Structures and energetics of neutral and ionic silicon-germanium clusters: Density functional theory and coupled cluster studies

Journal of Physical Chemistry A

Volumn 115, Issue 9, 2011, Pages 1472-1485

  Wang, Yi Siang ^a   Chao, Sheng D ^a  

^a NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANIONIC CLUSTERS; BASIS SETS; BINARY CLUSTERS; BOND STRENGTH; CATIONIC CLUSTER; CCSD; COUPLED CLUSTERS; COUPLED-CLUSTER STUDY; DFT-B3LYP; ENERGETIC PROPERTIES; ENERGETIC STABILITY; GROUND-STATE STRUCTURES; HOMO-LUMO GAPS; IONIC CLUSTERS; LOWEST OCCUPIED MOLECULAR ORBITALS; MIXING ENERGIES; PAIR INTERACTIONS; SILICON ATOMS; SILICON GERMANIUM; VERTICAL ELECTRON AFFINITIES;

CHEMICAL BONDS; CRYSTAL ATOMIC STRUCTURE; DENSITY FUNCTIONAL THEORY; DYES; ELECTRON AFFINITY; GERMANIUM; GROUND STATE; ISOMERS; MOLECULAR ORBITALS; NUMERICAL METHODS; SEMICONDUCTING SILICON; SEMICONDUCTING SILICON COMPOUNDS; STOICHIOMETRY;

IONIZATION POTENTIAL;

EID: 79952259121     PISSN: 10895639     EISSN: 15205215     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp108707d     Document Type: Article

References (31)

