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Volumn 93, Issue 15, 2008, Pages

Uniformly dimerized C60 film prepared by deposition under in situ photoirradiation

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ANNEALING; DIFFRACTION; FRICTION; HOLOGRAPHIC INTERFEROMETRY; SILICON;

EID: 54149114395     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.3003866     Document Type: Article
Times cited : (7)

References (29)
  • 6
    • 0000549566 scopus 로고    scopus 로고
    • 0031-9007 10.1103/PhysRevLett.83.1986.
    • S. Okada, S. Saito, and A. Oshiyama, Phys. Rev. Lett. 0031-9007 10.1103/PhysRevLett.83.1986 83, 1986 (1999).
    • (1999) Phys. Rev. Lett. , vol.83 , pp. 1986
    • Okada, S.1    Saito, S.2    Oshiyama, A.3
  • 10
    • 0001535627 scopus 로고    scopus 로고
    • 0163-1829 10.1103/PhysRevB.55.R4918.
    • F. Yan, Y. N. Wang, and M. Gu, Phys. Rev. B 0163-1829 10.1103/PhysRevB.55.R4918 55, R4918 (1997).
    • (1997) Phys. Rev. B , vol.55 , pp. 4918
    • Yan, F.1    Wang, Y.N.2    Gu, M.3
  • 16
    • 0001593680 scopus 로고
    • 0163-1829 10.1103/PhysRevB.52.R11665.
    • S. Kazaoui, R. Ross, and N. Minami, Phys. Rev. B 0163-1829 10.1103/PhysRevB.52.R11665 52, R11665 (1995).
    • (1995) Phys. Rev. B , vol.52 , pp. 11665
    • Kazaoui, S.1    Ross, R.2    Minami, N.3


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.