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Applied Surface Science

Volumn 254, Issue 15, 2008, Pages 4415-4420

Quantum size effect of electron density in ultra-thin metal films and its influence on the interlayer relaxation

(2) Ma, Fei a Xu, Kewei a

a XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY (China)

Author keywords

Electron density; Interlayer relaxation; Quantum size effect

Indexed keywords

CARRIER CONCENTRATION; CHARGE DENSITY; MEMS; MICROSTRUCTURE; RELAXATION PROCESSES; ULTRATHIN FILMS;

BOUNDARY EFFECTS; INTERLAYER RELAXATION; QUANTUM SIZE EFFECT;

QUANTUM THEORY;

EID: 42749093307 PISSN: 01694332 EISSN: None Source Type: Journal
DOI: 10.1016/j.apsusc.2007.11.065 Document Type: Article

Times cited : (5)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.