The Origin and Dynamics of Soft X-Ray-Excited Optical Luminescence of ZnO

ChemPhysChem

Volumn 11, Issue 17, 2010, Pages 3625-3631

  Armelao, Lidia ^a,b   Heigl, Franziskus ^b   Brunet, Sophie ^c   Sammynaiken, Ramaswami ^c   Regier, Tom ^d   Blyth, Robert I R ^d   Zuin, Lucia ^d   Sankari, Rami ^d   Vogt, Johannes ^d   Sham, Tsun Kong ^b  

^a UNIVERSITY OF PADOVA   (Italy)

^b UNIVERSITY OF WESTERN ONTARIO   (Canada)

^c UNIVERSITY OF SASKATCHEWAN   (Canada)

^d CANADIAN LIGHT SOURCE INC   (Canada)

Author keywords

Luminescence; Nanostructures; Optical emission; X ray excited optical luminescence; Zinc oxide

Indexed keywords

CRYSTALLINITY; DYNAMICS; ELECTRONIC DENSITY OF STATES; ENERGY GAP; EXCITATION ENERGY; II-VI SEMICONDUCTORS; LIGHT; LIGHT SOURCES; LUMINESCENCE; MORPHOLOGY; NANONEEDLES; NANOSTRUCTURES; SURFACE DEFECTS; SYNCHROTRON RADIATION; ZINC OXIDE;

BAND-GAP EMISSION; CHEMICAL INFORMATION; DEPOSITION TECHNIQUE; MICRO CRYSTALLITE; OPTICAL EMISSIONS; SYNCHROTRON LIGHT SOURCE; VISIBLE LUMINESCENCE; X-RAY EXCITED OPTICAL LUMINESCENCE;

X RAYS;

EID: 78649661620     PISSN: 14394235     EISSN: 14397641     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cphc.201000730     Document Type: Article

References (42)

