Tailoring the luminescence emission of ZnO nanostructures by hydrothermal post-treatment in water

Applied Physics Letters

Volumn 96, Issue 22, 2010, Pages

  Yao, Baodian ^a   Feng, Lin ^a   Cheng, Chun ^a   Loy, Michael M T ^a   Wang, Ning ^a  

^a HONG KONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AS-GROWN; ELECTRON PARAMAGNETIC RESONANCE; GREEN EMISSIONS; LUMINESCENCE EMISSION; NEAR BAND EDGE; POST TREATMENT; PURE WATER; RADIATIVE RECOMBINATION; SOLUTION METHODS; UV EMISSIONS; ZNO; ZNO NANOROD; ZNO NANOSTRUCTURES;

NANORODS; OPTICAL PROPERTIES; PARAMAGNETIC RESONANCE; POINT DEFECTS; ZINC OXIDE;

WATER TREATMENT;

EID: 77953549186     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.3443636     Document Type: Article

References (45)

1. S. Liang, H. Sheng, Y. Liu, Z. Huo, Y. Lu, and H. Shen, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 225, 110 (2001). 10.1016/S0022-0248(01)00830-2 (Pubitemid 32496059)
2. C. Soci, A. Zhang, B. Xiang, S. A. Dayeh, D. P. R. Aplin, J. Park, X. Y. Bao, Y. H. Lo, and D. Wang, Nano Lett. NALEFD 1530-6984 7, 1003 (2007). 10.1021/nl070111x (Pubitemid 46717749)
3. H. Cao, Y. G. Zhao, H. C. Ong, S. T. Ho, J. Y. Dai, J. Y. Wu, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 73, 3656 (1998). 10.1063/1.122853 (Pubitemid 128677490)
4. M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Q. Yan, Y. Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. D. Yang, Science SCIEAS 0036-8075 292, 1897 (2001). 10.1126/science.1060367 (Pubitemid 32538361)
5. J. C. Johnson, H. Q. Yan, P. D. Yang, and R. J. Saykally, J. Phys. Chem. B JPCBFK 1089-5647 107, 8816 (2003). 10.1021/jp034482n
6. Z. R. Qiu, K. S. Wong, M. M. Wu, W. J. Lin, and H. F. Xu, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 84, 2739 (2004). 10.1063/1.1697633
7. J. Q. Xu, Q. Y. Pan, Y. A. Shun, and Z. Z. Tian, Sens. Actuators B SABCEB 0925-4005 66, 277 (2000). 10.1016/S0925-4005(00)00381-6
8. Q. Wan, Q. H. Li, Y. J. Chen, T. H. Wang, X. L. He, J. P. Li, and C. L. Lin, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 84, 3654 (2004). 10.1063/1.1738932
9. A. B. Djurišić and Y. H. Leung, Small SMALBC 1613-6810 2, 944 (2006). 10.1002/smll.200600134
10. G. C. Yi, C. R. Wang, and W. I. Park, Semicond. Sci. Technol. SSTEET 0268-1242 20, S22 (2005). 10.1088/0268-1242/20/4/003 (Pubitemid 40496723)
11. L. Feng, C. Cheng, B. D. Yao, N. Wang, and M. M. T. Loy, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 95, 053113 (2009). 10.1063/1.3200232
12. L. Schmidt-Mende and J. L. MacManus-Driscoll, Mater. Today MTOUAN 1369-7021 10, 40 (2007). 10.1016/S1369-7021(07)70078-0 (Pubitemid 46661278)
13. U. Ozgur, Ya. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Dogan, V. Avrutin, S. -J. Cho, and H. Morkoc, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 98, 041301 (2005). 10.1063/1.1992666 (Pubitemid 41348664)
14. S. Dutta, S. Chattopadhyay, A. Sarkar, M. Chakrabarti, D. Sanyal, and D. Jana, Prog. Mater. Sci. PRMSAQ 0079-6425 54, 89 (2009). 10.1016/j.pmatsci.2008. 07.002
15. D. C. Look, B. Claflin, Y. I. Alivov, and S. J. Park, Phys. Status Solidi A PSSABA 0031-8965 201, 2203 (2004). 10.1002/pssa.200404803
16. D. C. Look, J. Electron. Mater. JECMA5 0361-5235 35, 1299 (2006). 10.1007/s11664-006-0258-y
17. A. Janotti and C. G. Van de Walle, Phys. Rev. B PRBMDO 0163-1829 76, 165202 (2007). 10.1103/PhysRevB.76.165202
18. C. S. Lao, M. C. Park, Q. Kuang, Y. L. Deng, A. K. Sood, D. L. Polla, and Z. L. Wang, J. Am. Chem. Soc. JACSAT 0002-7863 129, 12096 (2007). 10.1021/ja075249w (Pubitemid 47556837)
19. J. Fallert, R. Hauschild, F. Stelzl, A. Urban, M. Wissinger, H. J. Zhou, C. Klingshirn, and H. Kalt, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 101, 073506 (2007). 10.1063/1.2718290 (Pubitemid 46610090)
20. R. Viswanatha, S. Sapra, B. Satpati, P. V. Satyam, B. N. Dev, and D. D. Sarma, J. Mater. Chem. JMACEP 0959-9428 14, 661 (2004). 10.1039/b310404d
