw, A. K. K. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 153304.
25. Liao, H.-H.; Chen, L.-M.; Xu, Z.; Li, G.; Yang, Y. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 173303.
26. Takanezawa, K.; Tajima, K.; Hashimoto, K. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 063308.
27. Bang-Ying, Y.; Tasi, A.; Shu-Ping, T.; Ken-Tsung, W.; Yang, Y.; Chih-Wei, C.; Jing-Jong, S. Nanotechnol. 2008, 19, 255202.