1. H. M. Xiong, D. G. Shchukin, H. Möhwald, Y. Xu, Y. Y. Xia, Angew. Chem. 2009, 121, 2765-2769
2. Angew. Chem. Int. Ed. 2009, 48, 2727-2731.
3. A. B. Djurišić, A. M. C. Ng, X. Y. Chen, Prog. Quantum Electron. 2010, 34, 191-259;
4. L. Armelao, M. Fabrizio, S. Gialanella, F. Zordan, Thin Solid Films 2001, 394, 90-96;
5. L. Armelao, G. Bottaro, M. Pascolini, M. Sessolo, E. Tondello, M. Bettinelli A. Speghini, J. Phys. Chem. C 2008, 112, 4049-4054.
6. Ü. Özgür, Ya. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Doǧan, V. Avrutin, S.-J. Cho, H. Morkoç, J. Appl. Phys. 2005, 98, 041301;
7. S. Dutta, S. Chattopadhyay, A. Sarkar, M Chakrabarti, D. Sanyal, D. Jana, Prog. Mater. Sci. 2009, 54, 89-136.
8. A. Janotti, C. G. Van de Walle, Rep. Prog. Phys. 2009, 72, 126501.
9. L. Schmidt-Mende, J. L. MacManus-Driscoll, Materials Today 2007, 10, 40-48.
10. D. Li, Y. H. Leung, A. B. Djurisic, Z. T. Liu, M. H. Xie, S. L. Shi, S. J. Xu, W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 1601-1603.
11. K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 403-405.
12. A. van Dijken, E. A. Meulenkamp, D. Vanmeakelbergh, A. Meijerink, J. Phys. Chem. B 2000, 104, 1715-1723.
13. M. D. McCluskey, S. J. Jokela, J. Appl. Phys. 2009, 106, 071101.
14. C. R. A. Catlow, S. A. French, A. A. Sokol, A. A. Al-Sunaidi, S. M. Woodley, J. Comput. Chem. 2008, 29, 2234-2249;
15. F. De Angelis, L. Armelao, Phys. Chem. Chem. Phys., DOI:.
16. A. van Dijken, E. A. Meulenkamp D. Vanmeaklebergh, A. Meijerink, J. Lumin. 2000, 90, 123-128.
17. P. K. Sharma, A. C. Pandey, G. Zolnierkiewicz, N. Guskos, C. Rudowicz, J. Appl. Phys. 2009, 106, 094314.
18. A. Janotti, C. G. Van de Walle, Phys. Rev. B 2007, 76, 165202.
19. M. L. Kahn, T. Cardinal, B. Bousquet, M. Monge, V. Jubera, B. Chaudret, ChemPhysChem 2006, 7, 2392-2397.
20. H. M. Xiong, D. P. Xie, X. Y. Guan, Y. J. Tan, Y. Y. Xia, J. Mater. Chem. 2007, 17, 2490-2496.
21. A. Rogalev, J. Goulon in Chemical Applications of Synchrotron Radiation Part II (Ed. T. K. Sham), World Scientific, Singapore, 2002.
22. Z. R. R. Tian, J. A. Voigt, J. Liu, B. Mckenzie, M. J. Mcdermott, M. A. Rodriguez, H. Konishi, H. Xu, Nat. Mater. 2003, 2, 821-826.
23. C. Burda, X. Chen, R. Narayanan, M. A. El-Sayed, Chem. Rev. 2005, 105, 1025-1102.
24. A. M. Smith, S. M. Nie, Acc. Chem. Res. 2010, 43, 190-200.
25. G. A. Ozin, A. C. Arsenault, Nanochemistry: A Chemical Approach to Nanomaterials, Royal Society of Chemistry, Cambridge, 2005.
26. T. K. Sham, D. T. Jiang, I. Coulthard, J. W. Lorimer, X. H. Feng, K. H. Tan, S. P. Frigo, R. A. Rosenberg, D. C. Houghton, B. Bryskiewicz, Nature 1993, 363, 331-334.
27. T. K. Sham, R. A. Rosenberg, ChemPhysChem 2007, 8, 2557-2567.
28. T. K. Sham, Int. J. Nanotechnol. 2008, 5, 1194-1246.
29. R. A. Rosenberg, G. K. Shenoy, M. F. Chisholm, L. C. Tien, D. Norton, S. Pearton, Nano Lett. 2007, 7, 1521-1525.
30. Y. Y. Tay, T. T. Tan, F. Boey, M. H. Liang, J. Ye, Y. Zhao, T. Norby, S. Li, Phys. Chem. Chem. Phys. 2010, 12, 2373-2379.
31. A. van Dijken, E. A. Meulenkamp, D. Vanmeaklebergh, A. Meijerink, J. Lumin. 2000, 87-89, 454-456.
32. K. Vanheusden, W. L. Warren, C. H. Seager, D. R. Tallant, J. A. Voigt, B. E. Gnade, J. Appl. Phys. 1996, 79, 7983-7990.
33. A. B. Djurišic, Y. H. Leung, Small 2006, 2, 944-961.
34. X. H. Sun, S. Lam, T. K. Sham, F. Heigl, A. Jürgensen, N. B. Wong, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 3120-3125.
35. C. Bauer, G. Boschloo, E. Mukhtar, A. Hagfeld, Chem. Phys. Lett. 2004, 387, 176-181.
36. X. F. Wang, F. L. Zhao, P. B. Xie, S. D. Liang, N. S. Xu, Opt. Commun. 2007, 276, 186-190.
37. L. Armelao, F. Heigl, A. Jürgensen, R. I. R. Blyth, T. Regier, X. T. Zhou, T. K. Sham, J. Phys. Chem. C 2007, 111, 10194-10200.
38. Center for X-Ray Optics
39. D. Briggs, M. P. Seah, Practical Surface Analysis Vol. 1, Wiley, Chichester, 1990.
40. S. Emura, T. Moriga, J. Takizawa, M. Nomura, K. R. Bauchspiess, T. Murata, K. Harada, H. Maeda, Phys. Rev. B 1993, 47, 6918-6930.
41. P. S. Kim, T. K. Sham, P. Zhang, M. K. Fung, S. T. Lee, Y. F. Hu, B. W. Yates, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 8870-8871.
42. F. Heigl, A. Jürgensen, X. T. Zhou, S. Lam, M. Murphy, J. Y. P. Ko, T. K. Sham, R. A. Rosenberg, R. Gordon, D. Brewe, T. Regier, L. Armelao, AIP Conf. Proc. 2007, 879, 1202-1205.