-
1
-
-
33847747046
-
-
IJDTAL 1551-319X 10.1109/JDT.2006.890700.
-
J. H. Lee, X. Zhu, and S. T. Wu, J. Disp. Technol. IJDTAL 1551-319X 10.1109/JDT.2006.890700 3, 2 (2007).
-
(2007)
J. Disp. Technol.
, vol.3
, pp. 2
-
-
Lee, J.H.1
Zhu, X.2
Wu, S.T.3
-
2
-
-
14944342662
-
-
PSISDG 0277-786X 10.1117/12.562088.
-
D. Gu, B. Winker, B. Wen, D. Taber, A. Brackley, A. Wirth, M. Albanese, and F. Landers, Proc. SPIE PSISDG 0277-786X 10.1117/12.562088 5553, 68 (2004).
-
(2004)
Proc. SPIE
, vol.5553
, pp. 68
-
-
Gu, D.1
Winker, B.2
Wen, B.3
Taber, D.4
Brackley, A.5
Wirth, A.6
Albanese, M.7
Landers, F.8
-
3
-
-
41049099002
-
-
Reflective Liquid Crystal Displays (Wiley, New York).
-
S. T. Wu and D. K. Yang, Reflective Liquid Crystal Displays (Wiley, New York, 2001).
-
(2001)
-
-
Wu, S.T.1
Yang, D.K.2
-
4
-
-
34548075864
-
-
IJDTAL 1551-319X 10.1109/JDT.2007.900909.
-
S. Gauza, X. Zhu, S. T. Wu, W. Piecek, and R. Dabrowski, J. Disp. Technol. IJDTAL 1551-319X 10.1109/JDT.2007.900909 3, 250 (2007).
-
(2007)
J. Disp. Technol.
, vol.3
, pp. 250
-
-
Gauza, S.1
Zhu, X.2
Wu, S.T.3
Piecek, W.4
Dabrowski, R.5
-
5
-
-
39349118043
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.2841642.
-
M. Jiao, Z. Ge, Q. Song, and S. T. Wu, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.2841642 92, 061102 (2008).
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 061102
-
-
Jiao, M.1
Ge, Z.2
Song, Q.3
Wu, S.T.4
-
6
-
-
0009966506
-
-
JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.343135.
-
S. T. Wu and C. S. Wu, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.343135 65, 527 (1989).
-
(1989)
J. Appl. Phys.
, vol.65
, pp. 527
-
-
Wu, S.T.1
Wu, C.S.2
-
7
-
-
0012550239
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.103533.
-
S. T. Wu, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.103533 57, 986 (1990).
-
(1990)
Appl. Phys. Lett.
, vol.57
, pp. 986
-
-
Wu, S.T.1
-
9
-
-
17944372766
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1887815.
-
Q. Hong, T. X. Wu, X. Zhu, R. Lu, and S. T. Wu, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1887815 86, 121107 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 121107
-
-
Hong, Q.1
Wu, T.X.2
Zhu, X.3
Lu, R.4
Wu, S.T.5
-
10
-
-
0016337043
-
-
JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1663263.
-
R. A. Soref, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1663263 45, 5466 (1974).
-
(1974)
J. Appl. Phys.
, vol.45
, pp. 5466
-
-
Soref, R.A.1
-
11
-
-
41049084291
-
-
U.S. Patent No. 7,298,445 B1 (20 November).
-
W. K. Choi and S. T. Wu, U.S. Patent No. 7,298,445 B1 (20 November 2007).
-
(2007)
-
-
Choi, W.K.1
Wu, S.T.2
-
12
-
-
0001035210
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.120153.
-
S. H. Lee, H. Y. Kim, I. C. Park, B. G. Rho, J. S. Park, H. S. Park, and C. H. Lee, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.120153 71, 2851 (1997).
-
(1997)
Appl. Phys. Lett.
, vol.71
, pp. 2851
-
-
Lee, S.H.1
Kim, H.Y.2
Park, I.C.3
Rho, B.G.4
Park, J.S.5
Park, H.S.6
Lee, C.H.7
-
13
-
-
0042228204
-
-
JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.373535.
-
S. H. Hong, Y. H. Jeong, H. Y. Kim, H. M. Cho, W. G. Lee, and S. H. Lee, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.373535 87, 8259 (2000).
-
(2000)
J. Appl. Phys.
, vol.87
, pp. 8259
-
-
Hong, S.H.1
Jeong, Y.H.2
Kim, H.Y.3
Cho, H.M.4
Lee, W.G.5
Lee, S.H.6
-
15
-
-
0036578057
-
-
JAPNDE 0021-4922 10.1143/JJAP.41.2944.
-
H. Y. Kim, G. R. Jeon, D. S. Seo, M. H. Lee, and S. H. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 0021-4922 10.1143/JJAP.41.2944 41, 2944 (2001).
-
(2001)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.41
, pp. 2944
-
-
Kim, H.Y.1
Jeon, G.R.2
Seo, D.S.3
Lee, M.H.4
Lee, S.H.5
-
16
-
-
0000290189
-
-
MCLCA5 0026-8941 10.1080/00268948408071693.
-
P. J. Bos and K. R. Beran, Mol. Cryst. Liq. Cryst. MCLCA5 0026-8941 10.1080/00268948408071693 113, 329 (1984).
-
(1984)
Mol. Cryst. Liq. Cryst.
, vol.113
, pp. 329
-
-
Bos, P.J.1
Beran, K.R.2
-
17
-
-
36549104800
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.103781.
-
A. Lien, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.103781 57, 2767 (1990).
-
(1990)
Appl. Phys. Lett.
, vol.57
, pp. 2767
-
-
Lien, A.1
-
18
-
-
30944455893
-
-
LICRE6 0267-8292 10.1080/02678290500446111.
-
H. Wang, T. X. Wu, S. Gauza, J. R. Wu, and S. T. Wu, Liq. Cryst. LICRE6 0267-8292 10.1080/02678290500446111 33, 91 (2006).
-
(2006)
Liq. Cryst.
, vol.33
, pp. 91
-
-
Wang, H.1
Wu, T.X.2
Gauza, S.3
Wu, J.R.4
Wu, S.T.5
-
19
-
-
0041379768
-
-
JAPNDE 0021-4922 10.1143/JJAP.42.3463.
-
S. Gauza, H. Wang, C. H. Wen, S. T. Wu, A. Seed, and R. Dabrowski, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 0021-4922 10.1143/JJAP.42.3463 42, 3463 (2003).
-
(2003)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.42
, pp. 3463
-
-
Gauza, S.1
Wang, H.2
Wen, C.H.3
Wu, S.T.4
Seed, A.5
Dabrowski, R.6
-
20
-
-
2942607822
-
-
JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1707210.
-
H. Wang, T. X. Wu, X. Zhu, and S. T. Wu, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1707210 95, 5502 (2004).
-
(2004)
J. Appl. Phys.
, vol.95
, pp. 5502
-
-
Wang, H.1
Wu, T.X.2
Zhu, X.3
Wu, S.T.4
-
21
-
-
33244482288
-
-
IJDTAL 1551-319X 10.1109/JDT.2005.863599.
-
X. Zhu, Z. Ge, and S. T. Wu, J. Disp. Technol. IJDTAL 1551-319X 10.1109/JDT.2005.863599 2, 2 (2006).
-
(2006)
J. Disp. Technol.
, vol.2
, pp. 2
-
-
Zhu, X.1
Ge, Z.2
Wu, S.T.3
|