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Volumn 44, Issue 9, 2001, Pages 808-814

Thin Film Formation by using New Facing Targets Sputtering Apparatus

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EID: 77952724773     PISSN: 05598516     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3131/jvsj.44.808     Document Type: Article
Times cited : (3)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.