21. I. Shalish, H. Temkin, and V. Narayanamurti, Phys. Rev. B PRBMDO 0163-1829 69, 245401 (2004). 10.1103/PhysRevB.69.245401
22. K. F. Lin, H. M. Cheng, H. C. Hsu, L. J. Lin, and W. F. Hsieh, Chem. Phys. Lett. CHPLBC 0009-2614 409, 208 (2005). 10.1016/j.cplett.2005.05.027 (Pubitemid 40819794)
23. L. Vayssieres, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) ADVMEW 0935-9648 15, 464 (2003). 10.1002/adma.200390108
24. K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 68, 403 (1996). 10.1063/1.116699 (Pubitemid 126683741)
25. F. H. Leiter, H. R. Alves, A. Hofstaetter, D. M. Hofmann, and B. K. Meyer, Phys. Status Solidi B PSSBBD 0370-1972 226, R4 (2001). 10.1002/1521-3951(200107)226:13.0.CO;2-F
26. T. M. Børseth, B. G. Svensson, A. Y. Kuznetsov, P. Klason, Q. X. Zhao, and M. Willander, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 89, 262112 (2006). 10.1063/1.2424641 (Pubitemid 46058025)
27. B. X. Lin, Z. X. Fu, and Y. B. Jia, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 79, 943 (2001). 10.1063/1.1394173
28. A. B. Djurišić, Y. H. Leung, K. H. Tam, Y. F. Hsu, L. Ding, W. K. Ge, Y. C. Zhong, K. S. Wong, W. K. Chan, H. L. Tam, K. W. Cheah, W. M. Kwok, and D. L. Phillips, Nanotechnology NNOTER 0957-4484 18, 095702 (2007). 10.1088/0957-4484/18/9/095702 (Pubitemid 46472282)
29. F. Tuomisto, V. Ranki, K. Saarinen, and D. C. Look, Phys. Rev. Lett. PRLTAO 0031-9007 91, 205502 (2003). 10.1103/PhysRevLett.91.205502
30. M. Liu, A. H. Kitai, and P. Mascher, J. Lumin. JLUMA8 0022-2313 54, 35 (1992). 10.1016/0022-2313(92)90047-D
31. N. Y. Garces, L. Wang, L. Bai, N. C. Giles, L. E. Halliburton, and G. Cantwell, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 81, 622 (2002). 10.1063/1.1494125 (Pubitemid 34923971)
32. W. M. Kwok, A. B. Djurisic, Y. H. Leung, D. Li, K. H. Tam, D. L. Phillips, and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 89, 183112 (2006). 10.1063/1.2378560 (Pubitemid 44705745)
33. L. H. Quang, S. J. Chua, K. P. Loh, and E. Fitzgerald, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 287, 157 (2006). 10.1016/j.jcrysgro.2005.10.060 (Pubitemid 43038840)
34. M. Gao, W. L. Li, Y. Liu, Q. Li, Q. Chen, and L. M. Peng, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 92, 113112 (2008). 10.1063/1.2898168 (Pubitemid 351422889)
35. X. D. Wang, C. J. Summers, and Z. L. Wang, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) ADVMEW 0935-9648 16, 1215 (2004). 10.1002/adma.200306505
36. C. K. Xu, J. Chun, K. Rho, and D. E. Kim, Nanotechnology NNOTER 0957-4484 16, 2808 (2005). 10.1088/0957-4484/16/12/012 (Pubitemid 41677033)
37. X. L. Xu, P. Wang, Z. M. Qi, H. Ming, J. Xu, H. T. Liu, C. S. Shi, G. Lu, and W. K. Ge, J. Phys.: Condens. Matter JCOMEL 0953-8984 15, L607 (2003). 10.1088/0953-8984/15/40/L01
38. J. M. Yuk, J. Y. Lee, J. H. Jung, D. U. Lee, T. W. Kim, D. I. Son, and W. K. Choi, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 103, 083520 (2008). 10.1063/1.2902477 (Pubitemid 351623542)
39. J. P. Cheng, X. B. Zhang, X. Y. Tao, H. M. Lu, Z. Q. Luo, and F. Liu, J. Phys. Chem. B JPCBFK 1089-5647 110, 10348 (2006). 10.1021/jp060133s (Pubitemid 43952925)
40. H. J. Egelhaaf and D. Oelkrug, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 161, 190 (1996). 10.1016/0022-0248(95)00634-6
41. Z. Fang, K. B. Tang, G. Z. Shen, D. Chen, R. Kong, and S. J. Lei, Mater. Lett. MLETDJ 0167-577X 60, 2530 (2006). 10.1016/j.matlet.2006.01.034
42. P. H. Kasai, Phys. Rev. PRVAAH 0096-8250 130, 989 (1963). 10.1103/PhysRev.130.989
43. K. Vanheusden, W. L. Warren, C. H. Seager, D. R. Tallant, J. A. Voigt, and B. E. Gnade, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 79, 7983 (1996). 10.1063/1.362349
44. A. A. Vostrikov, O. N. Fedyaeva, A. V. Shishkin, and M. Y. Sokol, J. Supercrit. Fluids JSFLEH 0896-8446 48, 161 (2009). 10.1016/j.supflu.2008.11.003
45. S. Ohara, T. Mousavand, T. Sasaki, M. Umetsu, T. Naka, and T. Adschiri, J. Mater. Sci. JMTSAS 0022-2461 43, 2393 (2008). 10.1007/s10853-007-1823-3