Femtosecond pulsed laser deposition of nanostructured CdS films

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 114, Issue 11, 2010, Pages 4864-4868

  Sanz, Mikel ^a   De Nalda, Rebeca ^a   Marco, Jose F ^a   Izquierdo, Jesus G ^b   Bañares, Luis ^b   Castillejo, Marta ^a  

^a INSTITUTO DE QUÍMICA FÍSICA ROCASOLANO   (Spain)

^b UNIVERSIDAD COMPLUTENSE DE MADRID   (Spain)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AVERAGE DIAMETER; CDS; CDS FILMS; CRYSTALLINITIES; ENVIRONMENTAL SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; FEMTOSECOND PULSED-LASER DEPOSITION; LASER FLUENCES; LASER IRRADIATIONS; LASER WAVELENGTH; NANO-STRUCTURED; NARROW SIZE DISTRIBUTIONS; ROOM TEMPERATURE; SUBSTRATE TEMPERATURE;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; ATOMIC SPECTROSCOPY; CADMIUM COMPOUNDS; CADMIUM SULFIDE; DEPOSITS; PULSED LASER DEPOSITION; PULSED LASERS; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SINTERING; SUBSTRATES; X RAY DIFFRACTION;

X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

EID: 77949793005     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp9112766     Document Type: Article

References (29)

1. Chichkov, B. N.; Momma, C.; Nolte, S.; von Alvensleben, F.; Tünnermann, A. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1996, 63, 109.
2. Perrière, J.; Millon, E.; Chamarro, M.; Morcrette, M.; Andreazza, C. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 2949.
3. Lewis, L. J.; Perez, D. Appl. Surf. Sci. 2009, 255, 5101.
4. Eliezer, S.; Eliaz, N.; Grossman, E.; Fisher, D.; Gouzman, I.; Henis, Z.; Pecker, S.; Horovitz, Y.; Fraenkel, M.; Maman, S.; Lereah, Y. Phys. ReV. B 2004, 69, 144119.
5. Amoruso, S.; Ausanio, G.; Bruzzese, R.; Vitiello, M.; Wang, X. Phys. ReV. B 2005, 71, 033406.
6. Zhang, Y.; Russo, R. E.; Mao, S. S. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 133115.
7. Perrière, J.; Boulmer-Leborgne, C.; Benzerga, R.; Tricot, S. J. Phys. D: Appl. Phys. 2007, 40, 7069.
8. Okoshi, M.; Higashikawa, K.; Hanabusa, M. Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 1287.
9. Amoruso, S.; Bruzzese, R.; Spinelli, N.; Velotta, R.; Vitiello, M.; Wang, X.; Ausanio, G.; Iannotti, V.; Lanotte, L. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 4502.
10. Amoruso, S.; Ausanio, G.; Barone, A. C.; Bruzzese, R.; Campana, C.; Wang, X. Appl. Surf. Sci. 2007, 254, 1012.
11. Sanz, M.; Walczak, M.; de Nalda, R.; Oujja, M.; Marco, J. F.; Rodríguez, J.; Izquierdo, J. G.; Bañares, L.; Castillejo, M. Appl. Surf. Sci. 2009, 255, 5206.
12. Hullavarad, N. V.; Hullavarad, S. S.; Karulkar, P. C. J. Nanosci. Nanotech. 2008, 8, 3272.
13. Keitoku, S.; Ezumi, H. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 1994, 35, 299.
14. Ullrich, B.; Sakai, H.; Segawa, Y. Thin Solid Films 2001, 385, 220.
15. Perna, G.; Capozzi, V.; Ambrico, M.; Augelli, V.; Lingonzo, T.; Minafra, A.; Schiavulli, L.; Pallara, M. Thin Solid Films 2004, 187, 453.
16. Mahdavi, S. M.; Iraji zad, A.; Tilaki, R. M. Opt. Mater. 2005, 27, 1583.
17. Vigil-Galán, O.; Vidal-Larramendi, J.; Escamilla-Esquivel, A.; Contreras-Puente1, G.; Cruz-Gandarilla, F.; Arriaga-Mejía, G.; Chavarría-Castañeda, M.; Tufiño-Velázquez, M. Phys. Status Solidi 2006, 203, 2018.
18. Acharya, K. P.; Skuza, J. R.; Lukaszew, R. A.; Liyanage, C.; Ullrich, B. J. Phys.: Condens. Matter 2007, 19, 196221.
19. El Deeb, A. F. Eur. Phys. J. Appl. Phys. 2007, 38, 252.
20. Tong, X. L.; Jiang, D. S.; Liu, L.; Liu, Z. M.; Luo, M. Z. Opt. Commun. 2007, 270, 356.
21. Tong, X. L.; Jiang, D. S.; Li, Y.; Liu, Z. M.; Luo, M. Z. Physica B 2006, 382, 105.
22. Tong, X. L.; Jiang, D. S.; Liu, Z. M.; Luo, M. Z.; Li, Y.; Lu, P. X.; Yang, G.; Long, H. Thin Solid Films 2008, 516, 2003.
23. Wagner, C. D.; Davis, L. E.; Zeller, M. V.; Taylor, J. A.; Raymond, R. M.; Gale, L. H. Surf. Interface Anal. 1981, 3, 211.
24. Baudach, S.; Bonse, J.; Kautek, W. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1999, 69, S395.
25. Jandeleit, J.; Urbasch, G.; Hoffmann, H.; Treusch, H. G.; Kreutz, E. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1996, 63, 117.
26. Marychurch, M.; Morris, G. C. Surf. Sci. 1985, 154, L251.
27. Gottesman, J.; Ferguson, W. F. C. J. Opt. Soc. Am. 1954, 44, 368.
28. Ninomiya, S.; Adachi, S. J. Appl. Phys. 1995, 78, 1183.
29. Thoma, M. L.; Weber, C.; Klingshirn, C. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1991, 52, 255.