Vibrational spectroscopy of SiO on Si(111)

Physica Status Solidi (B) Basic Research

Volumn 247, Issue 9, 2010, Pages 2179-2184

  Klevenz, Markus ^a   Wetzel, Steffen ^a   Trieloff, Mario ^a   Gail, Hans Peter ^a   Pucci, Annemarie ^a  

^a UNIVERSITY OF HEIDELBERG   (Germany)

Author keywords

Infrared spectroscopy; Lattice properties; Silicon monoxide

Indexed keywords

EID: 77956589147     PISSN: 03701972     EISSN: 15213951     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssb.200945550     Document Type: Article

References (43)

1. H. P. Gail and E. Sedlmayr, Astron. Astrophys. 347, 594 (1999).
2. H. P. Gail and E. Sedlmayr, Astron. Astrophys. 166, 225 (1986).
3. H. P. Gail, Astron. Astrophys. 413, 571 (2004).
4. J. Martin-Pintado, R. Bachiller, and A. Fuente, Astron. Astrophys. 254, 315 (1992).
5. L. A. Nesbit, Appl. Phys. Lett. 46, 38 (1985).
6. A. Hohl, T. Wieder, P. A. van Aken, T. E. Weirich, G. Denninger, M. Vidal, S. Oswald, C. Deneke, J. Mayer, and H. Fuess, J. Non-Cryst. Solids 320, 255 (2003).
7. B. Friede and M. Jansen, J. Non-Cryst. Solids 204, 202 (1996).
8. H. Philipp, J. Phys. Chem. Solids 32, 1935 (1971).
9. V. Y. Bratus,' V. A. Yukhimchuk, L. I. Berezhinsky, M. Y. Valakh, I. P. Vorona, I. Z. Indutnyi, T. T. Petrenko, P. E. Shepeliavyi, and I. B. Yanchuk, Semiconductors 35, 821 (2001).
10. E. Kotomin, A. Shluger, M. Causá, R. Dovesi, and F. Ricca, Surf. Sci. 232, 399 (1990).
11. M. L. Violanda and H. Rudolph, Surf. Sci. 603, 901 (2009).
12. M. Tazawa, H. Kakiuchida, G. Xu, P. Jin, and H. Arwin, J. Electroceram. 16, 511 (2006).
13. G. Hollinger, Y. Jugnet, and T. M. Duc, Solid State Commun. 22, 277 (1977).
14. A. Hjortsberg and C. G. Granqvist, Appl. Opt. 19, 1694 (1980).
15. G. Hass and C. D. Salzberg, J. Opt. Soc. Am. 44, 181 (1954).
16. H. Ono, T. Ikarashi, K. Ando, and T. Kitano, J. Appl. Phys. 84, 6064 (1998).
17. G. Lucovsky, S. Y. Lin, P. D. Richard, S. S. Chao, Y. Takagi, P. Pai, J. E. Keemm, and J. E. Tyler, J. Non-Cryst. Solids 75, 429 (1985).
18. P. G. Pai, S. S. Chao, Y. Takagi, and G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. A 4, 689 (1986).
19. A. L. Shabalov and M. S. Feldman, Thin Solid Films 151, 317 (1987).
20. Y. J. Chabal (ed.), Fundamental Aspects of Silicon Oxidation (Springer, Berlin, 2001).
21. P. Grosse, B. Harbecke, B. Heinz, R. Meyer, and M. Offenberg, Appl. Phys. A 39, 257 (1986).
22. M. Klevenz, F. Neubrech, R. Lovrinĉić, M. Jalochowski, and A. Pucci, Appl. Phys. Lett. 92, 133116 (2008).
23. Y. N. Yang and E. D. Williams, Phys. Rev. Lett. 72, 1862 (1994).
24. H. L. Schick, Chem. Rev. 60, 331 (1960).
25. A. Cachard, J. A. Roger, J. Pivot, and C. H. S. Dupuy, Phys. Status Solidi A 5, 637 (1971).
26. Y. J. Chabal, K. Raghavachari, X. Zhang, and E. Garfunkel, Phys. Rev. B 66, 161315 (2002).
27. K. T. Queeney, N. Herbots, J. M. Shaw, V. Atluri, and Y. J. Chabal, Appl. Phys. Lett. 84, 493 (2004).
28. A. Lehmann, L. Schumann, and K. Hübner, Phys. Status Solidi B 117, 689 (1983).
29. A. Lehmann, L. Schumann, and K. Hübner, Phys. Status Solidi B 121, 505 (1984).
30. M. Klevenz, S. Wetzel, M. Möller, and A. Pucci, Appl. Spectrosc. 64, 298 (2010).
31. F. J. Lovas, A. G. Maki, and W. B. Olson, J. Mol. Spectrosc. 87, 449 (1981).
32. R. Withnall and L. Andrews, J. Phys. Chem. 89, 3261 (1985).
33. D. W. Berreman, Phys. Rev. 130, 2193 (1963).
34. A. Lehmann, Phys. Status Solidi B 148, 401 (1988).
35. R. Brendel and D. Bormann, J. Appl. Phys. 71, 1 (1992).
36. R. L. Mozzi and B. E. Warren, J. Appl. Crystallogr. 2, 164 (1969).
37. R. Fuchs and K. L. Kliewer, Phys. Rev. 140, 2076 (1965).
38. F. Giustino and A. Pasquarello, Phys. Rev. Lett. 95, 187402 (2005).
39. P. Lambin, P. Senet, and A. A. Lucas, Phys. Rev. B 44, 6416 (1991).
40. P. Senet, P. Lambin, and A. A. Lucas, Phys. Rev. Lett. 74, 570 (1995).
41. B. N. J. Persson and R. Ryberg, Phys. Rev. B 24, 6954 (1981).
42. F. M. Hoffmann, Surf. Sci. Rep. 3, 107 (1983).
43. E. Martinez and F. Ynduráin, Phys. Rev. B 24, 5718 (1981).