Nanometer-scale lithography on Si(001) using adsorbed H as an atomic layer resist

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 14, Issue 3, 1996, Pages 1642-1649

  Adams, D P ^a   Mayer, T M ^a   Swartzentruber, B S ^a  

^a SANDIA NATIONAL LABORATORIES   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 5544242491     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.589204     Document Type: Article

References (40)

1. G. M. Shedd and P. M. Russell, Nanotechnology 1, 67 (1990).
2. Technology of Proximal Probe Lithography, edited by C. R. K. Marrian (SPIE, Bellingham, WA, 1993), Vol. IS10.
3. Ph. Avouris, Acc. Chem. Res. 28, 95 (1995).
4. M. A. McCord and R. F. W. Pease, Appl. Phys. Lett. 50, 569 (1987).
5. D. M. Eigler and E. Schweizer, Nature 344, 5224 (1990).
6. M. F. Crommie, C. P. Lutz, and D. M. Eigler, Science 262, 218 (1993).
7. R. S. Becker, J. A. Golovchenko, and B. S. Swartzentruber, Nature 325, 419 (1987).
8. J. Schneir, R. Sonnenfeld, O. Marti, P. K. Hansma, J. E. Demuth, and R. J. Hamers, J. Appl. Phys. 63, 717 (1988).
9. C. T. Sailing and M. G. Lagally, Science 265, 502 (1994).
10. R. M. Silver, E. E. Ehrichs, and A. L. de Lozanne, Appl. Phys. Lett. 51, 247 (1987); E. E. Ehrichs, S. Yoon, and A. L. de Lozanne, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 571 (1990).
11. R. M. Silver, E. E. Ehrichs, and A. L. de Lozanne, Appl. Phys. Lett. 51, 247 (1987); E. E. Ehrichs, S. Yoon, and A. L. de Lozanne, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 571 (1990).
12. M. A. McCord, D. P. Kern, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1877 (1988).
13. J. A. Dagata, J. Schneir, H. H. Harary, C. J. Evans, M. T. Postek, and J. Bennet, Appl. Phys. Lett. 56, 2001 (1990).
14. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura, and H. Matsuhara, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2884 (1994).
15. S. C. Minne, H. T. Soh, P. Flueckiger, and C. F. Quate, Appl. Phys. Lett. 66, 703 (1995).
16. P. M. Campbell, E. S, Snow, and P. J. McMarr, Appl. Phys. Lett. 66, 1388 (1995).
17. K. Matsumoto, M. Ishii, K. Segawa, Y. Oka, B. J. Vartanaian, and J. S. Harris, Appl. Phys. Lett. 68, 34 (1996).
18. T. Teuschler, K. Mahr, S. Miyazaki, M. Hundhausen, and L. Ley, Appl. Phys. Lett. 67, 3144 (1995).
19. M. A. McCord and R. F. W. Pease, J. Vac. Sci. Technol. B 4, 86 (1986).
20. C. R. K. Marrian, E. Dobisz, and J. A. Dagata, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2877 (1992).
21. L. Stockman, G. Neuttiens, C. van Haesendonck, and Y. Bruynsereade, Appl. Phys. Lett. 62, 2935 (1993).
22. C. R. K. Marrian, F. K. Perkins, S. L. Brandow, T. S. Koloski, E. A. Dobisz, and J. M. Calvert, Appl. Phys. Lett. 64, 390 (1994).
23. S. W. Park, H. T. Soh, C. F. Quate, and S. I. Park, Appl. Phys. Lett. 67, 2415 (1995).
24. R. S. Becker, G. S. Higashi, Y. J. Chabal, and A. J. Becker, Phys. Rev. Lett. 65, 1917 (1990).
25. J. W. Lyding, G. C. Abeln, T. C. Shen, C. Wang, and J. R. Tucker, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3735 (1994).
26. T. C. Shen, C. Wang, G. C. Abeln, J. R. Tucker, J. W. Lyding, Ph. Avouris, and R. E. Walkup, Science 268, 1590 (1995).
27. T. C. Shen, C. Wang, J. W. Lyding, and J. R. Tucker, Appl. Phys. Lett. 66, 976 (1995).
28. T. C. Shen, C. Wang, J. W. Lyding, and J. R. Tucker, presented at 42nd National Symposium of AVS, Minneapolis, 1995 (unpublished).
29. D. P. Adams, T. M. Mayer, and B. S. Swartzentruber, Appl. Phys. Lett. 68, 2210 (1996).
30. J. J. Boland, Surf. Sci. 261, 17 (1992).
31. Cross section values and beam widths presented here should actually be considered upper limits. The process of converting the STM images to line profiles of H-free Si sites overestimates the coverage of H-free Si sites. Bright areas in the STM image associated with H-free Si sites are enlarged by the limited resolution of the tip.
32. M. A. McCord and R. F. W. Pease, Surf. Sci. 181, 278 (1987).
33. J. W. Ward, M. W. Utlaut, and R. L. Kubena, J. Vac. Sci. Technol. B 5, 169 (1987); J. W. Ward, and R. L. Kubena, ibid. 8, 1923 (1990).
34. J. W. Ward, M. W. Utlaut, and R. L. Kubena, J. Vac. Sci. Technol. B 5, 169 (1987); J. W. Ward, and R. L. Kubena, ibid. 8, 1923 (1990).
35. R. Gomer, Field Emission and Field Ionization (Harvard University Press, Cambridge, 1961).
36. R. H. Fowler and L. W. Nordheim, Proc. R. Soc. London Ser. A 119, 173 (1928).
37. M. A. McCord and R. F. W. Pease, J. Vac. Sci. Technol. B 3, 198 (1985).
38. T. M. Mayer, D. P. Adams, and B. M. Marder, J. Vac. Sci. Technol. B (submitted).
39. H. B. Michaelson, J. Appl. Phys. 48, 4731 (1977).
40. D. P. Adams, L. L. Tedder, T. M. Mayer, B. S. Swartzentruber, and E. Chason, Phys. Rev. Lett. 74, 5088 (1995).