1. De Salvador, D.; Petrovich, M.; Berti, M.; Romanato, F.; Napolitani, E.; Drigo, A.; Stangl, J.; Zerlauth, S.; Muhlberger, M.; Schafffler, F.; Bauer, G.; Kelires, P. C. Phys. Rev. B 2000, 61, 13005
2. Gazicki, M.; Szymanowski, H.; Tyczkowski, J.; Malinovsky, L.; Schalko, J.; Fallmann, W. Thin Solid Films 1995, 256, 31
3. Yoo, S. H.; Zeng, X. C. Angew. Chem., Int. Ed. 2005, 44, 1491
4. Zhang, Q. L.; Liu, Y.; Curl, R. F.; Tittel, F. K.; Smalley, R. E. J. Chem. Phys. 1988, 88, 1670
5. Jan, A.; Nino, R.; Dennis, R. S. J. Chem. Phys. 1987, 87, 6562
6. Li, S.; Van Zee, R. J.; Weltner, W. Chem. Phys. Lett. 1994, 229, 531
7. Schmude, R. W.; Gingerich, K. A.; Kingcade, J. E. J. Phys. Chem. 1995, 99, 15294
8. Shim, I.; Baba, M.; Gingerich, K. A. J. Phys. Chem. A 1998, 102, 10763
9. Takahashi, M.; Kawazoe, Y. Chem. Phys. Lett. 2006, 418, 475
10. Li, S. D.; Zhao, Z. G.; Zhao, X. F.; Wu, H. S.; Jin, Z. H. Phys. Rev. 2001, 64, 195312
11. Edet, F. A.; Alain, S. A. J. Chem. Phys. 1998, 109, 962
12. Li, B. X.; Cao, P. L.; Song, B.; Ye, Z. Z. Phys. Lett. A 2003, 307, 318
13. Raghavachari, K. J. Chem. Phys. 1986, 84, 5672
14. Ogut, S.; Chelikowsky, J. R. Phys. Rev. B 1997, 55, 4914
15. Bing, D.; Nguyen, Q. C.; Fan, X. F.; Kuo, J. L. J. Phys. Chem. A 2008, 112, 2235
16. Bai, J.; Cui, L. F.; Wang, J. L.; Yoo, S. H.; Li, X.; Jellinek, J.; Koehler, C.; Frauenheim, T.; Wang, L. S.; Zeng, X. C. J. Phys. Chem. A 2006, 110, 908
17. Shim, I.; Baba, M. S.; Gingerich, K. A. Chem. Phys. 2002, 277, 9
18. Ho, K. M.; Shvartsburg, A. A.; Pan, B.; Lu, Z. Y.; Wang, C. Z.; Wacker, J. G.; Fye, J. L.; Jarrold, M. F. Nature 1998, 392, 582
19. Sandeep, N.; Chiranjib, M.; Kulshreshtha, S. K. J. Chem. Phys. 2006, 125, 074303
20. Shvartsburg, A. A.; Liu, B.; Lu, Z. Y.; Wang, C. Z.; Jarrold, M. F.; Ho, K. M. Phys. Rev. Lett. 1999, 83, 2167
21. Yoo, S.; Zeng, X. C.; Zhu, X. L.; Bai, J. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 13318
22. Zhao, J.; Wang, J.; Jellinek, J.; Yoo, S.; Zeng, X. C. Eur. Phys. J. D 2005, 34, 35
23. Kamins, T. I.; Carr, E. C.; Williams, R. S.; Rosner, S. J. J. Appl. Phys. 1997, 81, 1
24. Wielgus, P.; Roszak, S.; Majumdar, D.; Saloni, J.; Leszczynski, J. J. Chem. Phys. 2008, 128, 144305
25. Drowart, J.; D.Maria, G.; Boerboom, A. J. H.; Inghram, M. G. J. Chem. Phys. 1959, 30, 308
26. Yu, E. T.; Croke, E. T.; McGill, T. C.; Miles, R. H. Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 569
27. Jarrold, M. F.; Constant, V. A. Phys. Rev. Lett. 1991, 67, 2994
28. Frisch, M. J.; Trucks, G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G. E.; Robb, M. A.; Cheeseman, J. R.; Montgomery, Jr., V. A.; Vreven, T.; Kudin, K. N.; Burant, J. C.; Millam, J. M.; Iyengar, S. S.; Tomasi, J.; Barone, V.; Mennucci, B.; Cossi, M.; Scalmani, G.; Rega, N.; Petersson, G. A.; Nakatsuji, H.; Hada, M.; Ehara, M.; Toyota, K.; Fukuda, R.; Hasegawa, J.; Ishida, M.; Nakajima, T.; Honda, Y.; Kitao, O.; Nakai, H.; Klene, M.; Li, X.; Knox, J. E.; Hratchian, H. P.; Cross, J. B.; Bakken, V.; Adamo, C.; Jaramillo, J.; Gomperts, R.; Stratmann, R. E.; Yazyev, O.; Austin, A. J.; Cammi, R.; Pomelli, C.; Ochterski, J. W.; Ayala, P. Y.; Morokuma, K.; Voth, G. A.; Salvador, P.; Dannenberg, J. J.; Zakrzewski, V. G.; Dapprich, S.; Daniels, A. D.; Strain, M. C.; Farkas, O.; Malick, D. K.; Rabuck, A. D.; Raghavachari, K.; Foresman, J. B.; Ortiz, J. V.; Cui, Q.; Baboul, A. G.; Clifford, S.; Cioslowski, J.; Stefanov, B. B.; Liu, G.; Liashenko, A.; Piskorz, P.; Komaromi, I.; Martin, R. L.; Fox, D. J.; Keith, T.; Al-Laham, M. A.; Peng, C. Y.; Nanayakkara, A.; Challacombe, M.; Gill, P. M. W.; Johnson, B.; Chen, W.; Wong, M. W.; Gonzalez, C.; Pople, J. A. Gaussian 03; Gaussian, Inc.: Wallingford, CT, 2004.
29. Archibong, E. F.; At-Amant, A. J. Chem. Phys. 1998, 109, 962
30. Negishi, Y.; Kawamata, H.; Hayase, T.; Gomei, M.; Kishi, R.; Hayakawa, F.; Nakajima, A.; Kaya, K. Chem. Phys. Lett. 1997, 269, 199 (1997).
31. Arnold, C. C.; Neumark, D. M. J. Chem. Phys. 1993, 99, 5