Low-voltage organic transistors fabricated using reverse gravure coating on prepatterned substrates

Advanced Engineering Materials

Volumn 10, Issue 7, 2008, Pages 640-643

  Kaihovirta, Nikolai J ^a   Tobjörk, Daniel ^a   Mäkelä, Tapio ^b   Österbacka, Ronald ^a  

^a Center for Functional Materials

^b ÅBO AKADEMI UNIVERSITY   (Finland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMBIENT AIR; COATED LAYERS; GATE ELECTRODES; INSULATOR LAYERS; LOW VOLTAGES; MASS-PRODUCTION; ORGANIC ELECTRONIC DEVICES; ORGANIC TRANSISTORS; ROOM TEMPERATURES; SOURCE-DRAIN; SPIN COATINGS;

CLADDING (COATING); COATINGS; DROPS; ELECTROLYSIS; FLUID MECHANICS; METALLIZING; OPTICAL DESIGN; REFRACTORY METAL COMPOUNDS; SPIN DYNAMICS; SUBSTRATES; TRANSISTORS;

SPIN COATING;

EID: 49249103438     PISSN: 14381656     EISSN: 15272648     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adem.200800050     Document Type: Conference Paper

References (20)

1. Z. Bao, J. A. Rogers, H. E. Katz, J. Mater. Chem. 1999, 9, 1895.
2. S. R. Forrest, Nature 2004, 428, 911.
3. H. E. Katz, Chem. Mater. 2004, 16, 4748.
4. M. M. Ling, Z. Bao, Chem. Mater. 2004, 16, 4824.
5. M. Berggren, D. Nilsson, N. D. Robinson, Nat. Mater. 2007, 6, 3.
6. H. Sirringhaus, T. Kawase, R. H. Friend, T. Shimoda, M. Inbasekaran, W. Wu, E. P. Woo, Science 2000, 290, 2123.
7. F. Xue, Z. Liu, Y. Su, K. Varahramyan, Microelectron. Eng. 2005, 83, 298.
8. J. A. Lim, J. H. Cho, Y. D. Park, D. H. Kim, M. Hwang, K. Cho, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 082102.
9. S. Sanaur, A. Whalley, B. Alameddine, M. Carnes, C. Nuckolls, Org. Electron. 2006, 7, 423.
10. J. U. Park, M. Hardy, S. J. Kang, K. Barton, K. Adair, D. K. Mukhopadhyay, C. Y. Lee, M. S. Strano, A. G. Alleyne, J. G. Georgiadis, P. M. Ferreira, J. A. Rogers, Nat. Mater. 2007, 6, 782.
11. A. C. Arias, S. E. Ready, R. Lujan, W. S. Wong, K. E. Paul, A. Salleo, M. L. Chabinyc, R. Apte, R. A. Street, Y. Wu, P. Liu, B. Ong, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3304.
12. Y. Liu, K. Varahramyan, T. Cui, Macromol. Rapid Commun. 2005, 26, 1955.
13. S. H. Ko, H. Pan, C. P. Grigoropoulos, C. K. Luscombe, J. M. J. Fréchet, D. Poulikakos, Nanotech. 2007, 18, 345202.
14. R. W. Hewson, N. Kapur, P. H. Gaskell, Chem. Eng. Sci. 2006, 61, 5487.
15. D. R. Hines, V. W. Ballarotto, E. D. Williams, Y. Shao, S. A. Solin, J. Appl. Phys. 2007, 101, 024503.
16. A. C. Huebler, F. Doetz, H. Kempa, H. E. Katz, M. Bartzsch, N. Brandt, I. Hennig, U. Fuegmann, S. Vaidyanathan, J. Granstrom, S. Liu, A. Sydorenko, T. Zillger, G. Schmidt, K. Preissler, E. Reichmanis, P. Eckerle, F. Richter, T. Fischer, U. Hahn, Org. Electron. 2007, 8, 480.
17. H. G. O. Sandberg, T. G. Bäcklund, R. Österbacka, H. Stubb, Adv. Mater. 2004, 16, 1112.
18. T. G. Bäcklund, H. G. O. Sandberg, R. Österbacka, H. Stubb, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3887.
19. T. G. Bäcklund, R. Österbacka, H. Stubb, J. Bobacka, A. Ivaska, J. Appl. Phys. 2005, 98, 074504.
20. H. G. O. Sandberg, T. G. Bäcklund, R. Österbacka, S. Jussila, T. Mäkelä, H. Stubb, Synth. Met. 2005, 155, 662.