Study of ZrN layers deposited by reactive magnetron sputtering

Surface and Coatings Technology

Volumn 174-175, Issue , 2003, Pages 240-245

  Del Re, M ^a   Gouttebaron, R ^a   Dauchot, J P ^a   Leclere P ^a   Terwagne, G ^b   Hecq, M ^a  

^a UNIVERSITY OF MONS   (Belgium)

^b UNIVERSITY OF NAMUR   (Belgium)

Author keywords

RBS; Reactive magnetron sputtering; XPS; ZrN

Indexed keywords

MAGNETIC FILMS; PARTIAL PRESSURE; SILICON WAFERS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; ZIRCONIUM COMPOUNDS;

BIAS VOLTAGE;

MAGNETRON SPUTTERING;

COATING; INDUSTRIAL APPLICATION; PLASMA; SURFACE PROPERTY;

EID: 4043065374     PISSN: 02578972     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0257-8972(03)00679-0     Document Type: Article

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